基板液体处理方法、基板液体处理装置以及存储有基板液体处理程序的计算机可读存储介质制造方法及图纸

一种基板处理方法，进行以下工序：液体处理工序，利用处理液对基板进行液体处理；冲洗处理工序，利用冲洗液对进行液体处理后的所述基板进行冲洗处理；以及疏水处理工序，利用疏水化液对进行冲洗处理后的所述基板进行疏水处理，接着，进行清洗处理工序，利用功能水对进行疏水处理后的所述基板进行清洗处理，之后，进行乙醇处理工序，使乙醇接触进行清洗处理后的所述基板，之后，进行干燥处理工序，使所述基板干燥。通过清洗处理工序来去除残留在进行疏水处理后的基板的表面的杂质。

Substrate liquid treatment method, substrate, liquid processing device, and computer readable storage medium storing substrate liquid treatment program

A substrate processing method of the following procedures: liquid processing and utilization of substrate for liquid processing liquid; washing process, use the washing liquid to the substrate of the treated liquid processed; and hydrophobic treatment using hydrophobic liquid on the substrate treated by hydrophobic treatment rinse then, cleaning process, after cleaning, the substrate was treated by hydrophobic functional water, ethanol treatment after ethanol exposure of the base board, cleaning treatment, drying process, the drying of the substrate. Impurities that remain on the surface of the substrate after hydrophobic treatment are removed by a cleaning process.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板液体处理方法、基板液体处理装置以及存储有基板液体处理程序的计算机可读存储介质
本专利技术涉及一种利用疏水化液使进行液体处理后的基板的表面疏水化后使该基板的表面干燥的基板液体处理方法、基板液体处理装置以及存储有基板液体处理程序的计算机可读存储介质。
技术介绍
以往，在制造半导体器件、平板显示器等的情况下，使用基板液体处理装置利用各种处理液对半导体晶圆、液晶基板等基板实施液体处理，之后实施通过使基板高速旋转来去除残留在基板上的处理液的干燥处理。在该基板液体处理装置中，随着形成于基板的表面的电路图案、蚀刻掩模图案等图案的细微化、高长宽比化而有可能产生以下现象：在进行干燥处理时，形成于基板的表面的图案由于残留在基板上的处理液的表面张力的作用而损坏。因此，在以往的基板液体处理装置中，在进行干燥处理时向基板供给甲硅烷基化剂等疏水化液来使基板的表面疏水化。之后，将纯水作为清洗液向基板供给，使基板高速旋转来将清洗液从基板的表面去除。这样，在以往的基板液体处理装置中，通过使基板的表面疏水化来将图案与冲洗液之间的接触角度设为接近90度的状态，以减小清洗液使图案损坏的力，防止进行干燥处理时图案损坏(参照专利文献1。)。用于使基板的表面疏水化的疏水化液能够在疏水化液所含有的疏水基的作用下使基板的表面疏水化(hydrophobic)。由于该疏水化液中含有许多杂质，因此有可能在疏水化后的基板的表面残留杂质。然而，即使向进行疏水处理后的基板供给纯水的清洗液，也无法去除残留在基板的表面的杂质。专利文献1：日本特开2010-114439号公报
