能有效减少大理石横梁长度的方法技术

本发明专利技术涉及一种方法，尤其是一种能有效减少大理石横梁长度的方法，属于直写式光刻胶的技术领域。按照本发明专利技术提供的技术方案，所述能有效减少大理石横梁长度的方法，包括大理石横梁以及安装于所述大理石横梁上的光路轴，在大理石横梁的下方设有左台面以及右台面，所述左台面、右台面在大理石横梁下方呈并置式放置；在进行曝光时，放置于左台面上的左台面板体与放置于右台面上的右台面板体呈对称式放置。本发明专利技术有效减少大理石横梁的长度，减少占用面积，降低光刻机的重量，提高光刻机安装环境的适应能力，减小光路轴的行程，降低光光刻机的成本。

Method for effectively reducing the length of marble beam

The invention relates to a method, in particular to a method for effectively reducing the length of a marble beam, belonging to the technical field of direct writing photoresist. According to the technical scheme provided by the invention, the method can effectively reduce the length of the beam of marble, including marble and marble beams arranged on the beam of the optical axis, below the marble beam is provided with a left and right table table, the left and the right table in the table below a marble beam collocated in place; exposure, the right panel left panel body is positioned on the left on the table and placed in the right table is symmetrical place. The invention can effectively reduce the marble beam length, reduce the occupied area, reduce the weight of the photoetching machine, improve the lithographic machine installation environment, reduce the optical path of shaft travel, reduce optical lithography cost.

