一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜技术

本发明专利技术涉及一种减反射膜的制备方法，包括以下步骤：步骤S100，在基底上，采用真空热沉积方法交替进行正入射沉积高折射率单层膜及低折射率单层膜；步骤S200，在最外层采用真空热沉积方法，以预设的入射沉积角度α倾斜沉积低折射率单层膜；其中，所述入射沉积角度α为基底法线方向与膜料蒸汽入射方向的夹角，所述预设的入射沉积角度α的取值范围为50°‑85°。利用该制备方法制得的减反射膜应用在扩束棱镜中，可有效提高大入射角时的透射率，降低残余反射率。

Method for preparing anti reflection film and large angle incidence antireflection film

The invention relates to a preparation method of antireflection film, which comprises the following steps: step S100, on the substrate by vacuum thermal deposition method is deposited alternately incident high refractive index films and low refractive index monolayer; step S200, in the outer layer by vacuum thermal deposition method with preset incident angle deposition a low refractive index of obliquely deposited monolayer; the angle of the incident angle for the normal direction of sedimentary basement membrane material and steam incident direction, the range of incident angle deposition the preset alpha is 50 degrees to 85 degrees. The antireflective film prepared by this method can be applied to the beam expander prism, which can effectively increase the transmissivity and reduce the residual reflectivity at large incidence angles.

【技术实现步骤摘要】
一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜
本专利技术涉及准分子激光应用
，尤其涉及一种减反射膜的制备方法及大角度入射减反射膜。
技术介绍
近年来，包括ArF准分子激光在内的准分子激光技术和应用获得了快速的发展，尤其是在极大规模集成电路光刻制备领域，具有十分重大的社会和经济价值。在准分子激光器中，为了实现窄的波长输出，需要采用线宽压窄光学模块。该模块是准分子激光腔内用于将放电产生的宽激光发射谱进行线宽压窄的关键核心部件，直接决定了ArF准分子激光器的输出线宽，而且对于准分子激光器的输出功率和偏振度也有影响，因此，直接影响准分子激光输出的光束质量和输出能量，同时也是激光腔内最容易被破坏的部分。由P偏振态激光光束在扩束棱镜之间的这种大角度斜入射将引起菲涅耳反射损耗的增加，其多次振荡产生的光学损耗会大大降低激光器的输出能量。为了降低上述扩束棱镜之间的光学损耗，有两种措施：第一种是在每个棱镜的入射面和出射面均镀制减反射射膜以减小表面的反射，从而增大每个棱镜的透过率，从而增大整个棱镜组的透过率；第二种是通过增大入射角度，进而增大扩束率，可以减少扩束棱镜的数量，从而减少反射的次数，降低总的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种减反射膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤S100，在基底上，采用真空热沉积方法交替进行正入射沉积高折射率单层膜及低折射率单层膜；步骤S200，在最外层采用真空热沉积方法，以预设的入射沉积角度α倾斜沉积低折射率单层膜；其中，所述入射沉积角度α为基底法线方向与膜料蒸汽入射方向的夹角，所述预设的入射沉积角度α的取值范围为50°‑85°。

【技术特征摘要】
1.一种减反射膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤S100，在基底上，采用真空热沉积方法交替进行正入射沉积高折射率单层膜及低折射率单层膜；步骤S200，在最外层采用真空热沉积方法，以预设的入射沉积角度α倾斜沉积低折射率单层膜；其中，所述入射沉积角度α为基底法线方向与膜料蒸汽入射方向的夹角，所述预设的入射沉积角度α的取值范围为50°-85°。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S100获得的膜系中，所述高折射率单层膜在深紫外波段的光学常数：在193nm波长的折射率为1.68-1.72，消光系数为0.0025-0.003。3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S100获得的膜系中，所述低折射率单层膜在深紫外波段的光学常数：在193nm波长的折射率为1.40-1.42，消光系数为0.0004-0.0006。4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S200获得的膜系中，所述入射沉积角度α为78°时，所述倾斜沉积低折射率单层膜的膜层厚度200nm以内，所述倾斜沉积的低折射率单层膜在深紫外波段的光学常数：在193nm波长的折射率为1.2111，消光系数为0.0005。5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于：在所述步骤S100中，采用钼舟或钽舟作为蒸发容器，镀膜基底选用紫外CaF2或蓝宝石紫外光学基底,本底真空度<10-6...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓文渊，金春水，靳京城，李春，
申请(专利权)人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，
类型：发明
国别省市：吉林,22