一种碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备与应用制造技术

本发明专利技术公开了一种利用固相反应法合成碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉，并进一步通过烧结获得SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷的方法；首先制备SiC晶须/SiC颗粒复合粉，以氮化硅和炭黑为原料、氧化硼为催化剂，氩气气氛下在高温炉中高温合成，自然冷却至室温后，在氧化气氛下除碳得到SiC晶须/SiC颗粒复合粉；随后，将此复合粉和氮化硅按一定比例混合，加入烧结助剂和结合剂，冷等静压成型，干燥、烧结，得到SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷气。所得到的该多孔陶瓷气的气孔率在38％以上，与未加SiC晶须/SiC颗粒复合粉的材料相比，弯曲强度提高18％以上，断裂韧性提高80％以上；所得到的这种材料能明显改善氮化硅陶瓷的脆性，且生产成本低，制备方法简单。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于陶瓷
，涉及一种用于增韧氮化硅陶瓷的碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，特别是提供了一种SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷的制备方法。
技术介绍
多孔氮化硅陶瓷具有低密度、均匀的透过性、大比表面积等优良特点，同时又兼具耐高温、抗热震等优良性能，在高温废气过滤、隔热以及催化剂载体等方面有广阔的应用前景。然而，由于氮化硅陶瓷材料的脆性和科学技术的发展对陶瓷材料的服役环境提出了更苛刻的要求，人们开始用加入增强相的办法制备氮化硅基复合材料，以提高材料的力学性能。
技术实现思路
为了克服上述现有技术的缺点，本专利技术的目的在于提供一种用于增韧氮化硅陶瓷的碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，有效地将SiC晶须的合成和多孔陶瓷的制备结合起来，既简化了SiC晶须的合成工艺，又通过得到的SiC晶须和SiC颗粒起到协同增韧的效果，在降低生产成本的同时提高了氮化硅多孔陶瓷材料的力学性能。为了实现上述目的，本专利技术采用的技术方案是：一种碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，包括：1)将氮化硅粉、炭黑和B2O3共磨至混合均匀；2)将混合后的原料放入高温气氛炉中，氩气保护，保持炉内压力0.11Mpa，以10℃/min左右的升温速度升温至1450～1550℃，保温3小时后，随炉体自然冷却至室温；3)将获得的粉体在高温炉中，氧化气氛下升温至500℃保温6小时，随后继续升温至900℃保温1小时，除去未反应的炭黑，得到SiC晶须/SiC颗粒复合粉体。所述步骤1)中，氮化硅粉与炭黑的质量比为(35～40)：(60～65)，外加B2O3为催化剂，用量为氮化硅粉与炭黑总重量的5％。所述步骤1)中，混合共磨2小时。所述步骤1)中，氮化硅粉为β-Si3N4粉，呈柱状，直径约10μm，长度20～40μm，主晶相β-Si3N4含量大于85％；炭黑呈粒状，粒径5～20μm。所得SiC晶须/SiC颗粒复合粉中，包括：占复合粉体总质量50％～60％的SiC晶须，直径为0.5～1.0μm；占复合粉体总质量10％～20％的SiC颗粒；以及余量的氮化硅粉。本专利技术碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体可用于协同增韧氮化硅多孔陶瓷。具体包括以下步骤：a)取一定量β-Si3N4粉和所述复合粉体为原料，外加烧结助剂和结合剂混合均匀，密封放置；b)先机压成型，再冷等静压成型得到坯体；c)将坯体干燥；d)将干燥后的坯体在氮气气氛下以不低于10℃/min的升温速度升至1780℃并保温，保持炉内压力0.6MPa，完成后随炉体自然冷却至室温。所述步骤a)中，氮化硅粉用量为原料总质量的85％～90％，复合粉体占10％～15％，烧结助剂和结合剂外加，烧结助剂占原料总质量的9％，结合剂占7％。所述烧结助剂由占原料总质量3％的Y2O3和占原料总质量6％的Al2O3组成，所述结合剂由占原料总质量3％的糊精和占原料总质量4％的水组成。所述步骤a)中，密封放置4小时；所述步骤b)中，机压成型的压力为50MPa，冷等静压成型的压力为100MPa；所述步骤c)中，坯体在105±5℃下干燥24小时；所述步骤d)中，保温3小时。与现有技术相比，采用本专利技术方法所得到的SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷可以根据复合粉的加入量控制增强体的含量。所得到的SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷气孔率在38％以上，与未加SiC晶须/SiC颗粒复合粉的材料相比，弯曲强度提高18％以上，断裂韧性提高80％以上。能明显提高氮化硅陶瓷的断裂韧性，且制备方法简单，简化了SiC晶须的合成工艺，降低了生产成本及其对环境的危害。附图说明图1是本专利技术SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷的制备工艺流程图。图2是合成的SiC晶须/SiC颗粒复合粉的显微照片。图3是SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷的显微照片。具体实施方式下面结合附图和实施例详细说明本专利技术的实施方式。本专利技术所述的碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，其专利技术原理为：以氮化硅和炭黑为主要原料，在高温可控气氛炉中通过碳热还原反应，制备碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体。此反应总的化学方程式为：Si3N4(s)+3C(s)＝3SiC(s)+2N2(g)要保证复合粉中SiC晶须的生成，关键是要控制反应过程中SiC的生成速度。反应过慢，晶须生长缓慢，长径比较小。反应过快，SiC沿三维方向生长，主要形成SiC颗粒。本专利技术通过控制原料配比和保温时间等条件限制反应速率，保证复合粉体中碳化硅晶须的生成量。所得到的复合粉体晶须和颗粒的尺寸通过扫描电子显微镜观察获得，SiC晶须和SiC颗粒的质量百分数利用扫描电子显微镜采用体视学图像分析法确定其体积百分数后换算成质量百分数。SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷的气孔率和体积密度测试采用排水法；弯曲强度测试采用三点弯曲法；断裂韧性测试采用单边切口梁法。以下是本专利技术给出的实施例。实施例1：如图1所示，包括如下步骤：步骤一，将氮化硅和炭黑按照质量百分比35％:65％的比例，外加5％(质量百分比)的B2O3，充分混合均匀。将混合后的原料放入高温气氛炉中，氩气保护，保持炉内压力0.11MPa。以10℃/min左右的升温速度迅速升温至1450℃，保温3小时后，随炉体自然冷却至室温。步骤二，将获得的粉体在高温炉中，在氧化气氛下500℃保温6小时，900℃保温1小时，得到SiC晶须/SiC颗粒复合粉。得到的复合粉中，SiC晶须约占复合粉质量的55％，直径约为0.6μm。SiC颗粒约占复合粉质量的15％，剩余为氮化硅粉。步骤三，分别取质量百分比10％的复合粉体和90％的氮化硅粉，外加质量百分比为3％的Y2O3和6％的Al2O3作为烧结助剂，3％的糊精和4％的水作为结合剂，混合均匀，密封放置4小时。在50MPa的成型压力下机压成型，随后在100MPa的压力下冷等静压成型。在105±5℃干燥24小时。将干燥后的坯体在氮气气氛下以不低于10℃/min的升温速度升至1780℃，保温3小时烧结，保持炉内压力0.6MPa，完成后随炉自然冷却至室温。所得到的SiC晶须/SiC颗粒协同增韧氮化硅多孔陶瓷，气孔率38％，弯曲强度105.52MPa，断裂韧性4.44MPa·m1/2。实施例2：如图1所示，包括如下步骤：步骤一，将氮化硅和炭黑按照质量百分比40％:60％的比例，外加5％(质量百分比)的B2O3，充分混合均匀。将混合后的原料放入高温气氛炉中，氩气保护，保持炉内压力0.11MPa。以10℃/min左右的升温速度迅速升温至1550℃，保温3小时后，随炉自然冷却至室温。步骤二，将获得的粉体在高温炉中，在氧化气氛下500℃保温6小时，900℃保温1小时，得到SiC晶须/SiC颗粒复合粉。得到的复合粉如图2所示，直径约为0.8μm，分散均匀，形态发育较好，笔直且表面较光滑。SiC晶须约占复合粉质量的52％，。SiC颗粒约占复合粉质量的16％，剩余为氮化硅。步骤三，分别取质量百分比10％的复合粉和90％的氮化硅粉，外加质量百分比为3％的Y2O3和6％的Al2O3作为烧结助剂，3％的糊精和4％的水作为结合剂，混合均匀，密封放置4小时。在50MPa的成型压本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，其特征在于，包括：1)将氮化硅粉、炭黑和B2O3共磨至混合均匀；2)将混合后的原料放入高温气氛炉中，氩气保护，保持炉内压力0.11Mpa，以10℃/min左右的升温速度升温至1450～1550℃，保温3小时后，随炉体自然冷却至室温；3)将获得的粉体在高温炉中，氧化气氛下升温至500℃保温6小时，随后继续升温至900℃保温1小时，除去未反应的炭黑，得到SiC晶须/SiC颗粒复合粉体。

