一种以蒙脱土为模板制备纳米聚合物的方法技术

本发明专利技术提供了一种以蒙脱土为模板制备纳米聚合物的方法。采用蒙脱土ＭＭＴ的层间作为单体聚合的反应空间，将阴离子粘土蒙脱土的可插层性能应用到模板聚合反应中，先将聚合单体插层组装到蒙脱土ＭＭＴ层间，再以ＭＭＴ为模板，使聚合单体在模板内发生聚合反应，然后分离出聚合物。本发明专利技术的优点在于：聚合条件易于控制，聚合影响因素少，制备的聚合物具有纳米尺寸特点。该类聚合物在机械、光、电、磁、微处理器件、药物控释、环境保护、隐身材料、高性能涂层材料、纳米反应器及生物化学等方面将具有广阔的应用前景。

【技术实现步骤摘要】
所属领域本专利技术属于纳米聚合物
，特别是提供了。
技术介绍
纳米材料由于具有表面效应、体积效应、量子尺寸效应和宏观量子隧道效应而产生奇异的力学、电子、磁学、热学、光学和化学活性等特性，它既是一种新材料又是构成新材料的重要原料。因此，各国科学家把纳米材料的开发和研制作为重点发展的新材料领域，例如日本的“创造科学技术推进事业”、美国的星球大战计划和西欧的尤里卡计划等。近年来，纳米材料的制备方法的探索已成为纳米材料研究的热点。目前纳米聚合物材料的制备的方法很多，如分子自组装、机械粉碎、有机合成、微乳液聚合、模板聚合等等，其中模板法可以有效控制聚合物的形貌和粒径且成本低，易于控制。模板法是指选择一种物质为“模”促使组分在模内生长或围绕模生长，材料的几何参数将受到模板的限制。因此改变模板的形状和尺寸可以实现产物结构的预期可控。采用具有纳米微孔的膜如聚碳酸脂、Al2O3膜等或无机层状的粘土作为模板，使单体在这些具有纳米尺度的微孔或层间隙内聚合，形成纳米聚合物管状、线状或层状结构的材料。模板法在制备纳米聚合物的研究工作中更为广泛和有效。本工作采用了蒙脱土(montmorillonite简称M本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种以蒙脱土为模板制备纳米聚合物的方法，其特征在于：将阴离子粘土蒙脱土的可插层性能应用到模板聚合反应中，先将聚合单体插层组装到蒙脱土ＭＭＴ层间，再以ＭＭＴ为模板，使聚合单体在模板内发生聚合反应，然后分离出聚合物；具体制备步骤如下：　　　　ａ、将聚合单体滴入蒙脱土水溶液中，溶液质量浓度为３－７％，搅拌６～２４小时，搅拌温度为２０～８０℃，水洗至滤液中聚合单体浓度达１～９ｐｐｍ摩尔／升，然后在６０～８０℃干燥１８～２５小时，得到层间客体为所插入聚合单体的蒙脱土模板；用红外光谱ＩＲ，核磁ＮＭＲ，ｘ－射线衍射ＸＲＤ表征手段证明单体插层组装到了蒙脱土的层间；　　　　ｂ、将步骤ａ得到的模板ＭＭＴ－聚合单体...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王戈，冯莉，
申请(专利权)人：北京科技大学，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]