压印装置、物品的制造方法及供给装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种压印装置、物品的制造方法及供给装置。所述压印装置包括：腔室，其被构造为限定包括处理单元的第一空间，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为通过使用模具进行使所述基板上的压印材料形成图案的压印处理；以及容器，其被构造为限定包括箱的第二空间，所述箱被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，并且所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及压印装置、物品的制造方法及供给装置。
技术介绍
随着使半导体器件微图案化的需求增加，除了传统的光刻技术以外，利用模具使基板上的未固化压印材料(树脂材料)成型并在基板上形成压印材料的图案的微细加工技术正受到关注。这种技术也被称为压印技术，并可以在基板上形成几纳米级的微细结构。光固化方法是压印技术的一个示例。在采用光固化方法的压印装置中，首先，压印材料被供给(涂布)到基板上的投射区域(压印区域)。然后，通过在压印材料和模具彼此接触的状态下利用光照射基板上的未固化压印材料来使其固化，并将模具从固化的压印材料脱模，由此在基板上形成图案。在将压印材料供给到基板上时使用的供给装置通常包括：储存压印材料的箱、排出压印材料的排出单元(分配器)以及用于将压印材料从箱供给到排出单元的供给管。在使用压印材料的处理中，压印材料可能被异物或金属污染。如果使用被污染的压印材料，则在基板上形成有缺陷的图案，从而影响产量。为了应对这种情况，日本专利特开2013-92643号公报提出了利用过滤器去除压印材料中的污染物的技术。此外，日本专利特开2013-153063号公报提出了通过一次蒸发压印材料来分离压印材料中的污染物的技术。然而，在现有技术中，在能够处理已经被污染的压印材料的同时，无法防止对压印材料的自身污染。压印材料的成分可以通过诸如过滤或蒸发的处理而改变。在这种情况下，压印材料本身的更换是不可避免的。非常难以去除已经进入压印材料的所有污染物。除非能够防止对压印材料的自身污染，否则难以稳定地供给压印材料并确保产量。在将压印材料供给到基板上的供给装置中，供给管使储存压印材料的箱和排出压印材料的排出单元连接，并且压印材料经由供给管从排出单元排出。在箱的内部，压印材料的量通过排出压印材料而改变，从而引起压力波动。为了应对压力波动，箱具有与箱的外部连通的连通口。如果箱内部的压力相对于箱外部的压力被设置为负压力，则可以吸入箱外部的气体。其结果是，存在于箱外部的微粒、金属中所含的水分等进入箱内部并融入压印材料。即，储存在箱中的压印材料可能被污染。
技术实现思路
本专利技术提供了一种有利于防止或减小压印材料的污染的压印装置。根据本专利技术的第一方面，提供了一种压印装置，所述压印装置包括：腔室，其被构造为限定包括处理单元的第一空间，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为进行通过使用模具对所述基板上的压印材料形成图案的压印处理；以及容器(enclosure)，其被构造为限定包括箱的第二空间，所述箱被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，并且所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间。根据本专利技术的第二专利技术，提供了一种物品的制造方法，所述制造方法包括以下步骤：使用压印装置在基板上形成图案；以及对形成有图案的所述基板进行处理，其中，所述压印装置包括：腔室，其被构造为限定包括处理单元的第一空间，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为进行通过使用模具对所述基板上的压印材料形成图案的压印处理；以及容器，其被构造为限定包括箱的第二空间，所述箱被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，并且所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间。根据本专利技术的第三方面，提供了一种在压印装置中使用的供给装置，所述压印装置包括被构造为限定包括处理单元的第一空间的腔室，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为进行通过使用模具对所述基板上的压印材料形成图案的压印处理，所述供给装置将压印材料供给到所述排出单元，所述供给装置包括：箱，其被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料；以及容器，其被构造为限定包括所述箱的第二空间，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间，所述供给装置还包括：盖构件，其被配设在所述箱中并且被构造为在覆盖所述第一开口的同时限定与所述第二空间分离的第三空间，以及第一管，其具有连接到所述供给口的一端，并且被构造为导入洁净气体，所述盖构件具有连接到所述第一管的另一端的连接口以及对所述第二空间开放的第二开口，并且洁净气体经由所述第一管被供给到所述第三空间，并且供给到所述第三空间的洁净气体经由所述第二开口被排出到所述第二空间。