一种扩散反应釜制造技术

技术编号:15007263 阅读:62 留言:0更新日期:2017-04-04 14:00
本实用新型专利技术涉及一种扩散反应釜,包括反应釜本体,反应釜本体设置一个开口端,开口端上设有密封盖,其特征是:在反应釜本体内均匀间隔的固定有扩散器,扩散器为带有密封栓帽的容器,在扩散器的一侧均匀的开有扩散孔。其优点是:结构简单、易于控制合金成分、低熔点及易挥发组分几乎没有浪费、操作安全系数高、易于大规模工业化生产。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种扩散反应釜,属于制备金属合金用反应釜领域。
技术介绍
现在制备金属合金的方法包括:1.感应炉熔炼、2.电阻炉熔炼、3.粉末烧结、4.机械合金化等方法。但是当涉及到制备含有低熔点及易挥发成分合金的时候,上述前两种方法容易造成低熔点组分大量挥发,合金成分不易控制,并且大量的金属粉尘沉积在炉体内腔,容易造成金属粉尘闪燃和闪爆,特别危险。后两种方法对原料物理形态要求比较高,要求组分必须是达到某种粒度的金属粉末,生产成本较高。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种设备简单、使用中能源消耗少、制备合金成本低、生产安全系数高、制备的合金质量好的用于高温扩散法制备含有低熔点及易挥发成分金属合金的扩散反应釜。本技术是由如下技术方案实现的:本技术包括反应釜本体,反应釜本体设置一个开口端,开口端上设有密封盖,其特征是:在反应釜本体内均匀间隔的固定有扩散器,扩散器为带有密封栓帽的容器,在扩散器的一侧均匀的开有扩散孔。所述扩散器为仅有一个开口的筒状容器,且开口上设有密封栓帽。在所述反应釜本体内的底部均匀间隔的设有卡槽,扩散器与反应釜本体通过卡槽固定。本技术的优点是:1)放置于扩散器的低熔点金属在高温下形成蒸汽挥发和放置于反应釜本体内部的高熔点金属或合金充分反应形成最终合金,低熔点金属利用率高,合金成分易于控制;2)低熔点金属不会扩散至热处理炉内部,热处理炉易维护,并且过量的低熔点金属蒸汽会以金属膜的形式附着于反应釜本体内壁,而不是金属粉尘附着于内壁,生产安全系数高。附图说明图1是本技术的结构示意图;图2是图1的右视图。具体实施方式参照附图,本技术包括反应釜本体1,反应釜本体设置一个开口端2,开口端上设有密封盖3,反应釜本体使用厚度为10mm不锈钢板制作,密封盖使用螺丝与开口端2固定。在反应釜本体内的底部均匀间隔的设有卡槽7,卡槽7上固定有扩散器4,扩散器为仅有一个开口的筒状容器,扩散器的开口用密封栓帽6封闭,在扩散器的一侧均匀的开有扩散孔5。使用时,低熔点及易挥发金属或合金放置于扩散器4中,其它高熔点金属或合金的块体放置于反应釜本体1中,反应釜本体开口端2和密封盖3通过螺丝或其它已知固定部件固定,实现反应釜密封。将上述反应釜放置于热处理炉内部,使得扩散器的扩散孔向上,使得扩散器内部低熔点及易挥发金属或合金在高温熔融状态时,不会通过扩散孔溢出扩散器和外部的合金块体直接接触,外部的合金或金属也不能通过扩散孔进入到扩散器内部,扩散器内部金属或合金只能以蒸汽形式通过扩散孔扩散至反应釜本体内部。当反应釜被加热到一定温度,扩散器内部的金属或合金融化开始形成金属或合金蒸汽,金属或合金的蒸汽通过扩散口5离开扩散器4至反应釜本体1的内部,与反应釜本体1内部的金属或合金接触发生扩散反应,设定热处理温度和时间,使得扩散器4中的金属或合金完全扩散至反应釜本体1内部,与其内部的金属或合金充分反应,最终反应生成目标合金。本文档来自技高网...
一种扩散反应釜

【技术保护点】
一种扩散反应釜,包括反应釜本体,反应釜本体设置一个开口端,开口端上设有密封盖,其特征是:在反应釜本体内均匀间隔的固定有扩散器,扩散器为带有密封栓帽的容器,在扩散器的一侧均匀的开有扩散孔。

【技术特征摘要】
1.一种扩散反应釜,包括反应釜本体,反应釜本体设置一个开口端,开口端上设有密封盖,其特征是:在反应釜本体内均匀间隔的固定有扩散器,扩散器为带有密封栓帽的容器,在扩散器的一侧均匀的开有扩散孔。
2.根据权利要求1所述的扩...

【专利技术属性】
技术研发人员:李金赵鑫李宝犬王利朱惜林吉力强闫慧忠熊玮贾涛刘小鱼张光睿郝宏波
申请(专利权)人:瑞科稀土冶金及功能材料国家工程研究中心有限公司
类型:新型
国别省市:内蒙古;15

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