湿式制程设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种湿式制程设备，包含一腔体、一输送机构、一喷洒模块、多个液浮载板以及一盛盘，所述腔体内形成有用以容置一基板的一腔室，所述输送机构对应所述基板的一侧边部并用以输送所述基板，所述喷洒模块设置在所述腔室内并用以对所述基板的一上表面喷洒一处理液，所述多个液浮载板设置在所述喷洒模块下方并用以对所述基板的一下表面喷射所述处理液，所述盛盘设置在所述多个液浮载板周围，所述盛盘盛装所述处理液，使盛装在所述盛盘的所述处理液漫淹所述基板的所述上表面。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种湿式制程设备，特别涉及一种可对基板进行双面制程的湿式制程设备。
技术介绍
一般而言，业界多采用湿式制程来对触控面板的玻璃基板进行加工，湿式制程例如为将玻璃基板经过蚀刻制程进行图案化的蚀刻或是经过清先制程进行表面清洗等。当玻璃基板在进行上述的湿式制程时，多利用滚轮同时对玻璃基板的板体及从板体延伸的侧边部进行固定与输送，且利用上喷头对玻璃基板的上表面喷洒处理液以及利用下喷头对玻璃基板的下表面喷洒处理液，借此便可对玻璃基板的上下表面进行湿式制程。然而，当上喷头与下喷头分别对玻璃基板喷洒处理液时，所喷洒的处理液容易自玻璃基板的上表面及下表面流失，尤其是玻璃基板的下表面，常因重力作用而使喷洒在下表面的处理液离开玻璃基板的下表面，导致喷洒在下表面的处理液未有足够的反应时间而影响湿式制程的进行。
技术实现思路
因此，本技术提供一种可对基板上下双面进行有效制程的湿式制程设备，以解决上述问题。为了达成上述目的，本技术揭露一种湿式制程设备，可用以对一基板进行双面制程，所述基板具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，所述湿式制程设备包含一腔体、一输送机构、一喷洒模块、多个液浮载板以及一盛盘，所述腔体内形成有用以容置所述基板的一腔室，所述输送机构对应所述基板的一侧边部并用以输送所述基板，所述喷洒模块设置在所述腔室内并用以对所述基板的所述上表面喷洒一处理液，所述多个液浮载板设置在所述喷洒模块下方并用以对所述基板的所述下表面喷射所述处理液，所述盛盘设置在所述多个液浮载板周围，所述盛盘盛装所述处理液，使盛装在所述盛盘的所述处理液漫淹所述基板的所述上表面。根据本技术其中之一实施方式，所述湿式制程设备还包含一升降机构，耦接于所述盛盘，所述升降机构用以驱动所述盛盘至一作用位置，使盛装在所述盛盘的所述处理液可漫淹所述基板的所述上表面。根据本技术其中之一实施方式，所述输送机构包含多个导轮组，沿一输送方向排列设置，所述多个导轮组对应所述基板的所述侧边部并用以驱动所述基板沿所述输送方向或沿相反于所述输送方向的一回复方向移动。根据本技术其中之一实施方式，各导轮组包含一上滚轮以及一下滚轮，所述上滚轮可转动地抵接所述基板的所述上表面，所述下滚轮可转动地抵接所述基板的所述下表面。根据本技术其中之一实施方式，所述腔体形成有连通所述腔室的一入口，且所述基板通过所述入口进入所述腔体。根据本技术其中之一实施方式，所述腔体还形成有连通所述腔室的一出口，且所述基板通过所述出口离开所述腔体。根据本技术其中之一实施方式，所述湿式制程设备还包含一入口闸门以及一出口闸门，所述入口闸门枢接于所述腔体邻近所述入口处并用以关盖所述入口，所述出口闸门枢接于所述腔体邻近所述出口处并用以关盖所述出口。根据本技术其中之一实施方式，所述湿式制程设备还包含一水路模块以及一水路供液泵，所述水路模块耦接于所述多个液浮载板，所述处理液通过所述水路模块由所述多个液浮载板喷出，所述水路供液泵连接于所述水路模块，所述水路供液泵用以供给所述处理液至所述水路模块。