【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及玻璃领域，具体地，涉及一种玻璃针状缺陷反射电镜样品的制作方法。
技术介绍
在平板玻璃领域，液晶面板具有解析度高、耗电低、反应速度快等特点。低温多晶硅LTPS是未来面板的发展方向，其精细的布线结构和高制程温度对玻璃基板的缺陷要求越来越高，因此，需要一种便捷的方法来提升玻璃的质量并相应调整玻璃的制备工艺。通过制备玻璃针状缺陷电镜样品并检测其析晶成分可以反过来对玻璃的制备工艺进行调控，以生产无缺陷的玻璃，有利于玻璃质量的提升。现有工艺中，缺陷玻璃中一般会形成针状铂金缺陷，其为棒状结构，直径较小，大约在1μm左右，长度大约在20-500μm。现有的断面法和抛光法制备玻璃针状缺陷电镜样品的成功率很低，而且不容易实现。因此，需要研发一种便捷的方法以制作玻璃针状缺陷电镜样品。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了克服现有技术中的上述缺陷，提供一种玻璃针状缺陷反射电镜样品的制作方法，该方法能够简单、方便地制作出玻璃针状缺陷反射电镜样品...
【技术保护点】
一种玻璃针状缺陷反射电镜样品的制作方法，其特征在于，该方法包括：(1)将无缺陷玻璃置于侵蚀液中，侵蚀时间t0后测量侵蚀深度d0，得到侵蚀速度v0，其中，v0＝d0/t0；(2)确定缺陷玻璃中针状缺陷的大小和位置，测量针状缺陷与缺陷玻璃表面的最小距离D，根据步骤(1)得到的侵蚀速度v0，得到侵蚀液将缺陷玻璃侵蚀至针状缺陷暴露所用的理论侵蚀时间T，其中，T＝D/v0；(3)将缺陷玻璃置于侵蚀液中进行侵蚀，控制侵蚀时间使得针状缺陷暴露于玻璃表面。
【技术特征摘要】
1.一种玻璃针状缺陷反射电镜样品的制作方法，其特征在于，该方法
包括：
(1)将无缺陷玻璃置于侵蚀液中，侵蚀时间t0后测量侵蚀深度d0，得
到侵蚀速度v0，其中，v0＝d0/t0；
(2)确定缺陷玻璃中针状缺陷的大小和位置，测量针状缺陷与缺陷玻
璃表面的最小距离D，根据步骤(1)得到的侵蚀速度v0，得到侵蚀液将缺
陷玻璃侵蚀至针状缺陷暴露所用的理论侵蚀时间T，其中，T＝D/v0；
(3)将缺陷玻璃置于侵蚀液中进行侵蚀，控制侵蚀时间使得针状缺陷
暴露于玻璃表面。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，步骤(3)中，控制侵蚀时间使
得针状缺陷暴露于玻璃表面的方法包括：
(3-1)将缺陷玻璃置于侵蚀液中进行侵蚀，实际侵蚀时间t小于步骤(2)
所述的理论侵蚀时间T；
(3-2)重复步骤(2)-(3-1)进行至少一次侵蚀，直至侵蚀结束后针
状缺陷与缺陷玻璃表面的最小距离D小于等于5μm，进行最后一次侵蚀，且
控制最后一次侵蚀的侵蚀时间使得针状缺陷暴露于玻璃表面。
3.根据权利要求2所述的方法，其中，步骤(3-1)中，实际侵蚀时间
t为步骤(2)所述的理论侵蚀时间T的...
【专利技术属性】
技术研发人员：李志勇，张广涛，李俊锋，闫冬成，王丽红，胡恒广，
申请(专利权)人：芜湖东旭光电装备技术有限公司，东旭科技集团有限公司，东旭集团有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽;34
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。