一种负性光刻胶制造技术

一种负性光刻胶，其由按照质量份数计算的下列组分组成：透明高折射率光敏碱溶性树脂A 100份；光引发剂B 0.005~20份；活性稀释剂C 10~80份；溶剂D20‑60份；所述透明高折射率光敏碱溶性树脂A由脂环族环硫丙烯酸树脂a1用酸酐类固化剂a2改性后得到的；所述脂环族环硫丙烯酸树脂a1是脂环族环硫单体a11与烯丙基丙烯酸类化合物a12共聚而成；所述脂环族环硫单体a11由脂环族环氧单体a111置换得到。本发明专利技术负性光刻胶，在保证树脂具有光敏性、碱溶等特性的同时，使体系达到透明，提高了树脂的折射率，能有效应用于负性光刻胶中，增加了光刻胶的消影特性。

【技术实现步骤摘要】
一种负性光刻胶
本专利技术涉及一种负性光刻胶。
技术介绍
光刻胶是一种感光材料，是利用光化学反应进行图形转移的媒体，主要应用于集成电路，封装，光电子器件光子器件，平板显示等领域。光刻胶主要由成膜树脂、光引发剂和溶剂助剂及填料等组成的对光敏感的混合液体。根据化学反应机理和显影原理，光刻胶可分为正性光刻胶和负性光刻胶两类。负性光刻胶经曝光后发生聚合反应，生成不可溶性物质。曝光前光刻胶是线形高分子化合物，在有机溶剂中可溶解；曝光后，高分子化合物发生交联形成三维网状结构，成为不可溶的物质，从而形成与掩膜板相反的负图像。与正性光刻胶相比，负性光刻胶的分辨率要差些，但具有针孔少、腐蚀图形精度高、耐酸碱性好，与基片粘附性特别好以及灵敏度高而稳定等优点。负性光刻胶主要由成膜树脂、活性稀释剂、光引发剂、溶剂等组成，其中成膜树脂是光刻胶的骨架和基础材料，它对光刻胶有决定性的影响。含有乙烯基的高聚物常常被用作光聚合体系的成膜树脂，其所含的双键，易被受光照激发的自由基引发打开，产生类似于链增长的快速反应，使线型高分子瞬间交联形成网状结构。这类感光树脂通常具有以下特性：（1）环氧类树脂的分子结构决定其具有良好本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种负性光刻胶，其由下列组分组成：透明高折射率光敏碱溶性树脂A；光引发剂B；活性稀释剂；溶剂D。

【技术特征摘要】
1.一种负性光刻胶，其由下列组分组成：透明高折射率光敏碱溶性树脂A；光引发剂B；活性稀释剂；溶剂D。2.根据权利要求1所述的负性光刻胶，其特征在于，该负性光刻胶由按照质量份数计算的下列组分组成：透明高折射率光敏碱溶性树脂A100份；光引发剂B0.005~20份；活性稀释剂C10~80份；溶剂D20-60份。3.根据权利要求1或2所述的负性光刻胶，其特征在于，所述透明高折射率光敏碱溶性树脂A由脂环族环硫丙烯酸树脂a1用酸酐类固化剂a2改性后得到的；所述脂环族环硫丙烯酸树脂a1是脂环族环硫单体a11与烯丙基丙烯酸类化合物a12共聚而成；所述脂环族环硫单体a11由脂环族环氧单体a111置换得到。4.根据权利要求3所述的负性光刻胶，其特征在于，上述脂环族环氧单体a111是下述物质中的一种或者多种的混合物：3,4-环氧环己基甲基3,4-环氧环己基甲酸酯、双((3,4-环氧环己基)己二酸酯、1,4-环己烷二甲醇双(3,4-环氧环己烷甲酸)酯、2-(3,4-环氧环己基)-5,5-螺(3,4-环氧环己基)-1,3-二氧六环、1,2-环己醇二缩水甘油醚、1,4-环己烷二甲醇二缩水甘油醚。5.根据权利要求3所述的负性光刻胶，其特征在于，上述烯丙基丙烯酸类化合物a12为下述通式1所示的甲基丙烯酸或丙烯酸：[通式1]上述通式1中，X为氢或甲基。6.根据权利要求3所述的负性光刻胶，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：尤慧，顾奇，王胜林，
申请(专利权)人：深圳市道尔顿电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44