基板清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种基板清洗装置，在进行双流体清洗时，可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板的表面。基板清洗装置(18)具备：保持基板(W)的基板保持机构(1)；使保持于基板保持机构(1)的基板(W)旋转的基板旋转机构(2)；使双流体喷流朝向基板(W)的表面喷出的双流体喷嘴(46)；配置于基板的周围的护盖；及使护盖旋转的护盖旋转机构。护盖旋转机构使护盖在与基板在相同的旋转方向上旋转。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板清洗装置
本专利技术涉及一种使用双流体喷流来清洗基板表面的基板清洗装置。
技术介绍
作为以往以非接触方式清洗基板表面的清洗方法，已知一种使用双流体喷流(2FJ)的清洗方法。该清洗方法使微小液滴(喷雾)随高速气体从双流体喷嘴朝向基板表面喷出而撞击，利用该液滴向基板表面撞击所产生的撞击波来除去(清洗)基板表面的微粒子等(例如参照专利文献1)。然而，双流体清洗使双流体喷流撞击基板的表面来除去基板表面的微小粒子时，基板表面的液滴因旋转的基板的离心力、双流体清洗的侧喷流而飞溅到周围。飞溅的液滴附着于清洗模块的外壁时，可能造成清洗模块内的污染、再次附着于基板上。因此，以往的装置为了抑制液滴的飞溅，在旋转的基板的周围设置护盖，以护盖阻挡朝向外壁飞溅的液滴，并从护盖下部排出装置外部，防止对基板再次附着，以抑制瑕疵(Defect)。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2005-294819号公报专利技术所要解决的课题但是，在以往的装置中，设置于基板的周围的护盖被固定。双流体清洗时，从双流体喷嘴喷出的液滴的速度(流速)是高速，且侧喷流的速度(液滴的径向的飞溅速度)也是高速(参照图7)。例如，在一般的双流体清洗时，从双流体喷嘴喷出的液滴速度Vo是250～350m/秒，侧喷流的速度Vf(液滴的径向的飞溅速度)是300～400m/秒。再者，高速双流体清洗或超高速双流体清洗时，从双流体喷嘴喷出的液滴速度Vo是350～400m/秒，侧喷流的速度Vf(液滴的径向的飞溅速度)是700～1200m/秒。如此，双流体清洗时，侧喷流的速度(液滴的径向的飞溅速度)非常高，撞击到护盖的液滴可能弹回而再次附着于基板表面。特别是高速双流体清洗或超高速双流体清洗时，更有可能再次附着于基板表面。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的为提供一种进行双流体清洗时，可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板表面的基板清洗装置。用于解决课题的手段本专利技术的基板清洗装置具备：基板保持机构，该基板保持机构对基板进行保持；基板旋转机构，该基板旋转机构使保持于基板保持机构的基板旋转；双流体喷嘴，该双流体喷嘴使双流体喷流朝向基板的表面喷出；护盖，该护盖配置于基板的周围；以及护盖旋转机构，该护盖旋转机构使护盖旋转，护盖旋转机构使护盖在与基板相同的旋转方向上旋转。采用该结构，在进行双流体清洗时，即使基板的表面的液滴因基板旋转产生的离心力、双流体清洗所产生的侧喷流而飞溅撞击到护盖，由于护盖与基板在同一旋转方向上旋转，因此，与护盖不旋转时相比，可使液滴的撞击速度降低。由此，可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板表面。另外，本专利技术的基板清洗装置具备：基板保持机构，该基板保持机构对基板进行保持；基板旋转机构，该基板旋转机构使保持于基板保持机构的基板旋转；摆动清洗机构，该摆动清洗机构摆动并清洗基板的表面；护盖，该护盖配置于基板的周围；以及护盖旋转机构，该护盖旋转机构使护盖旋转，护盖旋转机构使护盖在与基板相同的旋转方向上旋转。采用该结构，在进行摆动清洗时，即使供给的大流量的冲洗水因基板旋转所产生的离心力而从基板的表面成为液滴飞溅而撞击到护盖，由于护盖在与基板相同的旋转方向上旋转，因此与护盖不旋转时相比，可使液滴的撞击速度降低。由此，可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板的表面。另外，本专利技术的基板清洗装置具备：基板保持机构，该基板保持机构对基板进行保持；基板旋转机构，该基板旋转机构使保持于基板保持机构的基板旋转；超声波清洗机构，该超声波清洗机构使用超声波清洗基板表面；护盖，该护盖配置于基板的周围；以及护盖旋转机构，该护盖旋转机构使护盖旋转，护盖旋转机构使护盖在与基板相同的旋转方向上旋转。采用该结构，在进行超声波清洗时，即使供给的大流量冲洗水因基板旋转而产生的离心力而从基板表面成为液滴飞溅而撞击到护盖，由于护盖在与基板相同的旋转方向上旋转，因此与护盖不旋转时相比，可使液滴的撞击速度降低。由此，可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板表面。另外，在本专利技术的基板清洗装置中，护盖旋转机构也可以使护盖与基板以相同的角速度旋转。采用该结构时，由于护盖与基板以相同的角速度旋转，因此与护盖与基板以不同的角速度旋转时(例如护盖不旋转时)相比，可使液滴的撞击速度降低。另外，在本专利技术的基板清洗装置中，也可以是，将基板的外端与护盖的顶端的径向的距离A设定在2mm～80mm的范围，将基板与护盖的顶端的高度方向的距离B设定在3mm～50mm的范围，将基板的外端与护盖的内周面的径向的距离C设定在2mm～80mm的范围。