一种新纳米级钻石抛光机设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种新纳米级钻石抛光机设备，包括纵向气缸、纵向履带、上平台、立柱、操作台、电缆托架、横向气缸、导轨、导轨电机和工作台，上平台左侧竖直方向设置有纵向履带，纵向履带右侧设置有纵向气缸，上平台设置在工作台后部，上平台与工作台之间的左右两侧各设置有1根立柱，上平台上设置有电缆托架，电缆托架下部设置有横向气缸，横向气缸右侧设置有导轨，导轨的下部设置有导轨电机，工作台的前部设置有操作台，本实用新型专利技术设计合理，使用方便，加工效率高，2D平面、3D曲面及复杂的表面都可以得到很好的打磨效果，打磨精度高，可做到超洁净度的镜面加工。

A new nano diamond polishing machine equipment

The utility model provides a new nano diamond polishing machine, including vertical cylinder, vertical track, platform, column, operation table, cable bracket, horizontal cylinder, guide rail, guide rail motor and a worktable, a longitudinal track arranged on the platform on the left vertical direction, the longitudinal track right side is provided with a longitudinal cylinder on the platform set in the rear of the table, between the platform and the work table are respectively arranged on both sides of the 1 pillars, the platform is arranged on the cable bracket, the cable bracket is arranged at the lower part of the horizontal cylinder, the cylinder on the right side of the transverse guide rail is arranged, the lower part is provided with a guide rail motor, front bench is arranged on the operating table, the utility model reasonable design, convenient operation, high processing efficiency, 2D plane, 3D surface and complex surface can be polished to good effect, high grinding accuracy, can be used To the mirror machining of ultra purity.

【技术实现步骤摘要】
一种新纳米级钻石抛光机设备
本技术具体涉及一种新纳米级钻石抛光机设备。
技术介绍
高精度抛光机是基于当前没有哪一款专用设备能做到的这种高光洁度，因为抛光是多个角度的曲面加工，设备抛光很难达到。数控机床发展几十年，由来很久了，但是对这块市场还是空白，要么设备高昂的价格让人望而却步，高端设备价格在500-1000万左右，普通工厂难以承受这等高价。低端的也只能做一些简单的重复性抛光动作。这块市场还在处于人工抛光打磨为主，因为人工成本低廉。可以抛光任何角度，斜度的任何产品。但是缺点是：人工抛光，体力劳动强度大，时间长。抛光一个产品至少时间要求在4-6小时以上。效率非常低。一般人工抛光，现场作业环境非常脏乱。因为都是体力活，粗活，笨活。在如今人工成本不断上升的大环境情况下，改变这种旧的生产方式是势在必得的。必须以机器设备来代替人工的操作，从而减轻企业的生产负担，改变工人的操作环境。
技术实现思路
本技术的目的是为解决上述不足，提供一种新纳米级钻石抛光机设备。本技术的目的是通过以下技术方案实现的：一种新纳米级钻石抛光机设备，包括纵向气缸、纵向履带、上平台、立柱、操作台、电缆托架、横向气缸、导轨、导轨电机和工作台，上平台左侧竖直方向设置有纵向履带，纵向履带右侧设置有纵向气缸，上平台设置在工作台后部，上平台与工作台之间的左右两侧各设置有1根立柱，上平台上设置有电缆托架，电缆托架下部设置有横向气缸，横向气缸右侧设置有导轨，导轨的下部设置有导轨电机，工作台的前部设置有操作台。工作台底座设置有4个底脚。操作台左侧设置有拇指旋转开关，拇指旋转开关下部设置有感应按钮开关，操作台右侧设置有紧急停止开关。纵向气缸下部连接有抛光机头。本技术具有如下有益的效果：本技术设计合理，使用方便，加工效率高，2D平面、3D曲面及复杂的表面都可以得到很好的打磨效果，打磨精度高，可做到超洁净度的镜面加工。附图说明图1为本技术的整体结构示意图；图2为本技术的主视图。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步的说明：如图1所示，一种新纳米级钻石抛光机设备，包括纵向气缸1、纵向履带2、上平台3、立柱4、操作台15、电缆托架7、横向气缸8、导轨9、导轨电机10和工作台11，上平台3左侧竖直方向设置有纵向履带2，纵向履带2右侧设置有纵向气缸1，上平台3设置在工作台11后部，上平台3与工作台11之间的左右两侧各设置有1根立柱4，上平台3上设置有电缆托架7，电缆托架7下部设置有横向气缸8，横向气缸8右侧设置有导轨9，导轨9的下部设置有导轨电机10，工作台11的前部设置有操作台15。工作台11底座设置有4个底脚13。操作台15左侧设置有拇指旋转开关5，拇指旋转开关5下部设置有感应按钮开关6，操作台15右侧设置有紧急停止开关12。纵向气缸下部连接有抛光机头14。工作过程：画好3D图档，将3D图档导入机器中，机器软件处理3D图档，人工调整相关的加工参数，将电脑与机器联通(电脑控制机器运动或者脱机运动)，按压机器的启动按键后(机器自动运行路径)，且启动水循环系统，机器主机板将刀路的路径生成脉冲信号，发给运动控制的电机控制器，电机控制器按照主板给出的数据，控制电机运动到对应的相关数值即可。出错时会反馈到主机板，按照程序加工完成后自动停止运行，返回到安全位置。整体为铝型材支撑的框架，进口IAI高精度伺服控制轴3条，设置有水循环系统，通过加入纯净水，通过循环器将水流到工件表面，起到降温，冷却，润滑等作用。并且保证抛光后的不被氧化，保护作用。模具以及精密部件(光学部件)、虽然现在还在用人工手研磨，无人研磨可减少30％的工序、从而实现QCD的提案；切割以及研磨后，在机上进行镜面研磨，可大步提升工作效率，缩短工程；斜度行程已经可以通过XY平面指定来实现。可以低压到定压抛光，并且不需要专用的设备，解放研磨颗粒通过改变研磨附件来达到纳米等级。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新纳米级钻石抛光机设备，包括纵向气缸、纵向履带、上平台、立柱、操作台、电缆托架、横向气缸、导轨、导轨电机和工作台，其特征在于：上平台左侧竖直方向设置有纵向履带，纵向履带右侧设置有纵向气缸，上平台设置在工作台后部，上平台与工作台之间的左右两侧各设置有1根立柱，上平台上设置有电缆托架，电缆托架下部设置有横向气缸，横向气缸右侧设置有导轨，导轨的下部设置有导轨电机，工作台的前部设置有操作台。

【技术特征摘要】
1.一种新纳米级钻石抛光机设备，包括纵向气缸、纵向履带、上平台、立柱、操作台、电缆托架、横向气缸、导轨、导轨电机和工作台，其特征在于：上平台左侧竖直方向设置有纵向履带，纵向履带右侧设置有纵向气缸，上平台设置在工作台后部，上平台与工作台之间的左右两侧各设置有1根立柱，上平台上设置有电缆托架，电缆托架下部设置有横向气缸，横向气缸右侧设置有导轨，导轨的下部设置有导轨电机，工作台的...

【专利技术属性】
技术研发人员：安代春，
申请(专利权)人：深圳市斯普雷博科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44