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本发明提供了一种以蒙脱土为模板制备纳米聚合物的方法。采用蒙脱土ＭＭＴ的层间作为单体聚合的反应空间，将阴离子粘土蒙脱土的可插层性能应用到模板聚合反应中，先将聚合单体插层组装到蒙脱土ＭＭＴ层间，再以ＭＭＴ为模板，使聚合单体在模板内发生聚合反应，...
该专利属于北京科技大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京科技大学授权不得商用。

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