基板支撑装置、清洗装置、基板的旋转速度的计算装置及方法、以及机器学习装置制造方法及图纸

本发明专利技术的基板支撑装置具备：配置于框体内，并保持基板的周缘部的多个辊；通过驱动多个辊旋转而使基板旋转的旋转驱动部；设置成从辊或旋转驱动部延伸至框体，将因基板的周缘部的凹槽或定向平面接触辊而产生的振动传递至框体的振动传递机构；配置于框体的外侧，检测从框体产生的声音、振动及应变中的至少一个，并输出与其对应的信号的检测传感器；及基于从检测传感器输出的信号来计算基板的旋转速度的旋转速度计算部。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术关于一种基板支撑装置、清洗装置、基板的旋转速度的计算装置及方法、以及机器学习装置。

技术介绍

1、半导体器件的制造工序中，在半导体晶片等基板的表面实施成膜、蚀刻、研磨等各种处理。在这些各种处理的前后，因为需要将基板表面保持洁净，而进行基板的清洗处理。基板清洗处理时，广泛使用通过多个辊保持基板的周缘部并通过驱动辊旋转而使基板旋转，将清洗构件抵压于旋转的基板进行清洗的清洗机。

2、如上所述，在由多个辊保持基板的周缘部而使其旋转的清洗机中，通过清洗构件在基板的表面施加规定压力，并摩擦基板的表面，来清除基板的表面的污垢(微粒子等)，所以有时在基板与辊之间发生滑动，造成基板的旋转速度比设定旋转速度降低。

3、此外，在清洗基板的基板清洗处理之外，即使由辊保持基板而使其旋转时也需要更加改善的基板的旋转速度的计算方法。

4、目前，为了判定是否在基板与辊之间发生滑动，采用使惰轮接触基板的周缘部来测量基板的实际旋转速度的方法，不过，在该方法中，由于来自惰轮的污垢附着造成洁净性能降低，及因为在基板与惰轮之间发生的滑动造成测量错误，所本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板支撑装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的基板支撑装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板支撑装置，其特征在于，

5.根据权利要求3或4所述的基板支撑装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，

7.根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，

8.根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的基板支撑装置，其特征在于，

10.根据权利要求1...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板支撑装置，其特征在于，具备：

2.根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，

3.根据权利要求1或2所述的基板支撑装置，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的基板支撑装置，其特征在于，

5.根据权利要求3或4所述的基板支撑装置，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，

7.根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，

8.根据权利要求5所述的基板支撑装置，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的基板支撑装置，其特征在于，

10.根据权利要求1～9中任一项所述的基板支撑装置，其特征在于，

11.根据权利要求1～10中任一项所述的基板支撑装置，其特征在于，

12.根据权利要求1～11中任一项所述的基板支撑装置，其特征在于，

13.根据权利要求1～12中任一项所述的基板支撑装置，其特征在于，

14.根据权利要求1～13中任一项所述的基板支撑装置，其特征在于，

15.根据权利要求14所述的基板支撑装置，其特征在于，

16.根据权利要求1～15中...

【专利技术属性】
技术研发人员：松田道昭，宫崎充，中野央二郎，渡边裕辅，
申请(专利权)人：株式会社荏原制作所，
类型：发明
国别省市：