抗静电聚酯薄膜制造技术

本发明专利技术提供了改善了抗静电性和光学性能的抗静电聚酯薄膜，其在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式层叠有至少一个抗静电层、以及在该抗静电层上以离线涂布方式层叠有光漫射层。当将该聚酯薄膜用作ＬＣＤ的光漫射薄膜时，可以获得均匀的抗静电性，还可以降低由剥离所产生的带电且不会因高温高湿下的析出而使光学特性恶化，并减少了因剥离时产生的静电而引发的缺陷。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及抗静电聚酯薄膜。更具体地，本专利技术涉及通过在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式(in-line coating)层叠至少一个抗静电层、以及在该抗静电层上以离线涂布(off-line coating)方式层叠光漫射层而使抗静电性和光学物性得到了改善的聚酯薄膜。
技术介绍
近年来，随着产业化的进行，在各种电子和电气设备、信息通信领域直至一般生活用品的广泛领域中，由静电产生损害的问题正在增加。因此，在这些设备和工业场所的抗静电已成为重要课题。所谓抗静电性是指使积蓄在绝缘体表面的电荷通过适当方法进行放电的性质。为了提高抗静电性，可形成抗静电层以使积蓄在产品表面的电荷放电。特别是在对薄膜进行制造和加工的工序中，薄膜上易于附着杂质和尘土，由于这些工序中会发生放电，若在这些工序中使用有机溶剂，则有时会增加着火和火灾的危险。而且，由于当薄膜用作电气和电子部件材料时会引起对部件的静电损害，所以赋予薄膜以抗静电性能是非常重要的。 根据以往的方法，通过在薄膜上以离线涂布方式层叠光漫射层，可以赋予该光漫射层以抗静电性能。这种方法可以解决在制造漫射薄膜、薄片化操作以及组装背光单元(backlight unit，BLU)时因静电引起的放电、污染和异物吸附等问题。为了赋予光漫射层以抗静电性，可向形成光漫射层的组分中加入例如锂、铜、镁、钙、铁、钴和镍等金属。但是，这种向光漫射层中加入金属的方法除了经济方面不利外，还有难以获得充分的抗静电性和高亮度的限制。 根据以往赋予抗静电性能的另一种方法，可在薄膜和光漫射层之间形成抗静电涂层。用于形成抗静电涂层的抗静电剂是表面活性剂或阴离子/阳离子型的高分子，当在涂布面上引入了漫射层时，该抗静电剂通常依赖于大气中的湿度来发挥其抗静电性能。但是层叠在该抗静电层上的光漫射层阻碍了它与空气中的水分接触，导致抗静电性能较差。当抗静电剂是表面活性剂时，抗静电层和光漫射层间的粘合力变差，引起漫射层的剥离或BLU的亮度降低，从而降低了BLU的光学特性。另外，当将上述抗静电剂与形成光漫射层的组分混合使用时，在高温高湿的条件下抗静电剂会析出到抗静电层的表面，从而在漫射层的表面上留下白点和黑点等光学缺陷。 而且，当在薄膜和光漫射层之间以离线涂布方式形成抗静电层时，由于涂布是在将漫射层和抗静电涂层分离的状态下进行的，因此，离线涂布工序数增加，是导致制造成本增加的不利因素。即使从节约成本的观点出发，用漫射层形成液和抗静电层形成液的混合溶液同时进行涂布，也存在下述的一些问题，例如溶液的混合困难、漫射层因抗静电剂的存在而不能很好地进行固化、以及抗静电剂析出等。
技术实现思路
因此，本专利技术是为了解决上述问题而提出的，目的之一在于提供一种抗静电聚酯薄膜，其通过在聚酯薄膜和光漫射层之间以流水线涂布方式形成抗静电层，以获得高的抗静电性和经济性。 本专利技术的另一个目的在于提供抗静电聚酯薄膜的制造方法，其通过在聚酯薄膜和光漫射层之间以流水线涂布方式形成抗静电层，以获得高的抗静电性和经济性。 为了达到上述目的，本专利技术的一个方面提供了抗静电聚酯薄膜，其包括聚酯薄膜、在上述聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成的至少一个抗静电层、和在上述抗静电层上以离线涂布方式层叠的光漫射层。 上述流水线涂布优选选自迈耶绕线棒涂布法(Mayer bar coating)、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法(extrusion die coating)、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法(kiss coating)中的任何一种方式。 上述抗静电层优选含有导电聚合物、粘合剂树脂和交联剂，更优选的是，相对于导电聚合物100重量份含有粘合剂树脂200～2000重量份和交联剂40～100重量份。抗静电剂中含有的固体成分为0.5～10重量％。 上述导电聚合物优选通过聚阴离子与聚噻吩或衍生物发生聚合来制备。 上述粘合剂树脂优选含有选自羰基、羟基、丙烯基、氨基甲酸基、羧基、酰胺基、酰亚胺基、羧酸、马来酸和马来酸酐中的至少一种官能团。 上述交联剂优选是选自异氰酸酯类、羰基酰亚胺类、噁唑啉类、环氧类和三聚氰胺类化合物中的至少一种化合物。 上述光漫射层优选含有光漫射树脂和光漫射粒子。 