一种半导体清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种半导体清洗设备，包括清洗液槽、自动定量补液装置、恒温加热器、密封壳、超声波清洗室、除雾室、控制面板、过载保护器、污水出口、油水分离器、底座、传送台、出入料自动门、清洗室、喷液口、密封条、滑动门和固定门，所述底座上方安装有传送台，所述超声波清洗室内部安装有密封壳，且超声波清洗室右侧安置有除雾室，所述除雾室下方底座内部安装有过载保护器，且过载保护器右侧底座表面安装有控制面板。该半导体清洗设备安装有可拆卸的喷液口设置有十八个，而且喷液口设置有十八个，这样可以同时清洗多片半导体器件，另外，该设备还安装有入料自动门，实现了清洗过程的全自动，节省了劳动力，降低了成本。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体制作
，具体为一种半导体清洗设备。
技术介绍
半导体，指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料，半导体在收音机、电视机以及测温上有着广泛的应用。伴随集成电路制造工艺的不断进步，半导体器件的体积正变得越来越小，因此，清洗技术也变得越来越重要。但是，现有的清洗设备基本上都是单片式清洗，不能同时清洗多片半导体器件。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种半导体清洗设备，以解决现有的清洗设备基本上都是单片式清洗，不能同时清洗多片半导体器件的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案一种半导体清洗设备，包括清洗液槽、自动定量补液装置、恒温加热器、密封壳、超声波清洗室、除雾室、控制面板、过载保护器、污水出口、油水分离器、油污出口、油水混合槽、底座、传送台、出入料自动门、清洗室、喷液口、密封条、滑动门和固定门，所述底座上方安装有传送台，且传送台上方左侧安置有清洗室，所述清洗室左侧安装有出入料自动门，且出入料自动门上安装有密封条，所述清洗室内部安装有喷液口，所述喷液口上方安装有清洗液槽，且清洗液槽与自动定量补液装置相连接，所述清洗室下方设有油水混合槽，且油水混合槽内安装有油水分离器，所述油水混合槽底部左侧设有油污出口，且油水混合槽底部右侧设有污水出口，所述清洗室右侧设有恒温加热器，且恒温加热器右侧安装有超声波清洗室，所述超声波清洗室内部安装有密封壳，且超声波清洗室右侧安置有除雾室，所述除雾室下方底座内部安装有过载保护器，且过载保护器右侧底座表面安装有控制面板。优选的，所述清洗液槽、超声波清洗室和除雾室左右两侧均安装有出入料自动门。优选的，所述除雾室内安装有计数器。优选的，所述传送台表面设有滤孔，且滤孔直径小于半导体工件直径。优选的，所述喷液口设置有十八个，且喷液口为可拆卸装置。优选的，所述滑动门和固定门关于密封条轴对称。与现有技术相比，本技术的有益效果是：该半导体清洗设备安装有可拆卸的喷液口设置有十八个，而且喷液口设置有十八个，这样可以同时清洗多片半导体器件，同时，该清洗设备设有除雾室，在除雾室内安装有计数器，清除半导体器件上的水雾的同时可以对产品进行计数，方便管理和统计，另外，该设备还安装有入料自动门，实现了清洗过程的全自动，节省了劳动力，降低了成本。附图说明图1为本技术结构示意图；图2为本技术出入料自动门结构示意图。图中：1、清洗液槽，2、自动定量补液装置，3、恒温加热器，4、密封壳，5、超声波清洗室，6、除雾室，7、控制面板，8、过载保护器，9、污水出口，10、油水分离器，11、油污出口，12、油水混合槽，13、底座，14、传送台，15、出入料自动门，16、清洗室，17、喷液口，18、密封条，19、滑动门，20、固定门。