一种异形密封结构制造技术

本发明专利技术公开了一种异形密封结构，包括异形密封圈、压环、第一密封面和第二密封面，第一密封面上开有密封槽，异形密封圈由外侧密封环和内侧密封环连接而成，外侧密封环和内侧密封环截面外形均为圆拱形，异形密封圈置于密封槽中心位置，外侧密封环和内侧密封环连接处设置有尺寸不大于连接处宽度的压环，在压环上设置连接孔，连接件穿过连接孔，通过压环将异形密封圈固定在第一密封面的密封槽中，连接件顶部不高于压环。本发明专利技术通过两道密封结构，尤其在大口径发射机构中，解决了多处需要频繁、高速对接和打开的同轴结构部件间的耐高压、防脱的密封问题。该发明专利技术也可以用于其他对端面密封有防脱要求的场合。

【技术实现步骤摘要】
一种异形密封结构
本专利技术涉及一种异形密封结构，应用于大口径活塞发射机构中。
技术介绍
自由活塞激波风洞是一种用重活塞压缩气体获得高压驱动气体的激波风洞。该类风洞能够获得高焓、高速流场，可用于模拟返回器高速再入时的流动等。大型活塞发射机构是前述类型风洞的核心部件，用于快速、稳定的发射各种结构和质量的活塞。此种活塞发射机构中，为方便活塞的装入，和发射性能的快速、稳定，有多处同轴结构的部件需要频繁的对接和打开，故能承受高压且不脱落的密封结构是其正常运行的关键结构之一。由于发射机构中的多处同轴结构在对接时需要保证严格的同轴度要求，故两结构间需要设置配合精度较高、长度较长的导向止口结构。由于结构尺寸大，对接时施加的外力也很大，若在配合止口的周面上设置密封结构，则密封元件很容易磨损。维护成本较高且密封的可靠性不高。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题：针对现有技术的不足，提出一种异形密封结构，通过两道密封结构，尤其在大口径发射机构中，解决了多处需要频繁、高速对接和打开的同轴结构部件间的耐高压、防脱的密封问题。本专利技术的技术解决方案：一种异形密封结构，包括异形密封圈、压环、第一密封面和第二密封面，第一密封面上开有密封槽，异形密封圈由外侧密封环和内侧密封环连接而成，外侧密封环和内侧密封环截面外形均为圆拱形，异形密封圈置于密封槽中心位置，外侧密封环和内侧密封环连接处设置有尺寸不大于连接处宽度的压环，在压环上设置连接孔，连接件穿过连接孔，通过压环将异形密封圈固定在第一密封面的密封槽中，连接件顶部不高于压环。外侧密封环和内侧密封环高度一致。密封槽的槽深为异形密封圈高度的70％-80％。第一密封面和第二密封面密封时，异形密封圈全部容纳入密封槽中，压环阻隔异形密封圈高压被挤出，第一密封面和第二密封面密封间隙不超过1mm。第一密封面和第二密封面密封时，异形密封圈外周面与密封槽内壁面间间隙小于1mm。外侧密封环和内侧密封环截面的圆拱形上部为半圆结构，下部为矩形结构。异形密封圈为橡胶材料，压环为硬质材料。本专利技术的有益效果：(1)本专利技术通过两道密封结构，尤其在大口径发射机构中，解决了多处需要频繁、高速对接和打开的同轴结构部件间的耐高压、防脱的密封问题。该专利技术也可以用于其他对端面密封有防脱要求的场合；(2)本专利技术第一密封面和第二密封面密封时，异形密封圈全部容纳入密封槽中，压环阻隔异形密封圈高压被挤出，有效确保了密封的效果。附图说明图1是本专利技术的结构示意图；图2为本专利技术结构放大图；图3为本专利技术俯视图。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术做进一步详细的说明。一种异形密封结构，如图1、图2所示，包括异形密封圈1、压环2、第一密封面5和第二密封面6，第一密封面5上开有密封槽4，异形密封圈1由外侧密封环和内侧密封环连接而成，如图3所示，外侧密封环和内侧密封环截面外形均为圆拱形，圆拱形上部为半圆结构，下部为矩形结构，外侧密封环和内侧密封环高度一致，异形密封圈1置于密封槽4中心位置，密封槽4的槽深为异形密封圈1高度的70％-80％，外侧密封环和内侧密封环连接处设置有尺寸不大于连接处宽度的压环2，在压环2上设置连接孔，连接件穿过连接孔，通过压环2将异形密封圈1固定在第一密封面5的密封槽4中，连接件顶部不高于压环2。第一密封面5和第二密封面5密封时，异形密封圈1全部容纳入密封槽4中，压环2阻隔异形密封圈1高压被挤出，第一密封面5和第二密封面6密封间隙不超过1mm，异形密封圈1外周面与密封槽4内壁面间间隙小于1mm。异形密封圈1为橡胶材料，压环2为硬质材料。本专利技术的工作原理是：将矩形密封槽4设置在密封端面副的一侧端面上，当两端面压紧时，异形密封圈1被压入矩形密封槽4内，并基本填满密封槽。两端面间隙小于0.5mm。当密封结构内侧承受高压时，内侧密封环会贴紧压环2内侧面形成第一道密封，外侧密封环会紧贴矩形密封槽4外侧面形成第二道密封。当两端面迅速分开时，被连接件固定在矩形密封槽4内的压环2，会带着异形密封圈1随一侧端面移动，且形状和位置保持不变。当两端面再次压紧时，密封结构会重复上述过程，保证多次密封的可靠。本专利技术通过两道密封结构，尤其在大口径发射机构中，解决了多处需要频繁、高速对接和打开的同轴结构部件间的耐高压、防脱的密封问题。该专利技术也可以用于其他对端面密封有防脱要求的场合。本专利技术未公开内容为本领域技术人员公知常识。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种异形密封结构，其特征在于，包括异形密封圈(1)、压环(2)、第一密封面(5)和第二密封面(6)，第一密封面(5)上开有密封槽(4)，异形密封圈(1)由外侧密封环和内侧密封环连接而成，外侧密封环和内侧密封环截面外形均为圆拱形，异形密封圈(1)置于密封槽(4)中心位置，外侧密封环和内侧密封环连接处设置有尺寸不大于连接处宽度的压环(2)，在压环(2)上设置连接孔，连接件穿过连接孔，通过压环(2)将异形密封圈(1)固定在第一密封面(5)的密封槽(4)中，连接件顶部不高于压环(2)。

【技术特征摘要】
1.一种异形密封结构，其特征在于，包括异形密封圈(1)、压环(2)、第一密封面(5)和第二密封面(6)，第一密封面(5)上开有密封槽(4)，异形密封圈(1)由外侧密封环和内侧密封环连接而成，外侧密封环和内侧密封环截面外形均为圆拱形，异形密封圈(1)置于密封槽(4)中心位置，外侧密封环和内侧密封环连接处设置有尺寸不大于连接处宽度的压环(2)，在压环(2)上设置连接孔，连接件穿过连接孔，通过压环(2)将异形密封圈(1)固定在第一密封面(5)的密封槽(4)中，连接件顶部不高于压环(2)。2.如权利要求1所述的一种异形密封结构，其特征在于，外侧密封环和内侧密封环高度一致。3.如权利要求1所述的一种异形密封结构，其特征在于，密封槽(4)的槽深为异...

【专利技术属性】
技术研发人员：李辰，张冰冰，孙日明，毕志献，陈星，蒋博，马雁捷，朱浩，吴健，
申请(专利权)人：中国航天空气动力技术研究院，
类型：发明
国别省市：北京,11