一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，涉及显示技术领域，可在阵列基板设置于出光侧时，防止阵列基板上的金属图案对外界环境光进行反射。该阵列基板包括显示区和非显示区，显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。用于制备阵列基板。

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置。
技术介绍
目前，液晶显示装置(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)由于具有功耗小、微型化、轻薄等优点而得到越来越广泛的应用。液晶显示装置的结构包括液晶显示面板和背光源。如图1和图2所示，液晶显示面板包括阵列基板10、彩膜基板20、设置在阵列基板10和彩膜基板20之间的液晶层(图1和图2中未示意出液晶层)以及设置在阵列基板10上的第一偏光片101和设置在彩膜基板20上的第二偏光片201。其中，阵列基板10上设置有控制栅极的栅线(Gate线)和控制像素电极的数据线(Date线)，为了提升像素充电率、降低走线线宽和电阻，栅线和数据线一般采用高导电率的金属材料形成，例如铝(Al)或铜(Cu)。现有技术中，如图1所示，一般将彩膜基板20设置在出光侧，阵列基板10设置在入光侧。通过彩膜基板20上的黑矩阵(BlackMatrix，简称BM)图案便可以遮挡像素限定区，进而可以遮挡易发生反光的金属图案(例如栅线、栅极、数据线或源漏极)，从而提升产品画质及对比度。然而，如图1所示，由于边框30不仅需要包覆阵列基板10周边的布线区(Pad区)01，还需要与彩膜基板20上的第二偏光片201有一定的重叠区域，以保护COF(ChipOnFilm，覆晶薄膜)40及防止周边漏光。由于边框30覆盖的区域较大，从而导致了液晶显示装置的整体边框尺寸较大，无法实现窄边框设计。为了实现超窄边框或无边框，目前通常采用如图2所示，阵列基板10设置在出光侧、彩膜基板20设置在入光侧、COF40向内弯折的设计，这样便可以大大缩减边框30的尺寸，乃至实现无边框的设计。然而，如图2所示，若将阵列基板10设置在出光侧，由于阵列基板10上的金属图案50具有极高的反射率，因而在强光下易发生强的反射现象(如图2中箭头所示)，从而会引起产品品质和对比度的下降。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，可在阵列基板设置于出光侧时，防止阵列基板上的金属图案对外界环境光进行反射。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种阵列基板，包括显示区和非显示区，所述显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。优选的，所述挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过，所述挡光图案的材料为棒状量子点材料；其中，所述棒状量子点的长轴方向与所述挡光图案所允许透过的光的偏振方向相同。优选的，所述挡光图案用于遮挡可见光，所述挡光图案的材料为黑色树脂。优选的，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述金属图案的边界在所述挡光图案的边界以内。优选的，所述挡光图案形成在所述金属图案与所述衬底基板之间。可选的，所述挡光图案与所述像素限定区的形状和大小相同。可选的，所述金属图案包括位于不同层的第一金属图案和第二金属图案，所述挡光图案包括位于不同层的第一挡光图案和第二挡光图案；其中，所述第一挡光图案与所述第一金属图案通过一次构图工艺形成，所述第二挡光图案与所述第二金属图案通过一次构图工艺形成。第二方面，提供一种显示面板，包括阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板为上述的阵列基板；其中，若所述挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过，所述显示面板还包括设置在所述阵列基板上的偏光片，所述挡光图案所允许透过的光的偏振方向与所述偏光片的透光轴垂直。第三方面，提供一种显示装置，包括显示面板和背光源，所述显示面板为上述的显示面板；其中，所述显示面板中的彩膜基板相对于阵列基板靠近所述背光源。第四方面，提供一种阵列基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成挡光薄膜，并通过构图工艺在像素限定区形成挡光图案；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料；形成金属图案；沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域。第五方面，提供一种阵列基板的制备方法，包括:在衬底基板上依次形成第一挡光薄膜和第一金属薄膜，并对所述第一挡光薄膜和第一金属薄膜同时构图，以形成层叠的第一挡光图案和第一金属图案，所述第一金属图案为栅线、栅极；和/或，在衬底基板上依次形成第二挡光薄膜和第二金属薄膜，并对所述第二挡光薄膜和第二金属薄膜同时构图，以形成层叠的第二挡光图案和第二金属图案，所述第二金属图案为数据线、源漏极。本专利技术实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板、显示装置，在金属图案的外侧形成有挡光图案，且挡光图案的材料为非金属材料，若阵列基板设置于显示面板的出光侧时，由于挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过，因而当挡光图案用于遮光可见光时，此时挡光图案可以防止光照射到与挡光图案具有重叠区域的金属图案上，从而可以避免与挡光图案具有重叠区域的金属图案发生反射，进而能够避免降低产品的品质和对比度；当挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过时，在阵列基板上设置有偏光片的情况下，透过阵列基板上的偏光片的光为线偏振光，在此基础上，由于偏光片的透光轴与挡光图案所允许透过的光的偏振方向垂直，此时经过偏光片的线偏振光照射到挡光图案上时，便会被挡光图案阻挡，因而光便不能照射到与挡光图案具有重叠区域的金属图案上，从而可以避免与挡光图案具有重叠区域的金属图案产生反射现象，以避免降低产品的品质和对比度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术提供的一种液晶显示面板的结构示意图一；图2为现有技术提供的一种液晶显示面板的结构示意图二；图3为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图一；图4(a)为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图二；图4(b)为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图三；图5为本专利技术实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供一种阵列基板的制备方法的流程示意图；图7(a)为本专利技术实施例提供一种在阵列基板的像素限定区形成挡光图案的结构示意图一；图7(b)为本专利技术实施例提供一种在阵列基板的像素限定区形成挡光图案的结构示意图二；图8为图7(a)AA′向剖视示意图或图7(b)BB′向剖视示意图；图9为本专利技术实施例提供的一种在衬底基板上形成挡光图案和金属图案的结构示意图；图10为本专利技术实施例提供的一种在衬底基板上形成第一挡光薄膜和第一金属薄膜的结构示意图。附图标记：01-布线区；02-显示区；03-像素区；04-像素限定区；10-阵列基板；101-第一偏光片(偏光片)；20-彩膜基板；201-第二偏光片；30-边框；4本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，包括显示区和非显示区，所述显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，其特征在于，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括显示区和非显示区，所述显示区划分为像素区和限定所述像素区的像素限定区，所述阵列基板包括衬底基板以及形成在所述衬底基板上、且位于所述像素限定区的金属图案，其特征在于，所述阵列基板还包括形成在所述金属图案外侧、且仅位于所述像素限定区的挡光图案，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述挡光图案与所述金属图案具有重叠区域；其中，所述挡光图案用于遮挡可见光，或者，仅允许一个偏振方向的光透过；所述挡光图案的材料为非金属材料。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案仅允许一个偏振方向的光透过，所述挡光图案的材料为棒状量子点材料；其中，所述棒状量子点的长轴方向与所述挡光图案所允许透过的光的偏振方向相同。3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案用于遮挡可见光，所述挡光图案的材料为黑色树脂。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，沿垂直于所述衬底基板的方向，所述金属图案的边界在所述挡光图案的边界以内。5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案形成在所述金属图案与所述衬底基板之间。6.根据权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述挡光图案与所述像素限定区的形状和大小相同。7.根据权利要求1-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述金属图案包括位于不同层的第一金属图案和第二金属图案，所述挡光图案包括位于不同层的第一挡光图案和第二挡光图案...

【专利技术属性】
技术研发人员：江亮亮，干泉，郭磊，戴珂，尹傛俊，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥鑫晟光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11