测量装置制造方法及图纸

提供一种测量装置，其减小了由视差引起的读取误差。测量装置具有与被测体抵接的表头(51)，并且包括指针型显示部，该指针型显示部显示通过放大机构对表头(51)的位移进行放大并将该位移转换成指针的转动量所获得的表头(51)的位移。测量装置还包括设置成覆盖指针型显示部的透明的盖板(22)，并且盖板(22)在表面上具有防反射膜(24)。盖板(22)还具有在防反射膜(24)上的防污膜(26)。盖板(22)具有平坦表面。

【技术实现步骤摘要】
测量装置本申请基于2015年12月15日提交的日本专利申请No.2015-244669，并要求该日本专利申请的优先权，其全部内容通过引用合并于此。
本专利技术涉及一种测量装置。更具体地，本专利技术涉及具有指针型显示部的测量装置，例如杆式刻度表(lever-typedialgauge)和千分表(dialgauge)。
技术介绍
已知杆式刻度表(日本特许第3675587号和日本特许第4399186号)。杆式刻度表用于通过主要在标准规(master)或块规(blockgauge)与被测体之间进行比较测量来检测是否存在加工误差或者误差是否在公差范围内。通过杆式刻度表进行的比较测量在产品的尺寸精度检测中具有极其重要的作用。
技术实现思路
即使使用了完全相同的杆式刻度表，检测结果也常常由于进行测量的测量者而产生不同。本专利技术人在之前对原因的调查结果中注意到测量者的无意识的姿势改变是因素之一。为了进行比较测量，测量者在读取刻度时不应该改变姿势。如果测量者在测量标准规时与测量被测体时的姿势相比改变了姿势，则读取刻度的视线也改变，这种视线的差别直接引起测量误差。测量者无意识地改变姿势的原因在于指针和刻度(分度线)有时难以被看到。图1是示出杆式刻度表80的使用状态的图。典型的，杆式刻度表80主要以显示部82面向上方的方式进行使用。于是，在盖板83上反射了天花板上的照明光。如果盖板83具有稍微弯曲的凸面，则反射被分散成多个弱反射点91。然而，在盖板83上沿不同方向反射光。如果盖板83具有平坦表面，则光仅沿一个方向反射，但是会出现大的强反射点91。虽然测量者在测量标准规或块规时决定姿势以便容易地看到指针位置(基准点)，但如果在测量工件(被测体)时指针位置被反射点91盖住，则测量者会改变姿势以读取由指针84指示的刻度(分度线)。在另一情况中，当测量被测体的左右之间的高度差时，将千分表移动至测量点以进行测量。例如，将千分表安装于夹具等，并且将基准点调整到在被测体的左端的测量点处。然后，将千分表与夹具一起移动，并且在右端的测量点处读取与基准点的差。在此测量中，虽然在调整基准点时不会反射照明，但是在千分表移动到的位置处会反射照明。在此情况下，测量者无意识地改变此位置处的姿势以便读取刻度，这导致测量误差。本来应该重新开始对标准规或块规的测量，但是重新测量是麻烦的。另外，并不是所有的使用者都能够正确地意识到不改变姿势、即固定视线的角度的重要性。因此，本专利技术的目的是提供一种减少由于视差(parallax)引起的读取误差的测量装置。根据本专利技术的实施方式的测量装置具有用于与被测体接触的表头，所述测量装置包括：指针型显示部，其被构造成显示通过放大机构对所述表头的位移进行放大并将该位移转换成指针的转动量所获得的所述表头的位移；和透明的盖板，所述盖板设置成覆盖所述指针型显示部，其中，所述盖板在表面上具有防反射膜。在本专利技术的实施方式中，优选的是，所述盖板还具有在所述防反射膜上的防污膜。在本专利技术的实施方式中，优选的是，盖板具有平坦表面。在本专利技术的实施方式中，优选的是，所述指针型显示部具有带有分度的刻度板，所述刻度板能够绕着所述指针的轴转动。在本专利技术的实施方式中，优选的是，所述测量装置是杆式刻度表或千分表。附图说明图1是示出杆式刻度表的使用状态的图；图2是千分表(测量装置)的主视图；图3是千分表(测量装置)的分解图；图4是示出了在盖板具有凸曲面并且不使用防反射膜的情况下的试验例的图；图5是示出了在盖板具有平坦表面并且不使用防反射膜的情况下的试验例的图；以及图6是示出了使用本实施方式的试验例的图。具体实施方式图示了本专利技术的实施方式并且参照图中各要素的附图标记进行说明。(第一示例性实施方式)在本实施方式中，例示了千分表10，但是本专利技术对于杆式刻度表80、指针显示型卡尺(pointerdisplaytypecaliper)或测微计(micrometer)也是有效的。