本专利技术的另一个方面提供了抗静电聚酯薄膜的制造方法，其包括下述步骤在聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成抗静电层、和在上述抗静电层上以离线涂布方式形成光漫射层。 上述流水线涂布优选是选自迈耶绕线棒涂布法、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法中的任何一种涂布工序。 流水线涂布优选在聚酯薄膜的单轴拉伸之后进行。具体实施方式下面，对本专利技术进行更加详细地说明。 根据本专利技术的一个实施方案的抗静电聚酯薄膜，其具有作为基材层的聚酯薄膜、在上述聚酯薄膜上以流水线涂布方式层叠的抗静电层、在上述抗静电层上以离线涂布方式层叠的使入射光漫射的光漫射层。 下面，对作为基材层的聚酯薄膜进行具体地说明。 本专利技术中使用的聚酯薄膜由透明度高的高分子材料制成。对本专利技术中使用的高分子材料没有严格的种类的限制，只要高分子材料具有较高的机械强度如抗划伤性和高耐久性就可以。例如，可以使用本领域中公知的作为抗静电涂布基材的薄膜来构成聚酯薄膜。 本专利技术中所用聚酯薄膜的材料的非限定性例子中包括聚酯树脂，例如聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等，具体如下所述。构成聚酯薄膜的上述聚酯树脂是由芳香族二羧酸和脂肪族二元醇通过缩聚而制备得到的。作为芳香族二羧酸，可列举出对苯二甲酸、2，6-萘二羧酸等；作为脂肪族二元醇，可列举出乙二醇、二甘醇、1，4-环己二甲醇等。代表性的聚酯是聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚2，6-萘二甲酸乙二酯(PEN)等。上述聚酯也可以含有其他成分。 作为聚酯共聚物中合适的二羧酸成分，可列举出间苯二甲酸、邻苯二甲酸、对苯二甲酸、2，6-萘二羧酸、己二酸、癸二酸、羟基酸(例如，对羟苯甲酸)。作为聚酯共聚物中合适的二元醇成分，可列举出乙二醇、二甘醇、丙二醇、丁二醇、1，4-环己二甲醇和新戊二醇。这些二羧酸成分和二元醇成分可以单独使用，也可以任意地组合使用。本专利技术的薄膜优选是具有高透明性、同时生产性和加工性优异的单轴或者双轴取向薄膜。 为了防止光透过薄膜时的光损失，聚酯薄膜必须具有高的光透过度。另外聚酯薄膜优选与抗静电层易于接合。含有聚酯薄膜的光漫射薄片的光透过度优选为90％或以上。 聚酯薄膜的厚度为25μm～250μm。聚酯薄膜的厚度与使用聚酯薄膜的背光单元的尺寸大小成比例。在用于携带电话、个人数字助手(PDA)等的小型背光单元中主要适合使用厚度为100μm以下的聚酯薄膜；在用于笔记本电脑和监控器等的中型背光单元中适合使用厚度为50μm～188μm的聚酯薄膜；而在用于电视等的大型背光单元中适合使用厚度为125μm以上的聚酯薄膜。也即，背光单元中所用的聚酯薄膜的厚度随背光单元的尺寸增加而增加。这是因为大尺寸的背光单元尺寸需要使用更多的光源，从这些光源中产生的热量增加，其结果是，这些背光单元中使用的聚酯薄膜就必须具有较好的耐热性。 下面，对抗静电层进行具体地说明。 抗静电层是以流水线涂布方式层叠在作为基材的聚酯薄膜上。流水本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抗静电聚酯薄膜，其包括：聚酯薄膜、在所述聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成的至少一个抗静电层、和在所述抗静电层上以离线涂布方式层叠的光漫射层。

【技术特征摘要】
KR 2005-12-28 10-2005-0131724书的范围之内。权利要求1.一种抗静电聚酯薄膜，其包括聚酯薄膜、在所述聚酯薄膜的单面或双面上以流水线涂布方式形成的至少一个抗静电层、和在所述抗静电层上以离线涂布方式层叠的光漫射层。2.根据权利要求1所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述流水线涂布是选自迈耶绕线棒涂布法、照相凹版涂布法、逆向辊涂法、挤压模涂布法、辊衬刮刀辊涂法和吻涂法中的一种涂布工序。3.根据权利要求1所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述抗静电层含有导电聚合物、粘合剂树脂和交联剂。4.根据权利要求3记载的抗静电聚酯薄膜，其中所述抗静电层中，相对于导电聚合物100重量份含有粘合剂树脂200～2000重量份和交联剂40～100重量份。5.根据权利要求2～4中任一项中所述的抗静电聚酯薄膜，其中所述导电聚合物是通过聚阴离子与聚噻吩或其衍生物发生聚合来制造的。6.根据权利要求3或4所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：李文馥，金相弼，
申请(专利权)人：东丽世韩有限公司，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]