一种高辐射率散热金属箔及其制备方法与应用技术

一种高辐射率散热金属箔，由金属箔基底和分别位于金属箔基底两面的碳纳米管阵列与胶粘剂组成，其制备方法是：将金属箔基底依次经过退火、冲洗、干燥之后，在其中一面沉积缓冲层、过渡层和催化剂层，经化学气相沉积直接在其表面生长一层碳纳米管阵列，随后在另外一面涂敷胶粘剂，经烘干，贴保护膜后即可获得该高辐射率散热金属箔。由于其中的碳纳米管直接牢固地生长在金属箔基底上，具有很低的接触热阻和优异的结构稳定性，可充分利用碳纳米管高热导率的优势，结合碳纳米管阵列结构超高的辐射率，可广泛用于各种散热贴膜，具有广阔的商业前景。

【技术实现步骤摘要】
一种高辐射率散热金属箔及其制备方法与应用
本专利技术涉及一种散热金属箔的制备方法与应用，特别涉及一种高辐射率散热金属箔及其制备方法与应用。
技术介绍
传统散热模式主要有热传导、对流和辐射散热，在很多需要高效散热的领域，由于受空间、尺寸及环境限制，无法采用加速强制对流的形式将热量交换出去，而仅通过热传导又不能满足需求的情况下，增强红外辐射散热是首选解决方案。目前大量使用的辐射散热技术是将红外辐射涂料涂敷于需要散热的部位，由于存在大量的粘结树脂，涂料自身的热导率一般并不高，如果进一步提高散热表面的辐射率，降低辐射材料与基底的热阻是当前需要重点解决的难点。具有规则取向的碳纳米管阵列是目前人类所认知材料中辐射率最高的材料，因此将其应用于辐射散热部件将能够显著提高散热和热交换能力。但由于碳纳米管阵列制备工艺的复杂，且阵列本身结构较脆弱，难以经受后续的各种加工，容易从基底脱落。因此将碳纳米管阵列应用于辐射散热的专利技术尚鲜有报道公开。为切实将碳纳米管阵列应用辐射散热，必须解决碳纳米管与基底牢固结合和低界面热阻的问题。为了获得规整的碳纳米管结构，需要避免在化学气相沉积过程中碳源分子向基底的扩散和溶本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高辐射率散热金属箔，其特征在于：由金属箔基底和分别位于金属箔基底两面的碳纳米管阵列与胶粘剂组成，其中，所述金属箔基底可以是铜、镍、钢铁、不锈钢、铝等的任意一种，厚度5‑200微米，所述碳纳米管阵列高度5‑200微米，碳纳米管直径1‑50纳米，所述胶粘剂层厚度1‑50微米，可以是不干胶、导热胶、压敏胶中的任意一种。

【技术特征摘要】
1.一种高辐射率散热金属箔，其特征在于：由金属箔基底和分别位于金属箔基底两面的碳纳米管阵列与胶粘剂组成，其中，所述金属箔基底可以是铜、镍、钢铁、不锈钢、铝等的任意一种，厚度5-200微米，所述碳纳米管阵列高度5-200微米，碳纳米管直径1-50纳米，所述胶粘剂层厚度1-50微米，可以是不干胶、导热胶、压敏胶中的任意一种。2.如权利要求1所述一种高辐射率散热金属箔的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（一）将金属箔基底在保护气氛下经200-700度退火10分钟-2小时，其中保护气氛可以是氮气、氩气、氦气、氢气中的任意一种及其任意组合；（二）在稀酸溶液下将退火之后的金属箔基底表层氧化物去除，用去离子水和无水乙醇冲洗金属箔基底表层后，再在常温下用氮气枪风干；（三）采用物理蒸镀工艺在清洗之后的金属箔基底其中一个表面依次沉积缓冲层、过渡层和催化剂层；（四）采用化学气相沉积技术在催化剂层表面生长一层碳纳米管阵列；（五）在金属箔基底另外一个表面涂敷胶粘剂，烘干之后在胶粘剂层表面贴覆保护膜即制得本发明的散热金属箔。3.如权利要求2所述一种高辐射率散热金属箔的制备方法，其特征在于：所述步骤（二）中稀酸溶液可以是盐酸、硫酸、硝酸、磷酸、醋酸中的任意一种，浓度为0.001M-0.1M。4.如权利要求2所述一种高辐射率散热金属箔的制备方法，其特征在于：所述步骤（三）中缓冲层可以是氮化钛、碳化钛或碳氮化钛中的任意一种，厚度为1纳米-50纳米。5.如权利要求2所述一种高辐射率散热金属箔...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈名海，
申请(专利权)人：江苏联科纳米科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32