一种分子印迹聚合物的制备方法技术

一种分子印迹聚合物的制备方法，将０．５－５．０份的模板分子溶于２０－２００份氯仿中，然后加入一种或二至六种单体混合物０．５－５０．０份，以及１２．５－７５份的交联剂甲基丙烯酸乙二醇双酯（ＥＤＭＡ），通入氮气，于冰浴中，真空状态下置于辐射场内完成单体辐射和本体聚合。辐射源是［６０］↑Ｃｏγ－射线，以距辐射中心的距离调节辐射强度。在不同辐照强度下聚合１－１０小时，辐照总剂量为０．７－７．０ｋＧｙ，可得棒型刚性聚合物。本发明专利技术的制备方法简单可靠，得到的分子印迹聚合物具有较强的分子识别特性，用于外消旋体的手性拆分能力要优于常规方法制备的ＭＩＰ，具有很强的应用价值。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及分子印迹聚合物的一种新的制备方法。
技术介绍
分子印迹是近年来基于分子识别基础上发展起来的一种新的功能聚合物合成技术，有时又被称为模板合成。分子印迹聚合物(molecularimprinting polymer，MIP)内部具有与模板分子相适配的空穴和基团，即它对模板分子的立体结构和形状具有记忆功能，因而能选择性地识别模板分子(K.Haupt，Chem.Commun.，2003，2171-178)。MIP的制备是由功能单体、印迹分子(亦称模板分子)、及交联剂，在致孔剂的存在下进行共聚合，然后除去印迹分子与致孔剂而得到。由于MIP制备方便，适应范围广以及成本较低等特点，引起人们愈来愈多的关注，并已在色谱填料、人工受体、模拟酶、催化剂、以及传感器等领域获得了应用。然而，由于方法本身的局限性，MIP也存在着一些急需解决的问题。其中一个比较突出的问题是，除已成功的一些事例外，用现有的方法合成的MIP材料对印迹分子的选择性时高时低，换言之，MIP材料有时选择性较差，影响了分子印迹的成功率。目前，分子印迹聚合物不论采用何种方法合成，选用的功能单体多是甲基丙烯酸(MAA)或4-乙本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分子印迹聚合物的制备方法：将０．５－５．０份的印迹分子溶于２０－２００份氯仿中，然后加入一种以上功能单体０．５－５０．０份，以及１２．５－７５份的交联剂，通入氮气，于冰浴中，真空状态置于辐射源的辐照场内，辐照总剂量为０．７－７．０ｋＧｙ，聚合反应１－１０小时，完成单体辐射和本体聚合；所述功能单体是甲基丙烯酸、甲基丙烯酸羟丙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丁酯、４－乙烯吡啶和丙烯酰胺；所述交联剂为双官能团或多官能团烯类单体。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：赵睿，陈志勇，刘祥军，刘国诠，
申请(专利权)人：中国科学院化学研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]