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1-2，本技术提供一种技术方案：一种半导体清洗设备，包括清洗液槽1、自动定量补液装置2、恒温加热器3、密封壳4、超声波清洗室5、除雾室6、控制面板7、过载保护器8、污水出口9、油水分离器10、油污出口11、油水混合槽12、底座13、传送台14、出入料自动门15、清洗室16、喷液口17、密封条18、滑动门19和固定门20，底座13上方安装有传送台14，且传送台14上方左侧安置有清洗室16，传送台14表面设有滤孔，且滤孔直径小于半导体直径，清洗室16左侧安装有出入料自动门15，且出入料自动门15上安装有密封条18，滑动门19和固定门20关于密封条18轴对称，清洗室16内部安装有喷液口17，喷液口17设置有十八个，且喷液口17为可拆卸装置，喷液口17上方安装有清洗液槽1，且清洗液槽1与自动定量补液装置2相连接，清洗室16下方设有油水混合槽12，且油水混合槽12内安装有油水分离器10，油水混合槽12底部左侧设有油污出口11，且油水混合槽12底部右侧设有污水出口9，清洗室16右侧设有恒温加热器3，且恒温加热器3右侧安装有超声波清洗室5，超声波清洗室5内部安装有密封壳4，且超声波清洗室5右侧安置有除雾室6，清洗液槽1、超声波清洗室5和除雾室6左右两侧均安装有出入料自动门15，除雾室6内安装有计数器，除雾室6下方底座13内部安装有过载保护器8，且过载保护器8右侧底座13表面安装有控制面板7。工作原理：在使用该半导体清洗设备之前，需要对整个清洗设备进行简单的结构了解，整个处理的过程大体上可以进行三个部分的划分，首先通过控制面板7启动该清洗设备，半导体器件通过传送台14运输到清洗室16，出入料自动门15上的滑动门19滑向两边的固定门20，半导体器件进入清洗室16，经过喷液口17冲洗后通过恒温加热器3烘干，再进入超声波清洗室5清洗，最后从除雾室6运送出来，在半导体器件进入清洗室16清洗的同时，油水混合物通过传送台14流入油水混合槽12，在油水分离器10作用后，分别从污水出口9和油污出口11流出。尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半导体清洗设备，包括清洗液槽（1）、自动定量补液装置（2）、恒温加热器（3）、密封壳（4）、超声波清洗室（5）、除雾室（6）、控制面板（7）、过载保护器（8）、污水出口（9）、油水分离器（10）、油污出口（11）、油水混合槽（12）、底座（13）、传送台（14）、出入料自动门（15）、清洗室（16）、喷液口（17）、密封条（18）、滑动门（19）和固定门（20），其特征在于：所述底座（13）上方安装有传送台（14），且传送台（14）上方左侧安置有清洗室（16），所述清洗室（16）左侧安装有出入料自动门（15），且出入料自动门（15）上安装有密封条（18），所述清洗室（16）内部安装有喷液口（17），所述喷液口（17）上方安装有清洗液槽（1），且清洗液槽（1）与自动定量补液装置（2）相连接，所述清洗室（16）下方设有油水混合槽（12），且油水混合槽（12）内安装有油水分离器（10），所述油水混合槽（12）底部左侧设有油污出口（11），且油水混合槽（12）底部右侧设有污水出口（9），所述清洗室（16）右侧设有恒温加热器（3），且恒温加热器（3）右侧安装有超声波清洗室（5），所述超声波清洗室（5）内部安装有密封壳（4），且超声波清洗室（5）右侧安置有除雾室（6），所述除雾室（6）下方底座（13）内部安装有过载保护器（8），且过载保护器（8）右侧底座（13）表面安装有控制面板（7）。...

【技术特征摘要】
1.一种半导体清洗设备，包括清洗液槽（1）、自动定量补液装置（2）、恒温加热器（3）、密封壳（4）、超声波清洗室（5）、除雾室（6）、控制面板（7）、过载保护器（8）、污水出口（9）、油水分离器（10）、油污出口（11）、油水混合槽（12）、底座（13）、传送台（14）、出入料自动门（15）、清洗室（16）、喷液口（17）、密封条（18）、滑动门（19）和固定门（20），其特征在于：所述底座（13）上方安装有传送台（14），且传送台（14）上方左侧安置有清洗室（16），所述清洗室（16）左侧安装有出入料自动门（15），且出入料自动门（15）上安装有密封条（18），所述清洗室（16）内部安装有喷液口（17），所述喷液口（17）上方安装有清洗液槽（1），且清洗液槽（1）与自动定量补液装置（2）相连接，所述清洗室（16）下方设有油水混合槽（12），且油水混合槽（12）内安装有油水分离器（10），所述油水混合槽（12）底部左侧设有油污出口（11），且油水混合槽（12）底部右侧设有污水出口（...

【专利技术属性】
技术研发人员：卓廷厚，
申请(专利权)人：厦门芯光润泽科技有限公司，
类型：新型
国别省市：福建;35