一种新型无溶剂凹版印刷工艺及用于该工艺的印刷机制造技术

本发明专利技术公开一种新型无溶剂凹版印刷工艺及用于该工艺的印刷机，该工艺采用无溶剂凹版制版，且制版的雕刻深度h＜30μm，通过匀墨机构使得墨辊蘸墨均匀，并利用同步压印装置使得压印胶辊两端同步地与墨辊的接触，保证了印刷质量，有效减少油墨的使用，具有节约油墨，降低成本的特点，同时有效避免了采用有机挥发性溶剂致使承印物表面VOC超标及污染环境的问题；本发明专利技术所述印刷机，其中印刷单元包括采用具有匀墨机构的供墨装置和与供墨装置一一对应设置的同步压印装置，在印刷过程中有效避免了墨辊向墨盆蘸墨转动时，油墨飞溅的问题，同时还使得墨辊蘸墨均匀，再通过同步压印装置使得压印胶辊两端同步地与墨辊接触印刷，保证了印刷质量。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及印刷
，尤其是一种新型无溶剂凹版印刷工艺及用于该工艺的印刷机。
技术介绍
现有技术中，在印刷领域，常规凹版印刷机采用有机溶剂辅助印刷，且制版的雕刻深度为35μm以上，为此需要使用较多的油墨，而且该有机溶剂挥发严重，且致使承印物表面的VOC残留超标，为此，国家制定了限制有机挥发性溶剂的排放标准及相关处罚措施。另外，常规凹版印刷机干燥能耗居高不下，致使凹版印刷面临市场困境。本专利技术即针对现有技术的不足而研究提出。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种新型无溶剂凹版印刷工艺，该工艺采用无溶剂凹版制版，且制版的雕刻深度h＜30μm，通过匀墨机构使得墨辊蘸墨均匀，并利用同步压印装置使得压印胶辊两端同步地与墨辊的接触，保证了印刷质量，有效减少油墨的使用，具有节约油墨，降低成本的特点，同时有效避免了采用有机挥发性溶剂致使承印物表面VOC超标及污染环境的问题。为解决上述技术问题，本专利技术包括一种新型无溶剂凹版印刷工艺，包括无溶剂制版、牵引放料、印刷、固化和收料，所述制版采用两版制版，且所述制版的雕刻深度为h，满足：h＜30μm。所述固化采用辐射固化源，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种新型无溶剂凹版印刷工艺，包括制版、牵引放料、印刷、固化和收料，其特征特征在于所述制版采用凹制版，且所述制版的雕刻深度为h，满足：h＜30μm；所述固化采用辐射固化源，所述辐射固化源包括UV、LED、OLED和EB；所述印刷中的印刷单元采用具有匀墨机构的供墨装置，使得墨辊蘸墨均匀，所述印刷单元还采用同步压印装置使得压印胶辊两端同步地与墨辊接触。

【技术特征摘要】
1.一种新型无溶剂凹版印刷工艺，包括制版、牵引放料、印刷、固化和收料，其特征特征在于所述制版采用凹制版，且所述制版的雕刻深度为h，满足：h＜30μm；所述固化采用辐射固化源，所述辐射固化源包括UV、LED、OLED和EB；所述印刷中的印刷单元采用具有匀墨机构的供墨装置，使得墨辊蘸墨均匀，所述印刷单元还采用同步压印装置使得压印胶辊两端同步地与墨辊接触。2.根据权利要求1所述一种新型无溶剂凹版印刷工艺，其特征在于所述制版雕刻呈平底凹型和/或V型；所述辐射固化源优选UV和/或LED。3.根据权利要求1或2所述一种新型无溶剂凹版印刷工艺，其特征在于所述印刷采用油墨通过3号查恩杯检测粘度为12-16秒。4.根据权利要求1所述一种新型无溶剂凹版印刷工艺，其特征在于所述制版的雕刻深度优选：18μm≤h≤25μm。5.根据权利要求1所述一种新型无溶剂凹版印刷工艺，其特征在于所述供墨装置(1)包括墨盆升降架(10)和设在墨盆升降架(10)上且位于墨辊下方并可上下运动的墨盆(11)，所述匀墨机构(12)包括设在墨盆升降架(10)上位于墨辊侧以防止油墨飞溅的挡块(13)和用于使墨辊上的油墨均匀的刮刀(14)，所述刮刀(14)位于挡块(13)上方，所述墨盆升降架(10)上还设有刮刀调节组件(15)。6.根据权利要求1所述一种新型无溶剂凹版印刷工艺，其特征在于所述同步压印装置(2)包括滑动设在在机架(100)上的压印滑动座(21)和设在机架(100)上用于驱动压印滑动座(21)滑动的压印驱动组件(22)，两所述压印滑动座(21)端部之间转动连接有压印胶辊(23)，所述压印滑动座(21)上且沿压印滑动座(21)滑动方向固定设有同步齿条(24)，所述机架(100)上且平行于压印胶辊(23)转动连接有传动转轴(25)，所述传动转轴(25)两端固...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭景松，贺志磐，王冰，
申请(专利权)人：中山松德印刷机械有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44