曝光机的对位方法技术

本发明专利技术公开一种曝光机的对位方法，包括如下步骤：选取同一对位区中的多个对位标中的任一个作为基准对位标，将除基准对位标以外的其他对位标作为备用对位标；利用所述基准对位标进行对位；以及当所述基准对位标对位失败时，从所述备用对位标中选取一个备用对位标并用以进行对位，当选取的备用对位标也对位失败时，重复执行从剩余的备用对位标中重新选取一个并用以进行对位的步骤。上述曝光机的对位方法，在一次对位错误之后，自动选取备用对位标进行再次对位，避免曝光机基准对位失败，自动报警停机或基板局部不良导致报废而造成生产成本的浪费。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻
，特别是涉及一种曝光机的对位方法。
技术介绍
光刻工艺中，曝光机的对位直接决定重合精度，但由于工艺生产不良产生的图形缺陷、膜质异常等因素，时常会出现对位标异常导致对位失败，而报警后必须由人为操作进行再对位，严重影响生产节拍。同时人工对位也可能因基板对位标局部不良最终无法完成对位，而报废产品基板，产生生产成本的浪费。现有解决办法是当曝光机设备发生对位异常报警时，需要工程师判断失败原因，根据原因修改对位标参数或者尝试手动对位、执行强制曝光、直接报废产品基板等措施。这样会造成较长时间的生产停滞影响和生产成本的浪费而导致一系列损失。
技术实现思路
鉴于上述状况，有必要提供一种能够在一次对位失败的情况下实现二次自动对位的曝光机的对位方法。一种曝光机的对位方法，包括如下步骤：选取同一对位区中的多个对位标中的任一个作为基准对位标，将除基准对位标以外的其他对位标作为备用对位标；利用所述基准对位标进行对位；以及当所述基准对位标对位失败时，从所述备用对位标中选取一个备用对位标并用以进行对位，当选取的备用对位标也对位失败时，重复执行从剩余的备用对位标中重新选取一个并用以进行对位的步骤。在其中一个实施例中，所述同一对位区中的多个对位标等间距排列。在其中一个实施例中，根据预先设置的优先次序调用所述多个对位标。在其中一个实施例中，所述同一对位区中的多个对位标的图案彼此不同。<br>在其中一个实施例中，还包括：当利用从所述备用对位标中选取的备用对位标对位成功后，根据对位结果生成补偿值并进行补偿。在其中一个实施例中，所述根据对位结果生成补偿值包括：获取对位成功的备用对位标与基准对位标之间的间距，将该间距加入补偿计算。在其中一个实施例中，当所述基准对位标对位失败时，从所述备用对位标中选取一个备用对位标并用以进行对位的步骤中，当所述基准对位标对位失败时，先自动重复对位多次。在其中一个实施例中，自动重复对位的次数为2次以上。在其中一个实施例中，所述多个对位标是利用掩膜板预先转移制作在基板上的。上述曝光机的对位方法，在一次对位错误之后，自动选取备用对位标进行再次对位，提高对位成功率，减少因对位标不良造成的基板报废和曝光机自动报警停机造成的生产损失。【附图说明】图1为本专利技术的曝光机的对位方法的流程图；图2为本专利技术的曝光机的对位方法中的基板上的对位标的示意图；图3为本专利技术的曝光机的对位方法中的掩模板上的对准标的示意图。【具体实施方式】为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。在半导体元件的生产过程中，曝光工艺是其中重要的制作工艺之一。例如，制作AMOLED(Active-matrixorganiclight-emittingdiode，有源矩阵有机发光二极体)显示器中的TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管液晶显示器)元件时，就需要用到曝光工艺制作阵列TFT。在光刻工艺中，曝光机的对位直接决定重合精度。但由于膜层厚度或者缺陷等因素的存在，时常会出现对位标异常导致对位失败，而报警后必须由人为操作进行再对位，严重影响生产节拍。例如，基板在曝光机上的对位，基板上的对位标可能由于灰尘、刻蚀、成膜、色差、缺陷等不良因素造成曝光机在识别时发生异常，导致读取对位标的坐标失败，导致曝光机对位失败。曝光机的对位系统具备设置对位区的可重复对位功能，当对位错误时，曝光机一般不会立即报警，而是先进行自动重复对位，如果仍然对位失败，则曝光机会报警，由工人手动调整，然后强制曝光或者放弃曝光。但是，手动调整，意味着需要工程师首先判断失败原因，然后根据失败原因修改对位参数或者尝试手动对位；同时基板也可能仍然需要完成曝光工艺制作却仅仅是因为对位标附近局部的不良而无法完成对位继续曝光。这样会造成较长时间的生产停滞和不必要的基板报废，进而导致一系列损失。为了解决上述问题，本专利技术提供一种新的曝光机的对位方法，其能够在一次对位失败的情况下自动进行二次对位。请参考图1，本专利技术的曝光机的对位方法，包括以下步骤。S110、选取同一对位区中的多个对位标中的任一个作为基准对位标，将除基准对位标以外的其他对位标作为备用对位标。以基板的对位为例进行说明，本步骤中，如图2所示，基板110上会设置多个对位区，如图2中，图示出了8个对位区。每一个对位区中均设置有多个对位标112。对位标112的数量为两个以上。曝光机在对位时，基板110上的不同的对位区均需对位。每一个对位区在进行对位时，均可以选取多个对位标112中的任一个作为基准对位标，除基准对位标以外的其他对位标则作为备用对位标。基板110上的对位标112是在利用掩模板120曝光制作基板110上的图案时转移制作在基板110上的。例如，如图3所示，掩模板120上会设置有对准标122，在制作基板110上的第一层图案时，无需考虑基板110的对位，只需要利用掩模板120正常曝光，将掩模板120上设置的对准标122的标记制作于基板110上，即在基板110上形成对位标112。制作基板110上的第二、第三层等图案时，则利用新的掩模板曝光，可以在基板110上继续形成新的对位标，过程与形成对位标112类似，不再赘述。制作基板110上的第二、第三层等图案时，则每一次都需要将基板110进行对位，以保证不同层图案的重合精度。S120、利用所述基准对位标进行对位。本步骤中，利用步骤S110中选取的对位标112作为基准对位标进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机的对位方法，其特征在于，包括如下步骤：选取同一对位区中的多个对位标中的任一个作为基准对位标，将除基准对位标以外的其他对位标作为备用对位标；利用所述基准对位标进行对位；以及当所述基准对位标对位失败时，从所述备用对位标中选取一个备用对位标并用以进行对位，当选取的备用对位标也对位失败时，重复执行从剩余的备用对位标中重新选取一个并用以进行对位的步骤。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机的对位方法，其特征在于，包括如下步骤：
选取同一对位区中的多个对位标中的任一个作为基准对位标，将除基准对
位标以外的其他对位标作为备用对位标；
利用所述基准对位标进行对位；以及
当所述基准对位标对位失败时，从所述备用对位标中选取一个备用对位标
并用以进行对位，当选取的备用对位标也对位失败时，重复执行从剩余的备用
对位标中重新选取一个并用以进行对位的步骤。
2.如权利要求1所述的曝光机的对位方法，其特征在于，所述同一对位区
中的多个对位标等间距排列。
3.如权利要求2所述的曝光机的对位方法，其特征在于，根据预先设置的
优先次序调用所述多个对位标。
4.如权利要求1所述的曝光机的对位方法，其特征在于，所述同一对位区
中的多个对位标的图案彼此不同。
5.如权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晓佳，邓亮，
申请(专利权)人：昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32