光压印树脂组合物、光压印树脂膜以及图案化制程制造技术

一种光压印树脂组合物、光压印树脂膜以及图案化制程。所述光压印树脂组合物包括酚醛树脂、具有压克力基团的单体、具有压克力基团的聚合物或其混合物以及自由基型光聚合起始剂。酚醛树脂具有介于500至50000的重均分子量，且酚醛树脂不与具有压克力基团的单体以及具有压克力基团的聚合物发生反应。

【技术实现步骤摘要】
光压印树脂组合物、光压印树脂膜以及图案化制程
本专利技术涉及一种光压印树脂组合物、光压印树脂膜与图案化制程。
技术介绍
在集成电路蓬勃发展的今日，元件缩小化与集成化是必然趋势，也是各界积极发展的重要课题。微影蚀刻制程在集成电路制程中扮演重要角色。然而，在传统微影蚀刻制程中，通常使用光微影方式透过光罩进行曝光、显影，将光致抗蚀剂(photoresist)制作成蚀刻遮罩，再进行蚀刻制程，将线路或特定结构转写到元件上。然而，由于利用光致抗蚀剂微影方式制作的蚀刻遮罩，其结构的尺寸与深宽比存在光学极限，因此在以蚀刻处理来形成具有高深宽比的微纳米结构时可能出现瓶颈。此外，随着更精细图案制作的需求，光微影制程所使用的曝光机台，价格往往十分昂贵。相较于传统的光微影制程，光压印制程具有生产速度较快的优点。此外，针对基板尺寸增大与应用元件图案精细化的要求，光压印制程的机台调整亦较具弹性，因此可望成为未来的主流技术。值得注意的是，光压印制程中所使用的光压印胶为制程的关键材料，其对于压印成型品质、压印残余层的降低以及制作良率均具有一定程度的影响。
技术实现思路
本专利技术提供一种光压印树脂组合物，其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光压印树脂组合物，包括：酚醛树脂，具有500至50000的重均分子量；具有压克力基团的单体、具有压克力基团的聚合物或所述具有压克力基团的单体与所述具有压克力基团的聚合物的混合物；以及自由基型光聚合起始剂，其中所述酚醛树脂不与所述具有压克力基团的单体以及所述具有压克力基团的聚合物发生反应。

【技术特征摘要】
2015.12.16 TW 1041422301.一种光压印树脂组合物，包括：酚醛树脂，具有500至50000的重均分子量；具有压克力基团的单体、具有压克力基团的聚合物或所述具有压克力基团的单体与所述具有压克力基团的聚合物的混合物；以及自由基型光聚合起始剂，其中所述酚醛树脂不与所述具有压克力基团的单体以及所述具有压克力基团的聚合物发生反应。2.如权利要求1所述的光压印树脂组合物，其中所述酚醛树脂包括至少一个由式1表示的重复单元，其中R为氢原子或甲基。3.如权利要求2所述的光压印树脂组合物，其中所述酚醛树脂包括由式2表示的结构，其中R为氢原子或甲基，且n为4至400的整数。4.如权利要求1所述的光压印树脂组合物，其中以100重量份的所述酚醛树脂计，所述具有压克力基团的单体、所述具有压克力基团的聚合物或所述具有压克力基团的单体与所述具有压克力基团的聚合物的混合物的含量为10重量份至1000重量份。5.如权利要求1所述的光压印树脂组合物，其中以100重量份的所述酚醛树脂计，所述自由基型光聚合起始剂的含量为1重量份至80重量份。6.如权利要求1所述的光压印树脂组合物，其中所述自由基型光聚合起始剂包括苯乙酮系化合物、酰基氧化膦系化合物、肟酯系化合物或其组合。7.如权利要求1所述的光压印树脂组合物，其中所述具有压克力基团的单体包括异冰片丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯乙酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸1-萘酯或(甲基)丙烯酸2-萘酯、(甲基)丙烯酸1-萘基甲酯或(甲基)丙烯酸2-萘基甲酯、(甲基)丙烯酸1-萘基乙酯或者(甲基)丙烯酸2-萘基乙酯、(甲基)丙烯酸1-萘氧基乙酯或者(甲基)丙烯酸2-萘氧基乙酯、二甘醇单乙醚(甲基)丙烯酸酯、二羟甲基二环戊烷二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸化异三聚氰酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、烯丙氧基聚乙二醇丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、改性双酚A二(甲基)丙烯酸酯、双酚F二(甲基)丙烯酸酯...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴耀庭，陈品诚，
申请(专利权)人：财团法人工业技术研究院，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71