一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备技术方案

本发明专利技术公开了一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备，包括：发射单元和控制单元；其中，发射单元提供第一基准光和第二基准光，第一基准光传输至控制单元，第二基准光经过基板的调制生成一束测试光，测试光传输至控制单元；控制单元获取第一基准光的功率和测试光的功率，将第一基准光的功率与测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断基板表面是否具有异物。这样，可以通过检测基板表面上的异物情况，例如是否具有光刻胶，对基板表面上的异物起到预警作用，防止了光刻胶等异物对清洗设备、沉积设备等其他生产设备造成影响，有利于生产设备的维护和保养。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤指一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备。
技术介绍
目前，在半导体制造尤其是液晶面板生产领域，清洗设备和沉积设备是阵列(Array)工序-前清洗(Preclean)工艺和沉积(Dep)工艺中必不可少的生产设备。Array工序-Dep工艺之前需要清洗，清洗的目的是除去基板表面影响成膜的具有物理化学特性、电学特性的杂质及基板表面附着的灰尘、油分、自然氧化物，露出的干净的膜及洁净的质地等，但有一些异物在被洗掉时会容易堵塞清洗设备中的过滤器，例如进行刻蚀工艺之后的基板上的表面容易有光刻胶残留或者未剥离光刻胶，当该基板进入清洗设备进行清洗时，会导致较多的光刻胶被洗掉，时间长了，就会堵塞过滤器。并且，当该基板进入沉积设备进行沉积时，无论是使用溅射还是等离子增强化学气相沉积的方法，都会因为等离子体对光刻胶等异物的轰击而使沉积设备中的工作腔受到污染。这样，清洗设备会因过滤器堵塞造成设备停机、沉积设备会因工作腔受污染造成设备停机，稼动率降低。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术实施例提供一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备，通过检测基板的表面异物情况，及时作出预警。因此，本专利技术实施例提供了一种预警系统，包括：包括：发射单元和控制单元；其中，所述发射单元，用于提供第一基准光和第二基准光，所述第一基准光传输至所述控制单元，所述第二基准光经过所述基板的调制生成一束测试光，所述测试光传输至所述控制单元；所述控制单元，用于获取所述第一基准光的功率和所述测试光的功率，将所述第一基准光的功率与所述测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断所述基板表面是否具有异物。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，当所述控制单元判断所述基板表面具有异物时，则发出警告。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述发射单元包括用于发出激光光束的激光发射器，以及设置在所述激光光束的传输光路上的分光镜；其中，所述分光镜，用于将所述激光光束进行分光，分成所述第一基准光和第二基准光。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述分光镜为半反射镜；所述第一基准光的功率和第二基准光的功率相同。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述控制单元包括：第一功率传感器、第二功率传感器、控制器和报警器；其中，所述第一功率传感器，用于接收所述第一基准光，并计算所述第一基准光的功率；所述第二功率传感器，用于接收所述测试光，并计算所述测试光的功率；所述控制器，用于将所述第一功率传感器与所述第二功率传感器的计算结果进行比较，获得测试比值；所述报警器，用于根据所述测试比值，判断所述基板表面具有异物时则发出警告。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述报警器，具体用于在获取所述测试比值时，当所述测试比值大于预定数值时，则做出判断结果为所述基板表面具有异物，并发出警告。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述基板表面具有透射膜层；所述测试光为所述第二基准光经过所述基板表面的透射膜层的透射后生成的透射光；所述第二功率传感器位于所述透射光的传输光路上。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述基板表面具有反射膜层；所述测试光为所述第二基准光经过所述基板表面的反射膜层的反射后生成的反射光；所述第二功率传感器位于所述反射光的传输光路上。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述基板表面具有反射膜层；所述测试光为在所述第二基准光垂直入射至所述基板表面时，所述第二基准光经过所述基板表面的反射膜层的反射，再经过所述发射单元后生成的透射光；所述第二功率传感器位于所述透射光的传输光路上。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述第二基准光和测试光的光程之和与所述第一基准光的光程相同。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述预警系统中，所述基板为待清洗的基板或待沉积的基板。本专利技术实施例还提供了一种生产设备，包括本专利技术实施例提供的上述预警系统。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述生产设备中，所述生产设备为清洗设备或沉积设备。本专利技术实施例的有益效果包括：本专利技术实施例提供的一种用于对基板进行检测的预警系统及生产设备，该预警系统包括：发射单元和控制单元；其中，发射单元提供第一基准光和第二基准光，第一基准光传输至控制单元，第二基准光经过基板的调制生成一测试光，测试光传输至控制单元；控制单元获取第一基准光的功率和测试光的功率，将第一基准光的功率与测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断基板表面是否具有异物。这样，可以通过检测基板表面上的异物情况，例如是否具有光刻胶，对基板表面上的异物起到预警作用，防止了光刻胶等异物对清洗设备、沉积设备等其他生产设备造成影响，有利于生产设备的维护和保养。附图说明图1为本专利技术实施例提供的预警系统的结构示意图之一；图2为本专利技术实施例提供的预警系统的结构示意图之二；图3为图2所示的预警系统的工作流程图；图4为本专利技术实施例提供的预警系统的结构示意图之三；图5为图4所示的预警系统的工作流程图。具体实施方式下面结合附图，对本专利技术实施例提供的用于对基板进行检测的预警系统及生产设备的具体实施方式进行详细地说明，所举实施例仅用于解释本专利技术，并非以此限定本专利技术的保护范围。本专利技术实施例提供了一种用于对基板1进行检测的预警系统，如图1所示，包括：发射单元2和控制单元3；其中，发射单元2，用于提供第一基准光01和第二基准光02，第一基准光01传输至控制单元3，第二基准光02经过基板1的调制生成一测试光03，测试光03传输至控制单元3；控制单元3，用于获取第一基准光01的功率和测试光03的功率，将第一基准光01的功率与测试光03的功率进行比较，根据比较结果，判断基板1表面是否具有异物。需要说明的是，上述基板表面具有的异物可以是容易堵塞清洗设备中的过滤器的一些异物，容易污染沉积设备的一些异物，等等，例如光刻胶。在本专利技术实施例提供的上述预警系统，包括：发射单元和控制单元；其中，发射单元提供第一基准光和第二基准光，第一基准本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于对基板进行检测的预警系统，其特征在于，包括：发射单元和控制单元；其中，所述发射单元，用于提供第一基准光和第二基准光，所述第一基准光传输至所述控制单元，所述第二基准光经过所述基板的调制生成一束测试光，所述测试光传输至所述控制单元；所述控制单元，用于获取所述第一基准光的功率和所述测试光的功率，将所述第一基准光的功率与所述测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断所述基板表面是否具有异物。