采用该结构时，相对于基板，将护盖配置于适当的位置，所以可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板表面。另外，在本专利技术的基板清洗装置中，也可以是，将基板的外端与护盖的顶端的径向的距离A设定为2mm，将基板与护盖的顶端的高度方向的距离B设定为15mm，将基板的外端与护盖的内周面的径向的距离C设定为19mm。采用该结构时，相对于基板，将护盖配置于最佳位置，所以可抑制液滴从护盖弹回，防止液滴再次附着于基板表面。另外，在本专利技术的基板清洗装置中，双流体喷嘴以规定角度倾斜地设置，以便朝向基板的旋转方向的上游侧喷出双流体喷流。采用该结构时，由于从双流体喷嘴朝向基板的旋转方向的上游侧(阻碍基板的旋转)喷出双流体喷流，因此双流体喷流相对于旋转的基板的相对速度上升，可使清洗性能提高。另外，本专利技术的基板清洗装置也可具备：壳体，该壳体收容基板清洗装置；一对气体流入口，该一对气体流入口设于壳体的壁面，使气体流入壳体内；以及气体排出口，该气体排出口设于壳体的下部，排出壳体内的气体，一对气体流入口设于壳体的相对的壁面，且配置于比基板高的位置。采用该结构时，气体从设于壳体的相对的壁面的一对气体流入口流入壳体内。由于一对气体流入口配置于比基板高的位置，因此，从一对气体流入口流入的气体在壳体内的中央部在基板的上方相遇形成下降气流，而从壳体的下部的气体排出口排出。此时，壳体内的液滴、喷雾也随下降气流而从壳体的下部的气体排出口排出。由此，可抑制液滴、喷雾在壳体内蔓延，并可抑制因液滴、喷雾再次附着而造成的瑕疵(Defect)。另外，在本专利技术的基板清洗装置中，也可以是，在基板清洗装置的上游侧及下游侧分别邻接设有基板搬送区，气体流入口将从基板搬送区的送风单元吹送的气体导入壳体内。采用该结构时，可利用邻接于基板清洗装置的基板搬送区的送风单元，抑制液滴、喷雾在壳体内蔓延。另外，在本专利技术的基板清洗装置中，也可以是，气体流入口与气体供给管线连接，该气体供给管线用于对壳体内供给气体。采用该结构时，可通过从气体供给管线供给的气体抑制液滴、喷雾在壳体内蔓延。因此，例如，即使无法利用邻接于基板清洗装置的基板搬送区的送风单元时，仍可抑制液滴、喷雾在壳体内蔓延。另外，在本专利技术的基板清洗装置中，双流体喷嘴也可以由导电性构件构成。采用该结构时，由于双流体喷嘴的顶端部由导电性构件构成，因此可抑制从双流体喷嘴喷出的液滴的带电量。由此，可抑制基板表面因双流体清洗而产生的带电量，可抑制因带电的微粒子附着于基板而造成的瑕疵(Defect)。另外，本专利技术的基板清洗装置也可具备药液供给喷嘴，该药液供给喷嘴对基板供给具有导电性的药液。采用该结构时，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板清洗装置，其特征在于，具备：基板保持机构，该基板保持机构对基板进行保持；基板旋转机构，该基板旋转机构使保持于所述基板保持机构的所述基板旋转；双流体喷嘴，该双流体喷嘴使双流体喷流朝向所述基板的表面喷出；护盖，该护盖配置于所述基板的周围；以及护盖旋转机构，该护盖旋转机构使所述护盖旋转，所述护盖旋转机构使所述护盖在与所述基板相同的旋转方向上旋转。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.11.11 JP 2014-229313;2015.11.06 JP 2015-218511.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：基板保持机构，该基板保持机构对基板进行保持；基板旋转机构，该基板旋转机构使保持于所述基板保持机构的所述基板旋转；双流体喷嘴，该双流体喷嘴使双流体喷流朝向所述基板的表面喷出；护盖，该护盖配置于所述基板的周围；以及护盖旋转机构，该护盖旋转机构使所述护盖旋转，所述护盖旋转机构使所述护盖在与所述基板相同的旋转方向上旋转。2.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：基板保持机构，该基板保持机构对基板进行保持；基板旋转机构，该基板旋转机构使保持于所述基板保持机构的所述基板旋转；摆动清洗机构，该摆动清洗机构摆动并清洗所述基板的表面；护盖，该护盖配置于所述基板的周围；以及护盖旋转机构，该护盖旋转机构使所述护盖旋转，所述护盖旋转机构使所述护盖在与所述基板相同的旋转方向上旋转。3.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：基板保持机构，该基板保持机构对基板进行保持；基板旋转机构，该基板旋转机构使保持于所述基板保持机构的所述基板旋转；超声波清洗机构，该超声波清洗机构使用超声波清洗所述基板的表面；护盖，该护盖配置于所述基板的周围；以及护盖旋转机构，该护盖旋转机构使所述护盖旋转，所述护盖旋转机构使所述护盖在与所述基板相同的旋转方向上旋转。4.根据权利要求1至3中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，所述护盖旋转机构使所述护盖以与所述基板相同的角速度旋转。5.根据权利要求1至4中任一项所述的基板清洗装置，...

【专利技术属性】
技术研发人员：深谷孝一，前田幸次，石桥知淳，中野央二郎，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：日本,JP