一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器技术

本发明专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器，在不需要引入OC层的情况下，可减小彩色滤光层制作过程中，由于在与黑矩阵搭接位置处凸起的存在而相对其平坦部分产生的段差。彩膜基板的制备方法包括：在衬底基板上形成黑矩阵以及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；其中，各滤光图案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起；所述方法还包括：形成刻蚀保护层，所述刻蚀保护层露出所述凸起；对露出的所述凸起进行刻蚀，以使各滤光图案的表面平坦；去除所述刻蚀保护层。用于彩膜基板及其所应用的液晶显示器。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，简称LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点，在当前的显示器市场中占据主导地位。液晶显示器包括阵列基板和彩膜基板，其中，彩膜基板包括黑矩阵和彩色滤光层，彩色滤光层包括第一基色例如红色滤光图案、第二基色例如绿色滤光图案和第三基色例如蓝色滤光图案。如图1所示，其制备方法为：在衬底基板10上形成黑矩阵20，在黑矩阵20上方形成红色滤光图案31、绿色滤光图案31和蓝色滤光图案33；其中，红色滤光图案31、绿色滤光图案32和蓝色滤光图案33按顺序依次形成。如图1所示，由于先形成黑矩阵20，使得后续在形成红色滤光图案31、绿色滤光图案32和蓝色滤光图案33时，在与黑矩阵20搭接的位置会产生凸起34，该凸起34相对各滤光图案的上表面的平坦部分存在一定的段差。由于该凸起34的存在，会导致在后续形成取向膜时出现涂布不均的情况，即在凸起34处，由于段差的原因取向膜没有被涂布上，从而当该彩膜基板应用于液晶显示器时会出现显示不良的现象。为解决上述问题，有人提出在彩色滤光层上制作一层较厚的OC(OverCoating，涂覆保护)层，期望能够抹平上述的段差，然而，由于OC层太厚会使其中的气体挥发而导致液晶显示器的盒内产生真空气泡，因此OC层并不能做的太厚，因而也就并不能消除上述的段差。而且引入OC层也会导致整个液晶显示器厚度增加，不利于液晶显示器的薄型化。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器，在不需要引入OC层的情况下，可减小彩色滤光层的各滤光图案制作过程中，由于在与黑矩阵搭接位置处凸起的存在而相对其平坦部分产生的段差。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，提供一种彩膜基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵以及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；其中，各滤光图案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起；所述方法还包括：形成刻蚀保护层，所述刻蚀保护层露出所述凸起；对露出的所述凸起进行刻蚀，以使各滤光图案的表面平坦；去除所述刻蚀保护层。优选的，形成刻蚀保护层，包括：以掩模板为遮挡，使其开口与形成有所述彩色滤光层的基板的除所述凸起之外的其余部分对应；采用蒸镀方法，形成所述刻蚀保护层。优选的，采用光刻胶剥离液对露出的所述凸起进行刻蚀。优选的，所述刻蚀保护层的材料为金属或金属氧化物。进一步优选的，所述刻蚀保护层的材料为ITO。基于上述，优选的，在去除所述刻蚀保护层后，所述方法还包括：形成隔垫物，所述隔垫物与所述黑矩阵对应。优选的，第一基色、第二基色和第三基色互为红色、绿色和蓝色。第二方面，提供一种彩膜基板，包括衬底基板、设置在所述衬底基板上的黑矩阵、以及设置在所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；各滤光图案的上表面平坦。优选的，所述彩膜基板还包括设置在所述彩色滤光层上方，且与所述黑矩阵对应的隔垫物。第三方面，提供一种液晶显示器，包括阵列基板和彩膜基板，其中，所述彩膜基板为第二方面的彩膜基板。本专利技术的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器，通过在形成黑矩阵以及彩色滤光层的情况下，先形成刻蚀保护层，再以该刻蚀保护层为阻挡，对露出的凸起进行刻蚀，之后将刻蚀保护层去除，可达到使各滤光图案的表面平坦的目的，因而，可减小彩色滤光层的各滤光图案制作过程中，由于在与黑矩阵搭接位置处凸起的存在而相对其平坦部分产生的段差，并且由于未引入OC层，当该彩膜基板应用于液晶显示器时，可避免液晶显示器盒内真空气泡的产生以及整体厚度的提高。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为现有技术提供的一种彩膜基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的一种制备彩膜基板的流程示意图；图3-6为本专利技术实施例提供的一种制备彩膜基板的过程示意图；图7为本专利技术实施例提供的一种包括隔垫物的彩膜基板的结构示意图；图8为本专利技术实施例提供的一种包括隔垫物和公共电极的彩膜基板的结构示意图。附图标记：10-衬底基板；20-黑矩阵；31-红色滤光图案；32-绿色滤光图案；33-蓝色滤光图案；34-凸起；41-第一基色滤光图案；42-第二基色滤光图案；43-第三基色滤光图案；50-刻蚀保护层；60-掩模板；601-开口；70-隔垫物；80-公共电极。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。除非另作定义，本申请使用的技术术语或者科学术语应当为本领域技术人员所理解的通常意义。本专利技术专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。本专利技术实施例提供一种彩膜基板的制备方法，如图2所示，该方法包括如下步骤：S10、如图3所示，在衬底基板10上形成黑矩阵20以及位于黑矩阵20上方的彩色滤光层，彩色滤光层包括第一基色滤光图案41、第二基色滤光图案42和第三基色滤光图案43；其中，各滤光图案在与所述黑矩阵20的搭接位置处具有凸起34。此处，对于第一基色滤光图案41、第二基色滤光图案42和第三基色滤光图案43，其颜色各不相同，只要三者的颜色为三基色即可。其中，第一基色、第二基色和第三基色可以互为红色、绿色和蓝...

【技术保护点】
一种彩膜基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵以及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；其中，各滤光图案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起；其特征在于，所述方法还包括：形成刻蚀保护层，所述刻蚀保护层露出所述凸起；对露出的所述凸起进行刻蚀，以使各滤光图案的表面平坦；去除所述刻蚀保护层。

【技术特征摘要】
1.一种彩膜基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵以
及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色
滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；其中，各滤光图
案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起；其特征在于，所述方法还
包括：
形成刻蚀保护层，所述刻蚀保护层露出所述凸起；
对露出的所述凸起进行刻蚀，以使各滤光图案的表面平坦；
去除所述刻蚀保护层。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成刻蚀保护层，
包括：
以掩模板为遮挡，使其开口与形成有所述彩色滤光层的基板的除
所述凸起之外的其余部分对应；
采用蒸镀方法，形成所述刻蚀保护层。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，采用光刻胶剥离液
对露出的所述凸起进行刻蚀。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述刻蚀保护层的
材料为金属或金属氧化物。
5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：张思凯，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11