靶材喷砂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种靶材喷砂装置，包括壳体、设置在壳体内的辊道、铰接在壳体上端的密封盖和固定连接在壳体下端的回收罐，所述回收罐下端连通设置回收管，所述回收管下端连通设置吸尘器，所述壳体四周贯穿设置多个喷砂管，所述喷砂管伸出壳体的一端连接有送风机构和储砂罐。本实用新型专利技术使用时靶材位于一封闭空间内，能够一次对靶材喷砂完成，喷完后砂粒自动分离，防止污染空气。

Target sand blasting device

The utility model discloses a target sandblasting device comprises a shell, is arranged in the shell, the roller is hinged on the sealing cover and is fixedly connected on the lower end of the shell of the recovery tank at the upper end of the shell, the lower end is communicated with the recovery tank set up recycling tube, the recovery tube communicated the vacuum cleaner, the periphery of the shell through setting a blast pipe, the blast pipe end extends out of the shell is connected with the air feeding mechanism and sand storage tank. When the utility model is used, the target material is positioned in a closed space, and the target can be blasted at once, and the sand can be automatically separated after spraying to prevent air pollution.

【技术实现步骤摘要】
靶材喷砂装置
本技术属于表面处理
，尤其涉及一种靶材喷砂装置。
技术介绍
荷能粒子（例如氩粒子）轰击固体表面，引起表面各种粒子，如原子、分子或团束从该固体表面逸出的现象称溅射工艺，其中被轰击的固体称为靶材。目前，溅射工艺常应用在薄膜沉积生产领域，例如，在TFT-LCD面板制作过程中，其中一道工序使在玻璃基板上沉积一层钼薄膜，则需要使用钼靶材对玻璃基板进行溅射。在溅射工艺中，靶材组件作为阴极，首先应具有优良的导电性，同时为了排放高荷能态离子高速轰击靶材表面产生的热量，靶材组件也要具有优良的导热性，因此，靶材13需要采用焊合材料铟固定连接背板14（如图1所示），以避免溅射靶在工作中的脱落、开裂等问题。为了保证靶材和背板的焊合率，需要靶材背面（非溅射面）进行粗化处理，以便更好附着焊合材料铟，但在焊接工艺中，靶材和背板四周边缘容易溢出焊接材料铟，需要对焊接材料进行清除，同时还需要增大清除区域和靶材四周的粗糙度，在溅射工艺中使粗化后的此区域更够更好的粘住沉积到此的靶材材料，减小其溢出的概率。靶材背面和四周的粗化以及焊接材料铟的清除都需要喷砂处理来完成，所述的喷砂处理就是利用高速的砂流的冲本文档来自技高网...

【技术保护点】
靶材喷砂装置，其特征在于：包括壳体、设置在壳体内的辊道、铰接在壳体上端的密封盖和固定连接在壳体下端的回收罐，所述回收罐下端连通设置回收管，所述回收管下端连通设置吸尘器，所述壳体四周贯穿设置多个喷砂管，所述喷砂管伸出壳体的一端连接有送风机构和储砂罐。

【技术特征摘要】
1.靶材喷砂装置，其特征在于：包括壳体、设置在壳体内的辊道、铰接在壳体上端的密封盖和固定连接在壳体下端的回收罐，所述回收罐下端连通设置回收管，所述回收管下端连通设置吸尘器，所述壳体四周贯穿设置多个喷砂管，所述喷砂管伸出壳体的一端连接有送风机构和储砂罐。2.根据权利要求1所述的靶材喷砂装置，其特征在于：所述壳体为长方体结构或圆形结构，所述回收罐为锥形结构。3.根据权利要求1所述的靶材...

【专利技术属性】
技术研发人员：高建杰，崔冬乐，李金龙，张雪凤，
申请(专利权)人：洛阳高新四丰电子材料有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41