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一种陶瓷瓦片单元体结构制造技术

技术编号:14830132 阅读:126 留言:0更新日期:2017-03-16 16:14
一种陶瓷瓦片单元体结构,包括一呈波浪状的瓦片主体,瓦片主体至少包括两个波谷,该瓦片主体长度方向的两个侧边分别形成相互配合的翘起部和凹弧部,瓦片主体宽度方向的一侧底面设有连接部,每个波谷底部对应的连接部上设有支撑面和/或支撑条,所有支撑面和/或支撑条的底面均处于同一平面上,凹弧部底面边缘设有档条,翘起部内侧还设有与档条相对应的沟槽,沟槽与连接部表面对应的一侧设有台阶面,档条底面对应设有一与台阶面相适配的让位槽,以使档条嵌入另一相同陶瓷瓦片单元的沟槽及台阶面内。本发明专利技术的陶瓷瓦片,保证搭接的密封性,不会出现明显的边角缺口痕迹,提高屋顶的美观性,在屋顶边角处的后续处理工艺更为简单。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及屋顶瓦片,更为具体地说是指一种陶瓷瓦片单元体结构
技术介绍
瓦片,铺设在建筑物顶部,形成中间隆起、两面倾斜的屋顶。采用瓦片做成的屋顶结构,具有以下优点:(1)利用斜面使屋顶的雨水排掉,以防止屋顶积水、漏水、渗水等问题。(2)通过瓦片与建筑物顶部所框围的空间,可导引空气形成对流,具有冬暖夏凉的效果。(3)通过瓦片的造型及颜色,可使建筑物的外观营造出多变、多元化的建筑风格。授权公告号为204960142U的中国专利技术专利公开了一种防漏瓦片,包括拱形部和拱形部一侧边延伸的搭接部,所述瓦片上沿拱形部和搭接部的外表面上边沿至搭接部外表面不与拱形部相连的一侧边沿上凸设有一条上挡水沿,所述瓦片上沿拱形部和搭接部的下边沿向内表面凸设有一条下挡水沿,所述上挡水沿形成有能够防止水继续渗透的挡水结构。所述拱形部的上边沿不与搭接部相连的一角开设有上直角缺口,所述搭接部的下边沿不与拱形部相连的一角开设有与上直角缺口一致的下直角缺口。虽然,上直角缺口与下直角缺口可在两个瓦片拼接时避免缝隙的产生,但由于上直角缺口与下直角缺口在搭接时表面会产生拼接痕迹,影响屋顶的美观性。另外,该防漏瓦片在屋顶的边角处会遗留直角缺口,增加了瓦片后期的处理工艺及难度。
技术实现思路
本专利技术提供一种陶瓷瓦片单元体结构,以解决现有具有上直角缺口和下直角缺口的瓦片在搭接时会产生拼接痕迹,影响屋顶美观性,以及瓦片在屋顶边角处会遗留直角缺口、增加其后期处理工艺等缺点。本专利技术采用如下技术方案:一种陶瓷瓦片单元体结构,包括一呈波浪状的瓦片主体,所述瓦片主体至少包括两个形成排水槽的波谷,该瓦片主体长度方向的两个侧边分别形成相互配合的翘起部和凹弧部,所述瓦片主体宽度方向的一侧底面设有垂直于波谷、用于固定在模条上的连接部,每个波谷底部对应的所述连接部上设有支撑面和/或支撑条,所有支撑面和/或支撑条的底面均处于同一平面上,所述凹弧部底面边缘设有档条,所述翘起部内侧还设有与所述档条相对应的沟槽,所述沟槽与连接部表面对应的一侧设有台阶面,所述档条底面对应设有一与所述台阶面相适配的让位槽,以使档条嵌入另一相同陶瓷瓦片单元的沟槽及台阶面内。进一步地,每个波谷上设有穿过其底部支撑面和/或支撑条之间的固定孔。进一步地,所述连接部的表面设有第一抬起部,该第一抬起部与瓦片主体表面形成一阶梯状结构,所述让位槽上方的档条设有第二抬起部,该第二抬起部覆盖在另一相同陶瓷瓦片单元的台阶面并与第一抬起部的边缘相贴合。所述瓦片主体宽度方向的另一侧设有覆盖部,该覆盖部的底面与第一抬起部及覆盖在台阶面上的第二抬起部的表面相匹配。所述支撑面或支撑条沿连接部宽度方向的两侧设有复数个卡设在模条边缘上的凸条。所述瓦片主体每个波谷的底面设有沿长度方向延伸的横向凸肋,波峰对应的底面则设有沿宽度方向延伸的纵向凸肋。由上述对本专利技术结构的描述可知,和现有技术相比,本专利技术具有如下优点:1、该陶瓷瓦片单元体结构,在翘起部内侧设有与档条相对应的沟槽,沟槽与连接部表面对应的一侧设有台阶面,档条底面对应设有一与台阶面相适配的让位槽,以使档条嵌入另一相同陶瓷瓦片单元的沟槽及台阶面内,由于让位槽在纵向上覆盖在台阶面上,故本专利技术的陶瓷瓦片,在保证搭接密封性的前提下,不会出现明显的边角缺口痕迹,提高屋顶的美观性。同时,该陶瓷瓦片的表面没有直角缺口,在屋顶边角处的后续处理工艺更为简单。2、波谷底部对应的所述连接部上设有支撑面和/或支撑条,所有支撑面和/或支撑条的底面均处于同一平面上,可避免陶瓷瓦片与模条之间出现间隙,使陶瓷瓦片的固定更加坚固、稳定,还可防止因连接部底面的不平整而影响相邻陶瓷瓦片单元之间搭接的密封性。附图说明图1为本专利技术的结构示意图一。图2为本专利技术的结构示意图二。图3为本专利技术的仰视图。图4为图3中A-A方向的剖面图。具体实施方式下面参照附图说明本专利技术的具体实施方式。为了全面理解本专利技术,下面描述到许多细节,但对于本领域技术人员来说,无需这些细节也可实现本专利技术。一种陶瓷瓦片单元体结构,参照图1至图4,包括一呈波浪状的瓦片主体1,所述瓦片主体包括两个形成排水槽的波谷10,瓦片主体1每个波谷10的底面设有沿长度方向延伸的横向凸肋11,波峰对应的底面则设有沿宽度方向延伸的纵向凸肋12。该瓦片主体1长度方向的两个侧边分别形成相互配合的翘起部21和凹弧部22。瓦片主体1宽度方向的一侧底面设有垂直于波谷10、用于固定在模条上的连接部30,每个波谷10底部对应的所述连接部30上设有支撑条13(和/或支撑面),所有支撑条13(和/或支撑面)的底面均处于同一平面上。每个波谷10上设有穿过其底部支撑条13(和/或支撑面)之间的固定孔14。支撑条13(或支撑面)沿连接部30宽度方向的两侧设有复数个卡设在模条边缘上的凸条15。参照图1和图2,上述凹弧部22底面边缘设有档条23,翘起部21内侧还设有与所述档条23相对应的沟槽24,所述沟槽24与连接部30表面对应的一侧设有台阶面241,所述档条23底面对应设有一与台阶面241相适配的让位槽230,以使档条23嵌入另一相同陶瓷瓦片单元的沟槽24及台阶面241内。继续参照图1和图2,上述连接部30的表面设有第一抬起部31,该第一抬起部31与瓦片主体1表面形成一阶梯状结构,所述让位槽230上方的档条23设有第二抬起部231,该第二抬起部231覆盖在另一相同陶瓷瓦片单元的台阶面241并与第一抬起部31的边缘相贴合。参照图1和图2,上述瓦片主体1宽度方向的另一侧设有覆盖部32,该覆盖部32的底面与第一抬起部31及覆盖在台阶面241上的第二抬起部231的表面相匹配。上述仅为本专利技术的具体实施方式,但本专利技术的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本专利技术进行非实质性的改动,均应属于侵犯本专利技术保护范围的行为。本文档来自技高网...
一种陶瓷瓦片单元体结构

