一种超声波清洗装置及基板处理系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，涉及显示技术领域，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡；抽气单元，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。

Ultrasonic cleaning device and substrate processing system

The invention provides an ultrasonic cleaning device and substrate processing system, relates to the field of display technology, the ultrasonic cleaning device of substrate purge clean and high efficiency, and when the cleaning device applied to the substrate processing system, can significantly improve the substrate surface treatment device into the clean, avoid substrate surface after processing generates a large amount of residual impurities. The ultrasonic cleaning device comprises a blowing unit, for the surface to be cleaned to the jet stream; ultrasonic vibration generator, used to make the air ejected from the blowing unit in oscillation; pumping unit for collecting impurities from blowing the surface to sweep out the cleaning.

【技术实现步骤摘要】
一种超声波清洗装置及基板处理系统
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种超声波清洗装置及基板处理系统。
技术介绍
在显示产品的制造过程中需要对基板的表面进行清洗，以对基板进行进一步处理。由于基板表面不是绝对光滑的而是存在着许多非常微小的缝隙，杂质颗粒(Particle)等进入缝隙处后，利用现有的形成气刀的吹气装置对其进行吹扫难以将缝隙处中的杂质颗粒吹扫出来，从而导致后续对基板进行进一步处理时，在基板表面产生大量的杂质残留(Remain)，影响产品品质。
技术实现思路
鉴于此，为解决现有技术的问题，本专利技术的实施例提供一种超声波清洗装置及基板处理系统，该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高，并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时，可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度，避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：一方面、本专利技术实施例提供了一种超声波清洗装置，包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从所述吹气单元中喷出的所述气流发生振荡；抽气单元，用于收集从所述待清洗的物体表面吹扫出的杂质。可选的，所述吹气单元包括，压力腔和气体供应端；其中，所述压力腔上设置有进气口和喷嘴；所述气体供应端与所述进气口连通，用于向所述压力腔内提供气体；所述喷嘴用于向待清洗的物体表面喷出气流。可选的，所述抽气单元包括，吸附腔、连接管路和抽气组件；其中，所述抽气组件用于通过所述连接管路使所述吸附腔内产生负压；所述吸附腔上设置有吸入口，用于通过所述吸入口收集从所述待清洗的物体表面吹扫出的杂质。优选的，所述抽气组件包括，真空泵，用于使吸附腔内产生真空吸附效果。优选的，所述喷嘴包括，狭缝喷嘴；所述抽气单元中的所述吸附腔设置在沿所述狭缝喷嘴的长度方向的两侧中的至少一侧处。优选的，所述喷嘴包括，狭缝喷嘴；所述超声波振荡发生器设置在所述压力腔内，且位于所述狭缝喷嘴的长度方向的两侧中的至少一侧处。优选的，所述喷嘴的开口与所述吸入口的开口设置在同一平面内。另一方面、本专利技术实施例还提供了一种基板处理系统，包括，用于处理基板的处理装置；所述基板处理系统还包括，设置在待处理的基板进入所述处理装置入口处的上述任一项所述的超声波清洗装置，用于对所述待处理基板的待处理面进行清洗。可选的，所述处理装置包括，负载锁定腔室；所述超声波清洗装置设置在所述负载锁定腔室的门上；所述处理装置还包括，用于驱动所述负载锁定腔室的门开启和关闭的驱动气缸和向所述驱动气缸提供压缩气体的供气缸；所述驱动气缸包括，气缸排气口；所述气缸排气口、所述供气缸均与所述超声波清洗装置的吹气单元连通，用于向所述吹气单元提供气体。优选的，所述驱动气缸还包括，气缸本体、气缸进气口、连接杆和活塞；其中，所述气缸进气口与所述气缸排气口均设置在所述气缸本体上；所述活塞设置在所述气缸本体内；所述连接杆的一端设置在所述气缸本体内与所述活塞连接，另一端设置在所述气缸本体外与所述负载锁定腔室的门连接，用于驱动所述门开启和关闭；所述处理装置还包括，流量控制器；所述供气缸通过所述流量控制器与所述气缸进气口、所述吹气单元连通；所述基板处理系统还包括，连通所述气缸排气口与所述流量控制器的第一管路；所述第一管路上设置有过滤器；和/或，所述基板处理系统还包括，连通所述气缸排气口的废气处理单元。优选的，所述超声波清洗装置的气体供应端包括，连通大气的负压装置；所述负压装置向所述压力腔提供的气体为空气。优选的，所述基板处理系统还包括，监测传感器，用于监测所述负载锁定腔室的门开启和关闭；与所述监测传感器相连的控制器，用于接收所述门的开启或关闭的信号，使得在所述门开启时控制所述超声波清洗装置开始工作和在所述门关闭时控制所述超声波清洗装置停止工作。基于此，通过本专利技术实施例提供的上述超声波清洗装置，从吹气单元中形成像气刀(AirKnife)一样的气流薄片吹扫到待清洗的基板表面，然后利用抽气单元将颗粒状的杂质吸走，从而减少由于杂质残留而导致的基板处理不良。并且，由于该清洗装置是利用超声共振的气流对物体表面进行吹扫清洗的，不与待清洗的物体直接接触，避免产品产生其他不良。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的一种超声波清洗装置的结构示意图；图2为现有技术提供的干法刻蚀设备的基本构成示意图；图3为本专利技术实施例提供的一种基板处理系统的基本构成示意图一；图4为本专利技术实施例提供的一种基板处理系统中处理装置的基板构成示意图；图5为本专利技术实施例1提供的一种基板处理系统的气体循环利用示意图；图6为本专利技术实施例1提供的一种基板处理系统的基本构成示意图二。附图标记：01-基板处理系统；10-超声波清洗装置；11-吹气单元；110-压力腔；110a-进气口；110b-喷嘴；111-气体供应端；12-超声波振荡发生器；13-抽气单元；130-吸附腔；130a-吸入口；131-连接管路；132-抽气组件；20-处理装置；21-入口(门)；22-驱动气缸；220-气缸本体；221-气缸排气口；222-气缸进气口；223-连接杆；224-活塞；23-供气缸；24-流量控制器；25-第一管路；26-过滤器；27-废气处理单元；28-气体控制阀门；30-检测传感器；02-基板；03-杂质。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要指出的是，除非另有定义，本专利技术实施例中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本专利技术所属领域的普通技术人员共同理解的相同含义。还应当理解，诸如在通常字典里定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术的上下文中的含义相一致的含义，而不应用理想化或极度形式化的意义来解释，除非这里明确地这样定义。例如，本专利技术专利申请说明书以及权利要求书中所使用的术语“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“一侧”、“另一侧”等指示的方位或位置关系的术语为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于说明本专利技术的技术方案的简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。如图1所示，本专利技术实施例提供了一种超声波清洗装置10，该装置10包括，吹气单元11，用于向待清洗的物体(例如为基板02)表面喷出气流；超声波振荡发生器12，用于使从吹气单元11中喷出的气流发生振荡；抽气单元13，用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质03。需要说明的是，吹气单元11中喷出的气流与超声波振荡发生器(UltrasonicGenerator)12发出的超声波发生共振，使得喷本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超声波清洗装置，其特征在于，包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从所述吹气单元中喷出的所述气流发生振荡；抽气单元，用于收集从所述待清洗的物体表面吹扫出的杂质。

