【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种压印系统及物品的制造方法。
技术介绍
压印技术是能够转印纳米级微图案的技术，并且作为用于半导体器件和磁存储介质的批量生产的纳米光刻技术而受到关注。使用压印技术的压印装置在形成图案的模具(原版)接触基板上的树脂(压印材料)的状态下，使树脂固化，并且使模具与固化的树脂分离，从而在基板上形成图案。这种压印装置一般采用光固化法作为树脂固化方法，所述光固化法是通过诸如紫外光等的光的照射，使基板上的树脂固化。当向基板上供给树脂(利用树脂涂布基板)时，压印装置通过使用例如喷墨法，在基板上形成树脂的液滴的阵列。压印装置使模具压住基板上的树脂(液滴)，以利用树脂填充模具的图案(凹部)。然而，在压印装置中，由于模具的图案的差异和制造变化、装置的操作变化等而产生问题，例如在基板上形成的图案的缺陷、以及残留层厚度(RLT)的异常。这使得难以形成高质量图案。为了解决这些问题，在日本特许第5214683号公报及日本特开2012-114157号公报中，提出了优化表示树脂的液滴在基板上的供给位置的配给图(map)(树脂涂布图案、压印配方或滴剂配方)的技术。日本特许第5214683号公报公开了创建压印配方的方法，在所述的压印配方的创建中，考虑到模具的图案中的树脂的填充量、要在基板上形成的残留层厚度、基板上的投射区域和边缘的位置、底层(基板)上的凹/凸分布\\以及后处理中的加工尺寸的变化。日本特开2012-...
【技术保护点】
一种压印系统，其进行通过使用模具来使基板上的压印材料形成图案的压印处理，所述压印系统包括：处理单元，其被构造为进行所述压印处理，所述处理单元包括被构造为向所述基板上供给所述压印材料的液滴的分配器；库，其被构造为管理不同的多个配给图，所述多个配给图各自表示要从所述分配器供给到所述基板上的液滴的供给位置和供给量中的至少一者；以及控制单元，其被构造为基于关于由所述模具和所述分配器中的至少一者随时间的改变而导致的所述压印处理的结果的改变的信息，从在所述库中管理的所述多个配给图中，选择要在所述压印处理中使用的一个配给图。
【技术特征摘要】
2014.11.06 JP 2014-2264061.一种压印系统，其进行通过使用模具来使基板上的压印材料形成
图案的压印处理，所述压印系统包括：
处理单元，其被构造为进行所述压印处理，所述处理单元包括被构
造为向所述基板上供给所述压印材料的液滴的分配器；
库，其被构造为管理不同的多个配给图，所述多个配给图各自表示
要从所述分配器供给到所述基板上的液滴的供给位置和供给量中的至少
一者；以及
控制单元，其被构造为基于关于由所述模具和所述分配器中的至少
一者随时间的改变而导致的所述压印处理的结果的改变的信息，从在所
述库中管理的所述多个配给图中，选择要在所述压印处理中使用的一个
配给图。
2.根据权利要求1所述的压印系统，其中，所述信息包括所述模具
的使用历史、所述分配器的使用历史、所述压印处理的结果中的至少一
者。
3.根据权利要求1所述的压印系统，其中，所述控制单元基于在进
行所述压印处理时的压印条件，选择所述一个配给图。
4.根据权利要求3所述的压印系统，其中，所述压印条件包括基板
面内分布信息和所述基板上的投射区域的布局信息中的至少一者，所述
基板面内分布信息包括所述基板的面以内的所述压印材料的蒸发量的分
布以及所述基板的面以内的气流的分布。
5.根据权利要求2所述的压印系统，其中，所述压印处理的结果包
括在所述基板上形成的图案的线宽、残留层厚度和缺陷数中的至少一者。
6.根据权利要求1所述的压印系统，其中，基于所述模具的图案的
尺寸以及要在所述基板上形成的图案的残留层厚度，生成所述多个配给
图。
7.根据权利要求6所述的压印系统，其中，所述模具的图案的尺寸
包括所述模具的图案的设计值和所述模具的图案的实际测量值中的一
者。
8.根据权利要求6所述的压印系统，其中，基于基板面内分布信息
和所述基板上的投射区域的布局信息中的至少一者，生成所述多个配给
图，所述基板面内分布信息包括所述基板的面以内的所述压印材料的蒸
发量的分布以及所述基板的面以内的气流的分布。
9.根据权利要求1所述的压印系统，其中，所述多个配给图各自表
示液滴...
【专利技术属性】
技术研发人员：山崎拓郎，船吉智美，山口裕充，藤本正敬，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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