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种能够将残留在进行疏水处理后的基板的表面的杂质去除的技术。根据本专利技术的一个实施方式，提供一种基板液体处理方法，进行以下工序：液体处理工序，利用处理液对基板进行液体处理；冲洗处理工序，利用冲洗液对进行液体处理后的所述基板进行冲洗处理；以及疏水处理工序，利用疏水化液对进行冲洗处理后的所述基板进行疏水处理，接着，进行清洗处理工序，利用功能水对进行疏水处理后的所述基板进行清洗处理，之后，进行乙醇处理工序，使乙醇接触进行清洗处理后的所述基板，之后，进行干燥处理工序，使所述基板干燥。也可以是，在所述乙醇处理工序与干燥处理工序之间进行纯水处理工序，利用纯水对所述基板进行冲洗处理。能够使用具有碱性的电解离子水、氨水、氢水、臭氧水中的任一种来作为所述功能水。也可以是，将所述功能水和所述乙醇从同一喷嘴向所述基板供给。在从所述清洗处理工序向所述乙醇处理工序转移时，能够以使所述功能水与所述乙醇的混合比率阶梯式地或连续地变化的方式向所述基板供给所述功能水和所述乙醇。也可以是，在所述乙醇处理工序中包括以下工序：形成所述功能水的条状流；以及向比所述条状流更靠所述基板的中心侧的位置供给所述乙醇。也可以是，在形成所述功能水的条状流的工序中包括以下工序：使所述功能水的供给位置从所述基板的中心侧向外周侧移动。根据本专利技术的其它实施方式，提供一种基板处理装置，具备：基板保持部，其用于保持基板；处理液供给部，其向所述基板供给处理液；冲洗液供给部，其向利用处理液进行液体处理后的所述基板供给冲洗液；疏水化液供给部，其向利用冲洗液进行冲洗处理后的所述基板供给疏水化液；功能水供给部，其向利用疏水化液进行疏水处理后的所述基板供给功能水；乙醇供给部，其向利用功能水进行清洗处理后的所述基板供给乙醇；以及控制部，其进行控制，以使得在从所述疏水化液供给部对利用所述冲洗液进行冲洗处理后的所述基板供给疏水化液之后，从所述功能水供给部向所述基板供给功能水，之后，在从所述乙醇供给部对所述基板供给乙醇之后使所述基板干燥。也可以是，所述控制部进行控制，以使得在从所述乙醇供给部对所述基板供给乙醇之后，从所述冲洗液供给部向所述基板进行供给。也可以是，将所述功能水和所述乙醇从同一喷嘴向所述基板供给。也可以是，在从所述功能水的供给向所述乙醇的供给转移时，以使所述功能水与所述乙醇的混合比率阶梯式地或连续地变化的方式向所述基板供给所述功能水和所述乙醇。另外，也可以是，在从所述功能水的供给向所述乙醇的供给转移时，形成所述功能水的条状流，向比所述条状流更靠所述基板的中心侧的位置供给所述乙醇。另外，也可以是，使形成所述条状流的所述功能水的供给位置从所述基板的中心侧向外周侧移动。根据本专利技术的另一个实施方式，提供一种存储有基板液体处理程序的计算机可读存储介质，其中，该基板液体处理程序使用基板液体处理装置对所述基板进行处理，该基板液体处理装置具有：基板保持部，其用于保持基板；处理液供给部，其向所述基板供给处理液；冲洗液供给部，其向利用处理液进行液体处理后的所述基板供给冲洗液；疏水化液供给部，其向利用冲洗液进行冲洗处理后的所述基板供给疏水化液；功能水供给部，其向利用疏水化液进行疏水处理后的所述基板供给功能水；以及控制部，其对这些部进行控制，该存储有基板液体处理程序的计算机可读存储介质进行控制，以使得在从所述疏水化液供给部对所述基板供给疏水化液之后，从所述功能水供给部向所述基板供给功能水，之后，在从所述乙醇供给部对所述基板供给乙醇之后使所述基板干燥。附图说明图1是表示基板液体处理装置的俯视图。图2是表示基板液体处理单元的侧视图。图3是表示喷嘴组的说明图。图4是基板液体处理方法的工序图。图5是基板液体处理方法的说明图(液体处理工序(a)、冲洗处理工序(b))。图6是基板液体处理方法的说明图(疏水处理工序)。图7是基板液体处理方法的说明图(清洗处理工序)。图8是基板液体处理方法的说明图(乙醇处理工序(a)、干燥处理工序(b))。图9是基板液体处理方法的说明图。具体实施方式下面，参照附图来说明本专利技术所涉及的基板液体处理装置及基板液体处理方法的具体的实施方式。如图1所示，基板液体处理装置1在前端部具有输入输出部2。