【技术特征摘要】
1.一种超声波清洗装置，其特征在于，包括，吹气单元，用于向待清洗的物体表面喷出气流；超声波振荡发生器，用于使从所述吹气单元中喷出的所述气流发生振荡；抽气单元，用于收集从所述待清洗的物体表面吹扫出的杂质。2.根据权利要求1所述的超声波清洗装置，其特征在于，所述吹气单元包括，压力腔和气体供应端；其中，所述压力腔上设置有进气口和喷嘴；所述气体供应端与所述进气口连通，用于向所述压力腔内提供气体；所述喷嘴用于向待清洗的物体表面喷出气流。3.根据权利要求1或2所述的超声波清洗装置，其特征在于，所述抽气单元包括，吸附腔、连接管路和抽气组件；其中，所述抽气组件用于通过所述连接管路使所述吸附腔内产生负压；所述吸附腔上设置有吸入口，用于通过所述吸入口收集从所述待清洗的物体表面吹扫出的杂质。4.根据权利要求3所述的超声波清洗装置，其特征在于，所述抽气组件包括，真空泵，用于使吸附腔内产生真空吸附效果。5.根据权利要求2所述的超声波清洗装置，其特征在于，所述喷嘴包括，狭缝喷嘴；所述抽气单元中的所述吸附腔设置在沿所述狭缝喷嘴的长度方向的两侧中的至少一侧处。6.根据权利要求2所述的超声波清洗装置，其特征在于，所述喷嘴包括，狭缝喷嘴；所述超声波振荡发生器设置在所述压力腔内，且位于所述狭缝喷嘴的长度方向的两侧中的至少一侧处。7.根据权利要求3所述的超声波清洗装置，其特征在于，所述喷嘴的开口与所述吸入口的开口设置在同一平面内。8.一种基板处理系统，包括，用于处理基板的处理装置；其特征在于，所述基板处理系统还包括，设置在待处理的基板进入所述处理装置入口处的如权利要求1至7任一项所述的超声波清洗装置，用于对所述待处理基板...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭淳，刘建辉，孟盼盼，冯忠，李鹏，许道先，周庆高，钟亮，董康旭，刘祖宏，侯智，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，合肥京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11