【技术特征摘要】
1.一种碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，其特征在于，包括：1)将氮化硅粉、炭黑和B2O3共磨至混合均匀；2)将混合后的原料放入高温气氛炉中，氩气保护，保持炉内压力0.11Mpa，以10℃/min左右的升温速度升温至1450～1550℃，保温3小时后，随炉体自然冷却至室温；3)将获得的粉体在高温炉中，氧化气氛下升温至500℃保温6小时，随后继续升温至900℃保温1小时，除去未反应的炭黑，得到SiC晶须/SiC颗粒复合粉体。2.根据权利要求1所述碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，其特征在于，所述步骤1)中，氮化硅粉与炭黑的质量比为(35～40)：(60～65)，外加B2O3为催化剂，用量为氮化硅粉与炭黑总重量的5％。3.根据权利要求1所述碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，其特征在于，所述步骤1)中，混合共磨2小时。4.根据权利要求1所述碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，其特征在于，所述步骤1)中，氮化硅粉为β-Si3N4粉，呈柱状，直径约10μm，长度20～40μm，主晶相β-Si3N4含量大于85％；炭黑呈粒状，粒径5～20μm。5.根据权利要求1所述碳化硅晶须/碳化硅颗粒复合粉体的制备方法，其特征在于，所得SiC晶须/SiC颗粒复合粉中，包括：占复合粉体总质量50％...

【专利技术属性】
技术研发人员：张军战，张颖，高云琴，
申请(专利权)人：西安建筑科技大学，
类型：发明
国别省市：陕西;61