【技术实现步骤摘要】
能有效减少大理石横梁长度的方法
本专利技术涉及一种方法，尤其是一种能有效减少大理石横梁长度的方法，属于直写式光刻胶的

技术介绍
直写式光刻机设备又称影像直接转移设备，是半导体及PCB生产领域中有别于传统半自动曝光设备的一个重要设备，是利用图形发生器取代传统光刻机的掩模板，从而可以直接将计算机的图形数据曝光到晶圆或PCB板上，节省制板时间和制作掩模板的费用，并且自身可用做掩模板的制作。目前，国内主流技术均使用DMD（数字微镜芯片）作为影像转移的核心器件。因DMD微镜尺寸限制，无法一次曝光覆盖整个电路板的范围，因此，需要分成不同条带曝光。条带拼接后构成完整的电路板图形。在新一代的直写式光刻设备中，为提高产能，可采用双台面结构进行扫描曝光。在双台面结构中，左右台面均靠近同一侧放板，由于光路结构不同，实际曝光图形可能会超出台面的范围。因光路结构设计的不同，以及实际生产时使用的曝光图形尺寸的不同，可能会出现曝光图形的尺寸超出台面范围的情况，超出台面范围的大小，称为富余量。双台面在靠近同一侧放板时，实际所需要的大理石横梁的长度，不仅取决于左右台面的宽度，还有留有一定的富余量。
技术实现思路
本专利技术的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种能有效减少大理石横梁长度的方法，其有效减少大理石横梁的长度，减少占用面积，降低光刻机的重量，提高光刻机安装环境的适应能力，减小光路轴的行程，降低光光刻机的成本。按照本专利技术提供的技术方案，所述能有效减少大理石横梁长度的方法，包括大理石横梁以及安装于所述大理石横梁上的光路轴，在大理石横梁的下方设有左台面以及右台面，所述左台面、右台面在大理石横梁下方呈并置式放置；在进行曝光时，放置于左台面上的左台面板体与放置于右台面上的右台面板体呈对称式放置。所述左台面板体、右台面板体为PCB板或晶圆。所述大理石横梁通过横梁支撑立柱安装于平台底座上，在所述平台底座上还设有与左台面、右台面配合的台面导轨。本专利技术的优点：左台面板体在左台面上的放置位置与右台面板体在右台面上的放置位置呈对称式放置，从而能有效降低大理石横梁的长度，从而减小平台底座的占地面积，通过大理石横梁的长度减小，能降低整个光刻机的质量，使得光刻机可以适应多变的安装环境，此外，大理石横梁的长度减小后，能使得光路轴的行程减小，降低光刻机的成本，提高曝光效率，安全可靠。附图说明图1为本专利技术光路轴、大理石横梁与左台面、右台面间的位置示意图。图2为现有放板曝光条带的示意图。图3为本专利技术放板曝光的示意图。图4为现有放板且图形尺寸超过正常要求时的条带示意图。图5为本专利技术放板且图形尺寸超过正常要求时的条带示意图。图6为本专利技术光路轴、大理石横梁和左台面、右台面间的结构示意图。附图标记说明：1-光路轴、2-大理石横梁、3-左台面、4-右台面、5-条带、6-横梁支撑立柱、7-平台底座以及8-台面导轨。具体实施方式下面结合具体附图和实施例对本专利技术作进一步说明。如图1、图3和图6所示：为了有效减少大理石横梁2的长度，减少占用面积，降低光刻机的重量，提高光刻机安装环境的适应能力，减小光路轴1的行程，降低光光刻机的成本，本专利技术包括大理石横梁2以及安装于所述大理石横梁2上的光路轴1，在大理石横梁2的下方设有左台面3以及右台面4，所述左台面3、右台面4在大理石横梁2下方呈并置式放置；在进行曝光时，放置于左台面3上的左台面板体与放置于右台面4上的右台面板体呈对称式放置。具体地，所述大理石横梁2通过横梁支撑立柱6安装于平台底座7上，在所述平台底座7上还设有与左台面3、右台面4配合的台面导轨8。左台面3、右台面4能支撑在对应的台面导轨8上，并能在台面导轨8上运动，横梁支撑立柱6分别位于左台面3、右台面4间的外侧，横梁支撑立柱6在平台底座7上呈竖直放置，大理石横梁2固定支撑在横梁支撑立柱6的顶板，一般地，大理石横梁2呈矩形状，光路轴1安装于大理石横梁2上，光路轴1上设置用于曝光的光路，光路轴1在大理石横梁2上能沿大理石横梁2的长度方向运动，光路能跟随光路轴1同步运动，以满足对左台面3、右台面4上的左台面板体、右台面板体的曝光。具体实施时，所述左台面板体、右台面板体为PCB板或晶圆。一般地，左台面3、右台面4的形状、尺寸等完全相同。左台面3、右台面4间具有台面对称轴，本专利技术实施例中，放置于左台面3上的左台面板体与放置于右台面4上的右台面板体呈对对称式放置，具体是指，左台面3上的左台面板体与右台面4上的右台面板体关于左台面3与右台面4间的台面对称轴对称，如，当左台面台板在左台面3上靠左边放置时，右台面台面在右台面4上则靠右台面4的右侧放置，以形成对称放置的形式。此外，左台面台板还可以在左台面3上靠中间位置放置或靠右侧放置，无论左台面台板在左台面3上采用何种位置放置，右台面台板在右台面4上的放置位置与左台面台板呈对称放置即可，具体位置可以根据需要进行，不再一一列举。图1中，光路固定在光路轴1上，光路轴1安装在大理石横梁2上方，光路可以沿着光路轴1自由移动。光路轴1移动区间，必须覆盖左台面3、右台面4的范围。一般地，工作之前，光路轴1和左台面3、右台面4均处于待机位置；光路轴1待机位置为行程（光路轴1的行程是指在大理石横梁2上的移动范围）正中间，光路轴1在左台面3上的待机位置位于左台面3的最左侧，光路轴1在右台面4上的待机位置位于右台面4的最右侧。对左台面4曝光时，左台面3移动至光路下方的曝光位置，同时光路轴1移动至左台面3起始位置（即做条码的最左侧），开始曝光；左台面3曝光过程中，右台面4移动至曝光开始位置；左台面3曝光结束后，光路轴1由左侧起始位置，移动至右侧起始位置，以便对右台面4开始曝光，对右台面4曝光的过程与左台面3曝光过程相一致，此处不再赘述。如图2所示，正常曝光需要若干个条带（此处以3个条带为例），左台面台板在左台面3上以左台面3的左下角定位时，右台面台板在右台面4上以右台面4的左下角定位，正常尺寸的台板，在光路轴1带动光路在大理石横梁2上移动时，大理石横梁2的长度基本只取决于左左台面3、右台面4的宽度。如图3所示，本专利技术左台面板体、右台面板体采用对称式放置的示意图，其中，左台面板体在左台面3上以左台面3的左下角定位时，右台面板体在右台面4上以右台面4的右下角定；在正常曝光时，大理石横梁2的长度同样只取决于左左台面3、右台面4的宽度。如图4所示，具体实施时，PCB厂根据实际需求，会生产一些超过正常宽度范围的板子，此时，3个条带已经无法满足使用，需要再增加一个条带。曝光左台面3的第4条带时，不会增加大理石横梁2的长度。但是在右台面4的曝光第4条带时，如果不增加大理石横梁2的长度，会因为光路的结构，导致光路与横梁支撑立柱6的干涉。因此，如果台板采用现有的放置方式，必须增加大理石横梁2的长度，即将横梁支撑立柱6在右台面4的外侧外移，满足对右台面4上的第4条带的曝光需求，此时，才能满足PCB厂生产需求。如图5所示，为采用本专利技术实施例中对称放板的示意图，即左台面3以左下角为定位点放板，右台面4以右下角为定位点放板，当光路曝光第4条带时，光路超出右台面4的行程，因为在光路轴1正中间，没有光路与横梁支撑立柱6产生干涉的风险。左台面3与右台面4一样，从而可以有效减少大理石横本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种能有效减少大理石横梁长度的方法，包括大理石横梁（2）以及安装于所述大理石横梁（2）上的光路轴（1），在大理石横梁（2）的下方设有左台面（3）以及右台面（4），所述左台面（3）、右台面（4）在大理石横梁（2）下方呈并置式放置；其特征是：在进行曝光时，放置于左台面（3）上的左台面板体与放置于右台面（4）上的右台面板体呈对称式放置。

【技术特征摘要】
1.一种能有效减少大理石横梁长度的方法，包括大理石横梁（2）以及安装于所述大理石横梁（2）上的光路轴（1），在大理石横梁（2）的下方设有左台面（3）以及右台面（4），所述左台面（3）、右台面（4）在大理石横梁（2）下方呈并置式放置；其特征是：在进行曝光时，放置于左台面（3）上的左台面板体与放置于右台面（4）上的右台面板体呈对称...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁征，王艳升，
申请(专利权)人：无锡影速半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32