相对于输入输出部2将收容有多个(例如25个)基板3(在此为半导体晶圆)的承载件4输入输出，该承载件4以沿左右方向排列的方式载置于输入输出部2。另外，基板液体处理装置1在输入输出部2的后部具有输送部5。在输送部5的前侧配置有基板输送装置6，在输送部5的后侧配置有基板交接台7。在该输送部5中，使用基板输送装置6来在基板交接台7与载置于输入输出部2的任一承载件4之间输送基板3。并且，基板液体处理装置1在输送部5的后方具有处理部8。在处理部8的中央配置有沿前后方向延伸的基板输送装置9。在基板输送装置9的左右两侧，用于对基板3进行液体处理的基板液体处理单元10沿前后方向排列。在该处理部8中，使用基板输送装置9来在基板交接台7与基板液体处理单元10之间输送基板3，使用基板液体处理单元10对基板3进行液体处理。如图2所示，基板液体处理单元10具有基板保持部11、供给部12以及回收部13，由控制部14控制这些部。基板保持部11一边保持着基板3一边使基板3旋转。供给部12向基板3供给各种液体、气体。回收部13回收被供给到基板3的各种液体、气体。控制部14不仅控制基板液体处理单元10，还控制基板液体处理装置1整体的动作。基板保持部11在处理室15的内部大致中央具有上下延伸的旋转轴16。在旋转轴16的上端水平地安装有圆板状的转盘17。在转盘17的外周端缘沿圆周方向隔开等本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板液体处理方法，其特征在于，进行以下工序：液体处理工序，利用处理液对基板进行液体处理；冲洗处理工序，利用冲洗液对进行液体处理后的所述基板进行冲洗处理；以及疏水处理工序，利用疏水化液对进行冲洗处理后的所述基板进行疏水处理，接着，进行清洗处理工序，利用功能水对进行疏水处理后的所述基板进行清洗处理，之后，进行乙醇处理工序，使乙醇接触进行清洗处理后的所述基板，之后，进行干燥处理工序，使所述基板干燥。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.10.21 JP 2014-214418;2015.09.08 JP 2015-176521.一种基板液体处理方法，其特征在于，进行以下工序：液体处理工序，利用处理液对基板进行液体处理；冲洗处理工序，利用冲洗液对进行液体处理后的所述基板进行冲洗处理；以及疏水处理工序，利用疏水化液对进行冲洗处理后的所述基板进行疏水处理，接着，进行清洗处理工序，利用功能水对进行疏水处理后的所述基板进行清洗处理，之后，进行乙醇处理工序，使乙醇接触进行清洗处理后的所述基板，之后，进行干燥处理工序，使所述基板干燥。2.根据权利要求1所述的基板液体处理方法，其特征在于，在所述乙醇处理工序与干燥处理工序之间进行纯水处理工序，利用纯水对所述基板进行冲洗处理。3.根据权利要求1所述的基板液体处理方法，其特征在于，使用具有碱性的电解离子水、氨水、氢水、臭氧水中的任一种来作为所述功能水。4.根据权利要求1所述的基板液体处理方法，其特征在于，将所述功能水和所述乙醇从同一喷嘴向所述基板供给。5.根据权利要求1～4中的任一项所述的基板液体处理方法，其特征在于，在从所述清洗处理工序向所述乙醇处理工序转移时，以使所述功能水与所述乙醇的混合比率阶梯式地或连续地变化的方式向所述基板供给所述功能水和所述乙醇。6.根据权利要求1～4中的任一项所述的基板液体处理方法，其特征在于，在所述乙醇处理工序中包括以下工序：形成所述功能水的条状流；以及向比所述条状流更靠所述基板的中心侧的位置供给所述乙醇。7.根据权利要求6所述的基板液体处理方法，其特征在于，在形成所述功能水的条状流的工序中包括以下工序：使所述功能水的供给位置从所述基板的中心侧向外周侧移动。8.一种基板液体处理装置，其特征在于，具备：基板保持部，其用于保持基板；处理液供给部，其向所述基板供给处理液；冲洗液供给部，其向利用处理液进行液体处理后的所述基板供给冲洗液；疏水化液供给部，其向利用冲洗液进行冲洗处理后的所述基板供给疏水化液；功能水供给部，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：中森光则，野中纯，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP