The invention discloses a pretreatment process of a flexible substrate, which comprises the following steps: preparing a sacrificial layer on a flexible substrate by ion beam etching; etching the sacrificial layer on a flexible substrate, until etched into the sacrificial layer and the critical surface of the flexible substrate; the ion beam polishing process for polishing flexible substrate etching after, until the surface smooth and flexible substrate. Through the preparation of a sacrificial layer, choose different material ratio by etching, optimizing the ion beam incident angle and the optimum etching parameters, completely eliminates the flexible substrate specific surface groove holes and other defects, solve the problem of traditional mechanical polishing or conventional semiconductor process and current ion beam technology is difficult to eliminate the surface defects of flexible substrate.
【技术实现步骤摘要】
一种柔性基底的预处理工艺
本专利技术属于柔性电子器件领域,具体涉及一种柔性基底的预处理工艺。
技术介绍
柔性电子以其独特的延展性以及高效、低成本制造工艺,在消费电子、医学仪器、能源电力和军事装备等领域有着广阔的发展和应用前景,目前产品有电子眼、柔性电子显示器、电子报纸以及柔性生物医疗装置等等。然而,柔性基底表面存在凹槽、孔洞等缺陷,会大大降低微细加工的精度,最终导致均匀性及一致性水平较差,影响器件可靠性,不能满足实际应用需求。因此,如何消除柔性基底存在的这些缺陷已成为柔性电子器件的研究重点。实际上,柔性基底预处理作为柔性电子器件的一项关键技术,已成为功能器件制备的必备工艺。然而,传统的机械抛光或半导体预处理工艺基本针对常规硬质基底,且只能去除基底表面的杂质、油污等,无法完全去除表面存在的凹槽、孔洞等缺陷。传统清洗方式是将基底进行化学清洗后,放入真空腔内进行离子束轰击预处理,通过轰击去除基底表面存在的杂质,这同样无法完全去除表面存在的凹槽、孔洞等缺陷。另外,现有技术普遍采用离子束进行基底处理,在真空条件下,将氩(Ar)、氪(Kr)、氙(Xe)等惰性气体通过离子源产生离子束,经加速、集束后,射到被加工表面上,剥离表层物质。可见,现有的离子束处理也只能去除表面的杂质,对于柔性基底的固有缺陷起不到消除的作用。因此,获得一种能够有效消除柔性基底表面存在的凹槽、孔洞等缺陷的处理技术,对提高柔性电子器件可靠性,使其更好的满足实际应用需要具有重要意义。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种能够有效消除柔性基底特有的凹槽或孔洞等缺陷的预处理工艺 ...
【技术保护点】
一种柔性基底的预处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)在柔性基底上制备牺牲层;(2)采用离子束刻蚀工艺对柔性基底上的牺牲层进行刻蚀,直至刻蚀到牺牲层与柔性基底的临界面;(3)采用离子束抛光工艺对步骤(2)中得到的柔性基底进行抛光,直至柔性基底表面平滑。
【技术特征摘要】
1.一种柔性基底的预处理工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)在柔性基底上制备牺牲层;(2)采用离子束刻蚀工艺对柔性基底上的牺牲层进行刻蚀,直至刻蚀到牺牲层与柔性基底的临界面;(3)采用离子束抛光工艺对步骤(2)中得到的柔性基底进行抛光,直至柔性基底表面平滑。2.根据权利要求1所述的柔性基底的预处理工艺,其特征在于,所述步骤(1)中,在制备牺牲层之前还包括对柔性基底进行展平。3.根据权利要求2所述的柔性基底的预处理工艺,其特征在于,所述展平采用的是真空吸附的方式。4.根据权利要求3所述的柔性基底的预处理工艺,其特征在于,所述柔性基底在固定支架上进行展平;所述固定支架包括基座(1)和盖板(3),所述基座(1)上设有用于放置柔性基底的凹槽(2),所述盖板(3)上设有用于溅射柔性基底的通孔,所述基座(1)与所述盖板(3)通过螺栓连接。5.根据权利要求4所述的柔性基底的预处理工艺,其特征在于,所述展平包括以下步骤:(a)将柔性基底放置于基座(1)上的凹槽(2)中;(b)抽真空,使得柔性基底完全展平;(c)盖上盖板(3),通过螺栓将基座(1)与盖板(3)连接,固定展平后的柔性基底。6.根据权利要求1~5中任一项所述的柔性基底的预处理工艺,其特征在于,所述步骤(1)中,所述牺牲层为光刻胶或玻璃膜。7.根据权利要求6所述的柔性基底的预处...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈伟,雷凯,何峰,陈浩,
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第四十八研究所,
类型:发明
国别省市:湖南,43
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