【技术保护点】
一种陶瓷瓦片单元体结构,包括一呈波浪状的瓦片主体,所述瓦片主体至少包括两个形成排水槽的波谷,该瓦片主体长度方向的两个侧边分别形成相互配合的翘起部和凹弧部,其特征在于:所述瓦片主体宽度方向的一侧底面设有垂直于波谷、用于固定在模条上的连接部,每个波谷底部对应的所述连接部上设有支撑面和/或支撑条,所有支撑面和/或支撑条的底面均处于同一平面上,所述凹弧部底面边缘设有档条,所述翘起部内侧还设有与所述档条相对应的沟槽,所述沟槽与连接部表面对应的一侧设有台阶面,所述档条底面对应设有一与所述台阶面相适配的让位槽,以使档条嵌入另一相同陶瓷瓦片单元的沟槽及台阶面内。

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷瓦片单元体结构,包括一呈波浪状的瓦片主体,所述瓦片主体至少包括两个形成排水槽的波谷,该瓦片主体长度方向的两个侧边分别形成相互配合的翘起部和凹弧部,其特征在于:所述瓦片主体宽度方向的一侧底面设有垂直于波谷、用于固定在模条上的连接部,每个波谷底部对应的所述连接部上设有支撑面和/或支撑条,所有支撑面和/或支撑条的底面均处于同一平面上,所述凹弧部底面边缘设有档条,所述翘起部内侧还设有与所述档条相对应的沟槽,所述沟槽与连接部表面对应的一侧设有台阶面,所述档条底面对应设有一与所述台阶面相适配的让位槽,以使档条嵌入另一相同陶瓷瓦片单元的沟槽及台阶面内。2.如权利要求1所述的一种陶瓷瓦片单元体结构,其特征在于:每个波谷上设有穿过其底部支撑面和/或支撑条之间的固定孔。3.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:张国新蒋贤华
申请(专利权)人:张国新
类型:发明
国别省市:江西;36

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