具有抗反射性和高碳含量的聚合物及含有该聚合物的硬掩模组合物以及形成图案化材料层的方法技术

提供了抗反射硬掩模组合物。所述硬掩模组合物含有有机溶剂、引发剂、和由式Ａ、式Ｂ或式Ｃ表示的至少一种聚合物，这些在说明书中有描述。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
实施方式涉及具有抗反射性和高碳含量的聚合物、含有该聚合物的硬掩模(hardmask)组合物、形成图案化材料层的方法、以及有关的装置。
技术介绍
可以将抗反射涂层(ARC)材料加入平版印刷操作过程中使用的成像层 中，以将制造装置过程中成像层与目标材料层之间的反射率最小化。然而， 当加入ARC材料的成像层与目标材料层具有相似的组成时，成像层会显示 出很差的蚀刻选择性，使得在蚀刻目标材料层的过程中部分成像层会损耗。 因此，可以包括硬掩模作为中间层，该硬掩模设置在成像层和目标材料层之 间。硬掩模可以从上面的成像层接受图案，并可被用于将图案转移至下面的 材料层。然而，需要显示抗反射性能的硬掩模材料。于2006年12月30日提交至韩国知识产权局的、专利技术名称为"HighEtch Resistant Hardmask Composition Having Antireflective Properties with High Carton Content and Method for Forming Patterned Material Layer Using the Same (具有高抗发本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双苯基芴主链聚合物，该聚合物由式Ａ表示：　＊＊＊　（Ａ），　其中：　芴基为未取代的或取代的，　ｍ为至少１并小于约７５０，　ｎ为至少１并小于约７５０，　Ｒ↓［１］为亚甲基或包括含非芴芳基的连接基团，　Ｒ↓［２］为氧或具有１至约７个碳的烷氧基，其中烷氧基的氧与氢Ｈ或基团Ｇ结合，且　Ｇ为乙烯基或烯丙基。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹敬皓，金钟涉，鱼东善，吴昌一，邢敬熙，金旼秀，李镇国，
申请(专利权)人：第一毛织株式会社，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]