The present invention provides a photoresist baking equipment, which comprises a box body, the box body are respectively provided with different heating temperature first baking zone and second baking zone is provided with a first baffle arranged between the first and second baking baking zone area, the first area and the second area baking baking is respectively provided with at least two heater in the box; the first area is arranged at the lower part in baking glass placed in the lower part of the box body, is located in the second district is provided with a baking and glass is arranged in the position corresponding to the glass outlet, the first baking area and second baking zone are respectively provided with a first transmission mechanism and the second transmission mechanism in the first transmission mechanism and transmission mechanism are respectively arranged on the second row for the transmission frame is fixed between the first glass frame, transmission mechanism and the second transmission mechanism of the upper and lower ends are respectively provided with a rear conveying mechanism. Compared with the prior art, the temperature control of the different regions is adopted to prolong the time of the melt flow required for the smooth layer photoresist, and to improve the flatness of the flat layer.
【技术实现步骤摘要】
光阻烘烤设备
本专利技术涉及一种液晶面板生产技术,特别是一种用光阻烘烤设备。
技术介绍
现阶段液晶显示业ColorFilter(CF彩膜)制程中,有一道制程相对比较重要,即OverCoat(OC平坦层)制程,简称OC制程,该制程作用为隔绝有金属元素的RGB,防止污染液晶,以及作为平坦层使液晶排布更均匀,显示效果更佳,该制程和其他黄光制程不同,整面存留,无需进行曝光显影过程,制程相对比较简单,整个制作过程只有基板清洗,涂布、真空干燥和烘烤过程,其中烘烤分为预烘烤和后烘烤。预烘烤为使用热板接触式烘烤,温度低于后烘烤装置,仅起到初步固化作业,减少后烘烤部分化学质析出,由于单片腔式(单片所占空间较大)烘烤,为满足整条产线的节拍,实际烘烤时间较短,实际功能性较低。后烘烤为热风烘烤炉,实际烘烤温度较高(为了使光阻彻底固化,且将大部分无用化学物质析出),由于使用CenterFork形式(单片所占空间较小),可以大批量烘烤,烘烤时间可以很长,而且OC制程最重要的制程参数——平坦度,主要影响的是光阻熔体流动(MeltFlow)阶段,OC的光阻在一定温度后会软化具有流动性,在固化温度前,光阻都会具有一定流动效应,以现有的预烘烤和后烘烤装置,制程只能设定一个温度,所有玻璃进出后按同一升温曲线进行,相对的MeltFlow时间很短,无法达到预期要求,从常温加热至指定温度非常快,均无法达到平坦层流平所需的MeltFlow时间需求。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本专利技术提供一种光阻烘烤设备,从而提高平坦层的平坦度。本专利技术提供了一种光阻烘烤设备,包括箱体,所述箱体内分别设有加热 ...
【技术保护点】
一种光阻烘烤设备,其特征在于:包括箱体(1),所述箱体(1)内分别设有加热温度不同的第一烘烤区(2)和第二烘烤区(3),在第一烘烤区(2)和第二烘烤区(3)之间设有竖向设置的第一隔板(19),所述第一烘烤区(2)与第二烘烤区(3)内分别设有至少二个加热器(4),所述第一烘烤区(2)的加热温度从下至上逐步升高,第二烘烤区(3)的加热温度从上至下逐步升高;在箱体(1)的下部位于第一烘烤区(2)处设有玻璃放置口(5),箱体(1)的下部位于第二烘烤区(3)处设有与玻璃放置口(5)位置相对应的玻璃取出口(6),所述第一烘烤区(2)以及第二烘烤区(3)分别设有可带动玻璃支架(7)垂直上升或下降的第一传送机构、第二传送机构,在第一传送机构与第二传送机构上分别设有多排用于固定玻璃支架(7)的传送架(8),传送架(8)分别与玻璃放置口(5)以及玻璃取出口(6)相对,所述第一传送机构与第二传送机构之间的上下两端后侧分别设有输送机构,所述输送机构用于将第一烘烤区(2)的玻璃支架(7)输送至第二烘烤区(3)或将第二烘烤区(3)内的玻璃支架(7)输送至第一烘烤区(2),在第一隔板(19)上位于输送机构处设有输送 ...
【技术特征摘要】
1.一种光阻烘烤设备,其特征在于:包括箱体(1),所述箱体(1)内分别设有加热温度不同的第一烘烤区(2)和第二烘烤区(3),在第一烘烤区(2)和第二烘烤区(3)之间设有竖向设置的第一隔板(19),所述第一烘烤区(2)与第二烘烤区(3)内分别设有至少二个加热器(4),所述第一烘烤区(2)的加热温度从下至上逐步升高,第二烘烤区(3)的加热温度从上至下逐步升高;在箱体(1)的下部位于第一烘烤区(2)处设有玻璃放置口(5),箱体(1)的下部位于第二烘烤区(3)处设有与玻璃放置口(5)位置相对应的玻璃取出口(6),所述第一烘烤区(2)以及第二烘烤区(3)分别设有可带动玻璃支架(7)垂直上升或下降的第一传送机构、第二传送机构,在第一传送机构与第二传送机构上分别设有多排用于固定玻璃支架(7)的传送架(8),传送架(8)分别与玻璃放置口(5)以及玻璃取出口(6)相对,所述第一传送机构与第二传送机构之间的上下两端后侧分别设有输送机构,所述输送机构用于将第一烘烤区(2)的玻璃支架(7)输送至第二烘烤区(3)或将第二烘烤区(3)内的玻璃支架(7)输送至第一烘烤区(2),在第一隔板(19)上位于输送机构处设有输送口(21)。2.根据权利要求1所述的光阻烘烤设备,其特征在于:每排传送架(8)包括至少两个开口与玻璃支架(7)相对并且水平设置的C型支架(9),在C型支架(9)开口的上下两端分别设有相对设置的滚筒导轨(10),所述滚筒导轨(10)分别穿过每一个C型支架(9)的开口,在上下两个滚筒导轨(10)之间形成用于与玻璃支架(7)卡接的卡接部(11),至少一个滚筒导轨(10)上的滚筒连接有第二电机(31),第二电机(31)驱动滚筒将玻璃支架(7)输送至输送机构中。3.根据权利要求1所述的光阻烘烤设备,其特征在于:所述第一传送机构以及第二传送机构为链条传动,包括设于第一烘烤区(2)和第二烘烤区(3)上下其中一端的电机(12)、设于电机(12)输出轴上的主动齿轮(13)以及设于第一烘烤区(2)和第二烘烤区(3)另一端的从动齿轮(14),在主动齿轮(13)与从...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐彬,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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