一种可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW‑E玻璃制造技术

一种可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW‑E玻璃，包括玻璃基层，所述玻璃基层上依次覆盖有第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层和第二介质层。所述第一介质层为Si3N4层，该第一介质层的厚度为10nm～100nm。所述第一阻挡层为NiCr层，该第一阻挡层的厚度为2nm～10nm。所述功能层为Ag层，该功能层的厚度为5nm‑15nm。所述第二阻挡层为NiCrNy层。所述第二介质层为ZrSi层。本实用新型专利技术中的第二阻挡层用于LOW‑E膜层的最外层保护层，使得膜层的耐高温、耐磨性能大大提高，膜层可以直接与钢化炉内的钢化辊轴接触不影响膜层的外观以及热学性能，具有耐高温、耐磨性能好的特点。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW-E玻璃。
技术介绍
玻璃幕墙越来越多的应用于高大建筑物，而玻璃幕墙原有不同面构成的直角连接也逐渐的被曲面连接所取代，曲面本身的结构可以分为朝外突出的凸形结构和朝内凹陷的凹形结构。目前，凸形结构曲面我们已经做的很好了，当LOW-E玻璃膜面向上的送进钢化炉，就可以得到我们想要的凸形结构曲面；其原因在于：玻璃在钢化过程中由于受热，都是向上弯曲的。但是，对于凹形结构来说，要么LOW-E玻璃翻过来进行反面安装，那么该玻璃的颜色就不能与其周围进行正面安装的玻璃的颜色有效匹配，于是相邻玻璃之间就会出现色差；要么LOW-E玻璃膜面向下的送进钢化炉，由于膜面直接与高温的钢化辊轴相接，从而导致膜层被烧乃至脱膜。因此，有关的设计师们也一致在规避这个玻璃幕墙的凹形结构问题。
技术实现思路
本技术的目的旨在提供一种耐高温、耐磨性能好的可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW-E玻璃，以克服现有技术中的不足之处。按此目的设计的一种可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW-E玻璃，包括玻璃基层，其结构特征是所述玻璃基层上依次覆盖有第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层和第二介质层。进一步，所述第一介质层为Si3N4层，该第一介质层的厚度为10nm～100nm。进一步，所述第一阻挡层为NiCr层，该第一阻挡层的厚度为2nm～10nm。进一步，所述功能层为Ag层，该功能层的厚度为5nm-15nm。进一步，所述第二阻挡层为NiCrNy层，该第二阻挡层的厚度为2nm～10nm。进一步，所述第二介质层为ZrSi层，该第二介质层的厚度为10nm～100nm。本技术中的玻璃基层上设置有镀膜层，该镀膜层包括第一介质层、第一阻挡层、功能层、第二阻挡层和第二介质层；其中，第一介质层为Si3N4层，该第一介质层的厚度为10nm～100nm；第一介质层能够提高膜层的物理性能和抗氧化性能。本技术中的第一阻挡层为NiCr层，通过直流电源溅射形成，用于阻挡氧离子和钠离子对Ag层的破坏。本技术中的功能层为Ag层，通过交流电源溅射形成，用于降低辐射率，提高玻璃的光学性能。本技术中的第二阻挡层为NiCrNy层，通过直流电源溅射形成，用氮气做反应气体，相对以往的产品，具有耐磨性好的特点。本技术中的第二介质层为ZrSi层能够提高膜层的物理性能和耐高温处理性能。综上所述，本技术中的第二阻挡层用于LOW-E膜层的最外层保护层，使得膜层的耐高温、耐磨性能大大提高，膜层可以直接与钢化炉内的钢化辊轴接触不影响膜层的外观以及热学性能，具有耐高温、耐磨性能好的特点。附图说明图1为本技术一实施例的局部剖切示意图。图中：1为玻璃基层，2为第一介质层，3为第一阻挡层，4为功能层，5为第二阻挡层，6为第二介质层。具体实施方式下面结合附图及实施例对本技术作进一步描述。参见图1，本可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW-E玻璃，包括玻璃基层1，所述玻璃基层1上依次覆盖有第一介质层2、第一阻挡层3、功能层4、第二阻挡层5和第二介质层6。在本实施例中，膜系结构为Glass-Si3N4-NiCr-Ag-NiCr-ZrSi。其中，Glass为玻璃基层。所述第一介质层2为Si3N4层，该第一介质层2的厚度为10nm～100nm。第一介质层通过交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl，其密度为96％，能够提高膜层的物理性能和抗氧化性能；其中，SiAl中的Si：Al的质量比为98:2。玻璃输送速度为3.5m/min。在本实施例中，第一介质层2厚度的优选为10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。所述第一阻挡层3为NiCr层，该第一阻挡层3的厚度为2nm～10nm。第一阻挡层通过直流电源溅射形成，用于阻挡氧离子和钠离子对Ag层的破坏。在本实施例中，第一阻挡层3厚度的优选为2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm中的一种。所述功能层4为Ag层，该功能层4的厚度为5nm-15nm。功能层4通过交流电源溅射形成，用于降低辐射率，提高玻璃的光学性能。在本实施例中，功能层4厚度的优选为5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm、15nm中的一种。所述第二阻挡层5为NiCrNy层，该第二阻挡层5的厚度为2nm～10nm。第二阻挡层通过直流电源溅射形成，用氮气做反应气体，相对以往的产品，具有耐磨性好的特点。在本实施例中，第二阻挡层5厚度的优选为2nm、3nm、4nm、5nm、6nm、7nm、8nm、9nm、10nm中的一种。所述第二介质层6为ZrSi层，该第二介质层6的厚度为10nm～100nm。第二介质层6通过交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料ZrSi，其密度为97％，提高膜层的物理性能和耐高温处理性能；其中，ZrSi中的Zr：Si的质量比为40：60。在本实施例中，第二介质层6厚度的优选为10nm、15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm、80nm、85nm、90nm、95nm、100nm中的一种。本技术通过不断的优化各种材料、气体的配比，提高了膜层的物理性能，使得膜层可以直接与钢化炉的钢化辊轴接触，解决了高层玻璃幕墙中的凹形结构相邻镀膜玻璃的配色问题。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW‑E玻璃，包括玻璃基层(1)，其特征是所述玻璃基层(1)上依次覆盖有第一介质层(2)、第一阻挡层(3)、功能层(4)、第二阻挡层(5)和第二介质层(6)；所述第一介质层(2)为Si3N4层，该第一介质层(2)的厚度为10nm～20或40～100nm；所述第一阻挡层(3)为NiCr层，该第一阻挡层(3)的厚度为5nm～10nm；所述功能层(4)为Ag层，该功能层(4)的厚度为5nm～8nm；所述第二阻挡层(5)为NiCrNy层，该第二阻挡层(5)的厚度为5nm～10nm。

【技术特征摘要】
1.一种可用于膜面与钢化辊轴接触的LOW-E玻璃，包括玻璃基层(1)，其特征是所述玻璃基层(1)上依次覆盖有第一介质层(2)、第一阻挡层(3)、功能层(4)、第二阻挡层(5)和第二介质层(6)；所述第一介质层(2)为Si3N4层，该第一介质层(2)的厚度为10nm～20或40～100nm；所述第一阻挡层(3)为NiCr层，该第一阻挡层(3)...

【专利技术属性】
技术研发人员：范亚军，周永文，王印，
申请(专利权)人：中山市格兰特实业有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44