根据本技术其中之一实施方式，所述湿式制程设备还包含一液面传感器以及一控制单元，所述液面传感器设置在所述盛盘并用以感测盛装在所述盛盘的所述处理液的一液面，所述控制单元耦接于所述液面传感器与所述水路供液泵，所述控制单元在所述液面传感器感测到盛装在所述盛盘的所述处理液的所述液面时，控制所述水路供液泵持续供给所述处理液至所述水路模块，或控制所述水路供液泵停止供给所述处理液至所述水路模块。根据本技术其中之一实施方式，所述喷洒模块包含多个水刀喷头以及一喷洒供液泵，所述多个水刀喷头设置在所述多个导轮组上方，所述喷洒供液泵连接于所述多个水刀喷头且耦接于所述控制单元，所述喷洒供液泵用以供给所述处理液至所述多个水刀喷头，其中所述控制单元在所述液面传感器感测到盛装在所述盛盘的所述处理液的所述液面时，还控制所述喷洒供液泵持续供给所述处理液至所述多个水刀喷头，或还控制所述喷洒供液泵停止供给所述处理液至所述多个水刀喷头。根据本技术其中之一实施方式，所述湿式制程设备还包含一液面传感器以及一控制单元，所述液面传感器设置在所述盛盘并用以感测盛装在所述盛盘的所述处理液的一液面，所述控制单元耦接于所述液面传感器与所述输送机构，所述控制单元在所述液面传感器感测到盛装在所述盛盘的所述处理液的所述液面时，控制所述输送机构往复移动所述基板。根据本技术其中之一实施方式，所述腔体形成有连通所述腔室的一入口，所述基板通过所述入口进入所述腔体，所述喷洒模块包含一喷嘴，设置在所述腔体邻近所述入口处，所述喷嘴在所述基板通过所述入口进入所述腔体时，朝所述基板的所述上表面喷洒所述处理液。根据本技术其中之一实施方式，所述喷洒模块包含多个水刀喷头，设置在所述多个导轮组上方，所述多个水刀喷头在所述基板进入所述腔体时，朝所述基板的所述上表面喷洒所述处理液。根据本技术其中之一实施方式，所述盛盘用以盛装所述多个液浮载板喷射且由所述下表面滴落的所述处理液与所述喷洒模块所喷洒的所述处理液的至少其中之一。综上所述，本技术除利用喷洒模块及液浮载板分别对基板的上表面及下表面施予处理液外，本技术还利用盛盘盛装液浮载板喷射且由下表面滴落的处理液，使盛装在盛盘的处理液可漫淹基板。这样一来，本技术便可利用盛盘，使漫淹基板的处理液能持续对基板的上表面及下表面进行双面制程。有关本技术的前述及其他
技术实现思路
、特点与功效，在以下配合参考附图的实施例的详细说明中，将可清楚的呈现。附图说明图1为本技术第一实施例湿式制程设备的示意图。图2为图1所示湿式制程设备沿剖面线X-X的剖面示意图。图3为本技术第一实施例湿式制程设备的功能方块示意图。图4为本技术第一实施例基板送入腔室内的示意图。图5为本技术第一实施例盛盘位在作用位置的示意图。图6为本技术第二实施例湿式制程设备的功能方块示意图。图7为本技术第三实施例湿式制程设备的功能方块示意图。其中，附图标记说明如下：1000、1000'、1000”湿式制程设备1基板10上表面11下表面12侧边部2腔体20腔室21入口22出口3输送机构30导轮组301上滚轮302下滚轮4喷洒模块40水刀喷头41喷洒供液泵42喷嘴5液浮载板6盛盘7升降机构8入口闸门9出口闸门A水路模块B水路供液泵C液面传感器D控制单元E处理液X1输送方向X2回复方向X-X剖面线具体实施方式以下实施例中所提到的方向用语，例如：上、下、左、右、前或后等，仅是参考附加附图的方向。因此，使用的方向用语是用来说明并非用来限制本技术。请参阅图1至图3，图1为本技术第一实施例一湿式制程设备1000的示意图，图2为图1所示湿式制程设备1000沿剖面线X-X的剖面示意图，图3为本技术第一实施例湿式制程设备1000的功能方块示意图。