换言之，本专利技术对于任何指针显示型的小测量装置都是有效的。图2是千分表10(测量装置)的主视图。图3是千分表10(测量装置)的分解图。千分表10用于将主轴50的位移显示成指针71的转动量。千分表10包括主体壳40、主轴50、放大机构30和主体盖20。主体壳40为短圆筒状的壳体，其一个端面开口。杆部60以突出方式设置于主体壳40的侧面，并且杆部60作为主轴50的轴承。主轴50在顶端具有表头51，基端侧收纳在主体壳40内。主轴50以能够沿轴线方向前后移动的方式由杆部60支撑。放大机构30将主轴50的线性位移放大并转换成指针71的转动量。放大机构30通过结合多个齿轮而形成，并且收纳在主体壳40内。放大机构30具有与设置于主轴50的齿条(未图示)接合的小齿轮(未图示)，并且利用多个齿轮系放大小齿轮的转动。主体盖20具有外框部21和盖板22。外框部21为两端均开口的短筒，并且通过例如以O型环41处于外框部21与主体壳40之间的方式安装于主体壳40的开口侧端面。这里，当通过将刻度板42夹在主体壳40的端面与外框部21之间使得外框部21被安装于主体壳40的端面时，刻度板42被固定于主体壳40的端面。另外，指针71配置于刻度板42，指针轴72联接至作为放大机构30的最终级的中央小齿轮(未图示)。这里，指针71和刻度板42构成指针型显示部。外框部21能够相对于主体壳40转动，并且，当外框部21转动时，刻度板42绕着指针71的轴72与外框部21一起转动。通过转动刻度板42，能够将原点的位置(刻度板上的“0”)调整至任意位置，并且能够将例如标准规或块规的测量值调整至原点(刻度板上的“0”)。盖板22为透明的盘状薄板。盖板22可以是玻璃或者由诸如丙烯酸树脂等的透明树脂制成。盖板22被固定于外框部21的端面，以便封闭外框部21的开口面。在本实施方式中，盖板22具有平坦的正面和背面。还已知凸状弯曲的盖板22，该凸状弯曲的盖板22可以用于本实施方式。然而，如果盖板22是凸面，则由于光的折射使得刻度和指针看起来稍微扭曲。因此，期望盖板22为平面。例如，在刻度(分度)为0.001mm的精密测量中，出现清楚可辨的差异。传统地，由于在盖板为平面的情况下大幅度地出现反射并且有损可视性，所以虽然受到光的折射的影响，盖板也必须是凸面的以消除这种影响。在此方面，通过如下所述地在本实施方式中对盖板22进行防反射处理，能够使用不受光的折射影响的完全平面的盖板22，从而实现可视性和高精度测量二者。盖板22受到了防反射处理，即、在盖板22的表面上形成防反射膜24(AR涂层)。防反射膜24可以是单层或者多层。另外，防反射膜24可以仅形成于盖板22的表面或者形成于正背两面。并不特别限制对应的光的波长区域或反射率。实际上，对应的光的波长区域或反射率是根据产品的等级或价格来确定的。然而，如果不设置防反射膜24，在通常用作盖板材料的丙烯酸树脂等的情况下，反射率为大约8％，测量者会清楚地看到由照明引起的反射点91。因此，为了在完全不用担心反射点的情况下测量者不会无意地改变姿势，盖板22上的光的反射率应该小于1％，优选地小于0.5％，更优选地小于0.2％。通过设置防反射膜24，消除了反射点，测量者不会无意识地改变姿势。大部分工厂为了工人的作业效率或为了确保安全使用了明本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种测量装置，其具有用于与被测体接触的表头，所述测量装置包括：指针型显示部，其被构造成显示通过放大机构对所述表头的位移进行放大并将该位移转换成指针的转动量所获得的所述表头的位移；和透明的盖板，所述盖板设置成覆盖所述指针型显示部，其中，所述盖板在表面上具有防反射膜。

【技术特征摘要】
2015.12.15 JP 2015-2446691.一种测量装置，其具有用于与被测体接触的表头，所述测量装置包括：指针型显示部，其被构造成显示通过放大机构对所述表头的位移进行放大并将该位移转换成指针的转动量所获得的所述表头的位移；和透明的盖板，所述盖板设置成覆盖所述指针型显示部，其中，所述盖板在表面上具有防反...

【专利技术属性】
技术研发人员：古田诚，
申请(专利权)人：株式会社三丰，
类型：发明
国别省市：日本,JP