【技术特征摘要】
1.一种用于对基板进行检测的预警系统，其特征在于，包括：发射单元
和控制单元；其中，
所述发射单元，用于提供第一基准光和第二基准光，所述第一基准光传输
至所述控制单元，所述第二基准光经过所述基板的调制生成一束测试光，所述
测试光传输至所述控制单元；
所述控制单元，用于获取所述第一基准光的功率和所述测试光的功率，将
所述第一基准光的功率与所述测试光的功率进行比较，根据比较结果，判断所
述基板表面是否具有异物。
2.如权利要求1所述的预警系统，其特征在于，当所述控制单元判断所
述基板表面具有异物时，则发出警告。
3.如权利要求1所述的预警系统，其特征在于，所述发射单元包括用于
发出激光光束的激光发射器，以及设置在所述激光光束的传输光路上的分光
镜；其中，
所述分光镜，用于将所述激光光束进行分光，分成所述第一基准光和第二
基准光。
4.如权利要求3所述的预警系统，其特征在于，所述分光镜为半反射镜；
所述第一基准光的功率和第二基准光的功率相同。
5.如权利要求1所述的预警系统，其特征在于，所述控制单元包括：第
一功率传感器、第二功率传感器、控制器和报警器；其中，
所述第一功率传感器，用于接收所述第一基准光，并计算所述第一基准光
的功率；
所述第二功率传感器，用于接收所述测试光，并计算所述测试光的功率；
所述控制器，用于将所述第一功率传感器与所述第二功率传感器的计算结
果进行比较，获得测试比值；
所述报警器，用于根据所述测试比值，判断所述基板表面具有异物时则...

【专利技术属性】
技术研发人员：黎午升，李正亮，刘震，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11