一种d制造技术

技术编号:15781083 阅读:338 留言:0更新日期:2017-07-09 00:37
本发明专利技术涉及一种d

A kind of D

The invention relates to a D

【技术实现步骤摘要】
一种d10过渡金属炔化物二维纳米片及其制备方法
本专利技术涉及一种d10过渡金属炔化物二维纳米片及其制备方法,所述d10过渡金属炔化物二维纳米片,具有单晶结构,厚度均一,分散性良好,在催化、光电以及生物等领域有潜在应用前景,属于纳米材料

技术介绍
纳米科学与纳米技术的发展日益影响着现代科学技术的发展,并对人们的日常生活产生了巨大的影响。自从石墨烯在实验上被成功制备出来以来,二维纳米材料引起了人们广泛的研究兴趣。与传统的零维纳米颗粒以及一维纳米线相比,二维平面纳米材料具有更好的加工性,能在其上加工各种复杂结构。因此,可以实现对二维材料的各种工艺处理,如悬涂、负载等。这些微加工领域成熟的工艺都有望移植到二维材料的加工上。另一方面,二维纳米材料常常表现出独特的性质,如能带呈现狄拉克锥的石墨烯具有极高的载流子迁移率,这些不同寻常的电子性质使得二维纳米材料在纳米光电子学领域、纳米催化领域、纳米生物领域及纳米能源领域等都将占有极重要的地位。受限于制备工艺,目前研究得最广的二维材料主要局限在石墨烯、黑磷、硼片、过渡金属二硫化物、过渡金属氮化物等,对于一些新型的二维纳米材料报道极少。可以预本文档来自技高网...
一种d

【技术保护点】
一种d

【技术特征摘要】
1.一种d10过渡金属炔化物二维纳米片,其特征在于,所述d10过渡金属炔化物二维纳米片具有单晶结构,所述d10过渡金属炔化物中d10过渡金属与炔源的摩尔比为1:1~1:1.2。2.根据权利要求1所述的d10过渡金属炔化物二维纳米片,其特征在于,所述d10过渡金属为Cu、Ag、Hg、Pd中的至少一种。3.根据权利要求1或2所述的d10过渡金属炔化物二维纳米片,其特征在于,所述炔源为乙炔、丙炔、丁炔中的至少一种。4.根据权利要求1至3中任一项所述的d10过渡金属炔化物二维纳米片,其特征在于,所述d10过渡金属炔化物二维纳米片的厚度为3~8纳米,片径为50~300纳米。5.一种权利要求1至4中任一项所述的d10过渡金属炔化物二维纳米片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤:将d10过渡金属的可溶性金属盐溶于水中得到溶液A;将炔源溶于溶剂中得到炔源溶液,然后将螯合剂溶于所...

【专利技术属性】
技术研发人员:张辰魏晨阳步文博施剑林
申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
类型:发明
国别省市:上海,31

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