The utility model relates to a wafer inspection station macro lighting device comprises a first optical fiber and the second macro macro lighting fiber optic lighting, are arranged on both sides of the wafer inspection station; LED light source, connected to the first and second macro macro fiber optic lighting lighting fiber; mirror are respectively arranged on the first macro lighting optical fiber and the second optical fiber head macro. The macroscopic illumination device of the wafer inspection platform proposed by the utility model can provide illumination for wafer inspection and improve the quality and efficiency of the macroscopic examination.
【技术实现步骤摘要】
一种晶圆检查台宏观照明装置
本技术涉及半导体集成电路制造领域,且特别涉及一种晶圆检查台宏观照明装置。
技术介绍
在集成电路制造过程中,对于晶圆的检查非常普遍,也十分重要。通过对晶圆的检查能够及时发现集成电路制造工艺中可能存在的问题,从而可以尽快加以解决,尽量防止集成电路制造工艺中的缺漏对于集成电路产品的影响;此外,通过对晶圆的检查也能够防止缺陷产品流入市场,保证了产品质量。集成电路芯片制造过程中,有一道工序是检查硅晶圆芯片表面和背面的状况。例如,正面观察缺陷、划痕、沾污、颗粒、线条之间互连等,背面观察的沾污、残留等。随着集成电路集成度的提高和线宽的缩小,观察工序的重要性显得更为突出。老型号的硅片检查台不配置专用光源,因此宏观检查时由于观察不力,会在一定程度上影响检查质量和效率。本技术建立一套宏观照明装置,改善了宏观检查的质量和效率。
技术实现思路
本技术提出一种晶圆检查台宏观照明装置,能够为晶圆检查提供照明,改善了宏观检查的质量和效率。为了达到上述目的,本技术提出一种晶圆检查台宏观照明装置,包括:第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤,分别设置于所述晶圆检查台的两侧;LED灯光源,连接于所述第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤;聚光镜,分别设置于所述第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤的头部顶端。进一步的,所述第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤采用可挠曲的光纤杆制成。进一步的,所述LED灯光源为双通道LED光源。进一步的,所述LED灯光源采用暖色光LED灯光源。进一步的,所述聚光镜设置有调节器,用以调节照射光的范围和照度。本技术提出的晶圆检查台宏观照明装置,在晶圆检查台前 ...
【技术保护点】
一种晶圆检查台宏观照明装置,其特征在于,包括:第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤,分别设置于所述晶圆检查台的两侧;LED灯光源,连接于所述第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤;聚光镜,分别设置于所述第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤的头部顶端。
【技术特征摘要】
1.一种晶圆检查台宏观照明装置,其特征在于,包括:第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤,分别设置于所述晶圆检查台的两侧;LED灯光源,连接于所述第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤;聚光镜,分别设置于所述第一宏观照明光纤和第二宏观照明光纤的头部顶端。2.根据权利要求1所述的晶圆检查台宏观照明装置,其特征在于,所述第一宏观照明光纤和第二宏观照...
【专利技术属性】
技术研发人员:姚军,顾宁,
申请(专利权)人:上海精典电子有限公司,
类型:新型
国别省市:上海,31
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