如图1至图3所示，湿式制程设备1000可用以对一基板1进行双面制程，基板1具有一上表面10、相对于上表面10的一下表面11以及一侧边部12。在此实施例中，基板1可为一触控面板的玻璃基板，而湿式制程设备1000可用以对所述玻璃基板进行一湿式制程，所述湿式制程例如可为将所述玻璃基板经过蚀刻本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种湿式制程设备，可用以对一基板进行双面制程，所述基板具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，其特征在于，所述湿式制程设备包含：一腔体，其内形成有一腔室，所述腔室用以容置所述基板；一输送机构，对应所述基板的一侧边部，所述输送机构用以输送所述基板；一喷洒模块，设置在所述腔室内，所述喷洒模块用以对所述基板的所述上表面喷洒一处理液；多个液浮载板，设置在所述喷洒模块下方，所述多个液浮载板用以对所述基板的所述下表面喷射所述处理液；以及一盛盘，设置在所述多个液浮载板周围，所述盛盘盛装所述处理液，使盛装在所述盛盘的所述处理液漫淹所述基板的所述上表面。

【技术特征摘要】
2016.09.30 TW 1051314461.一种湿式制程设备，可用以对一基板进行双面制程，所述基板具有一上表面及一下表面，所述下表面相反于所述上表面，其特征在于，所述湿式制程设备包含：一腔体，其内形成有一腔室，所述腔室用以容置所述基板；一输送机构，对应所述基板的一侧边部，所述输送机构用以输送所述基板；一喷洒模块，设置在所述腔室内，所述喷洒模块用以对所述基板的所述上表面喷洒一处理液；多个液浮载板，设置在所述喷洒模块下方，所述多个液浮载板用以对所述基板的所述下表面喷射所述处理液；以及一盛盘，设置在所述多个液浮载板周围，所述盛盘盛装所述处理液，使盛装在所述盛盘的所述处理液漫淹所述基板的所述上表面。2.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，还包含：一升降机构，耦接于所述盛盘，所述升降机构用以驱动所述盛盘至一作用位置，使盛装在所述盛盘的所述处理液可漫淹所述基板的所述上表面。3.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，所述输送机构包含：多个导轮组，沿一输送方向排列设置，所述多个导轮组对应所述基板的所述侧边部并用以驱动所述基板沿所述输送方向或沿相反于所述输送方向的一回复方向移动。4.如权利要求3所述的湿式制程设备，其特征在于，各导轮组包含：一上滚轮，可转动地抵接所述基板的所述上表面；以及一下滚轮，可转动地抵接所述基板的所述下表面。5.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，所述腔体形成有连通所述腔室的一入口，且所述基板通过所述入口进入所述腔体。6.如权利要求5所述的湿式制程设备，其特征在于，所述腔体还形成有连通所述腔室的一出口，且所述基板通过所述出口离开所述腔体。7.如权利要求6所述的湿式制程设备，其特征在于，还包含：一入口闸门，枢接于所述腔体邻近所述入口处，所述入口闸门用以关盖所述入口；以及一出口闸门，枢接于所述腔体邻近所述出口处，所述出口闸门用以关盖所述出口。8.如权利要求1所述的湿式制程设备，其特征在于，还包含：一水路模块，耦接于所述多个液浮载板，所述处理液通过所述水路模块由所述多个液浮载板...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄荣龙，吕峻杰，陈滢如，
申请(专利权)人：盟立自动化股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71