通过以下参照附图对示例性实施例的描述，本专利技术的其他特征将变得清楚。附图说明图1是示出根据本专利技术的一方面的压印装置的构造的示意图。图2是示出根据本专利技术的另一方面的压印装置的构造的示意图。图3A至图3F是用于说明物品的制造方法的图。具体实施方式下面将参照附图描述本专利技术的优选实施例。请注意，在整个图中，相同的附图标记表示相同的部件，并且将不给出其重复说明。图1是示出根据本专利技术的一方面的压印装置100的构造的示意图。压印装置100是通过在模具与基板上的压印材料相互接触的状态下使压印材料固化并使模具从固化的压印材料脱模，来在基板上形成图案的光刻装置。玻璃、陶瓷、金属、半导体、树脂等用于基板。根据需要，可在基板的表面上形成由与基板的材料不同的材料构成的部件。更具体地，硅晶片、化合物半导体晶片、石英玻璃等用作基板。通过接收固化能量而固化的可固化组合物(可称为未固化树脂)被用于压印材料。电磁波、热等用作固化能量。例如，诸如红外光、可见光、紫外光等的光(波长选自从10纳米(含)至1毫米(含)的范围)被用作电磁波。可固化组合物是通过光照射或施加热而固化的组合物。其中，通过光固化的光可固化组合物至少包含可聚合化合物和光聚合引发剂，并且可以根据需要包含非可聚合化合物或溶剂。非可聚合化合物至少是从由感光剂、供氢剂、内部脱模剂、表面活性剂、抗氧化剂、聚合物成分等构成的组中选择的材料。压印材料的粘度(在25℃的粘度)被设置为例如1mPa·s(含)至100mPa·s(含)。在本实施例中，紫外线固化树脂材料被用作压印材料。压印装置100包括处理单元110，处理单元110通过使用模具1和限定第一空间SP1的腔室120来进行在基板上的压印材料8中形成图案的压印处理，第一空间SP1限定处理单元110。压印装置100还包括储存要供给到分配器(排出单元)11的压印材料8的箱12，以及限定包括箱12的第二空间SP2的容器10。处理单元110包括在保持模具1的同时驱动模具1向上和向下的驱动单元2、台基座5、基板台6、照射单元7和将压印材料8排出到基板的分配器11。在模具1上形成微细的三维图案。可以在基板上形成与模具1的图案对应的图案。驱动单元2由结构保持，并且通过移动模具1更接近基板3来使模具1与基板上的压印材料8相互接触或通过移动模具1远离基板3来将模具1从基板上的压印材料8脱模。基板台6可以在保持基板3的同时在台基座5上移动。照射单元7被布置在模具1的上方，并经由模具1利用紫外光9照射基板上的压印材料8。照射本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种压印装置，所述压印装置包括：腔室，其被构造为限定包括处理单元的第一空间，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为进行通过使用模具对所述基板上的压印材料形成图案的压印处理；以及容器，其被构造为限定包括箱的第二空间，所述箱被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，并且所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间。

【技术特征摘要】
2015.09.03 JP 2015-1740171.一种压印装置，所述压印装置包括：腔室，其被构造为限定包括处理单元的第一空间，所述处理单元包括被构造为将压印材料排出到基板上的排出单元，并且所述处理单元被构造为进行通过使用模具对所述基板上的压印材料形成图案的压印处理；以及容器，其被构造为限定包括箱的第二空间，所述箱被构造为储存要供给到所述排出单元的压印材料，其中，所述箱具有对所述第二空间开放的第一开口，并且所述容器具有供给口，所述供给口被构造为经由所述第一开口将比供给到所述第一空间的气体更洁净的气体供给到所述第二空间。2.根据权利要求1所述的压印装置，其中，所述容器具有排出口，所述排出口被构造为将所述第二空间中的气体排出到除所述第一空间和所述第二空间以外的空间。3.根据权利要求1所述的压印装置，所述压印装置还包括盖构件，所述盖构件被配设在所述箱中并且被构造为在覆盖所述第一开口的同时限定从所述第二空间分离的第三空间，以及第一管，其具有连接到所述供给口的一端，并且被构造为导入洁净气体，其中，所述盖构件具有连接到所述第一管的另一端的连接口以及对所述第二空间开放的第二开口，并且洁净气体经由所述第一管被供给到所述第三空间，并且供给到所述第三空间的洁净气体经由所述第二开口被排出到所述第二空间。4.根据权利要求3所述的压印装置，其中，所述连接口的口径和所述第二开口的口径被设置为使得所述第三空间的压力变得高于所述箱的内部的压力。5.根据权利要求1所述的压印装置，所述压印装置还包括：第二管，所述第二管被构造为使所述排出单元和所述箱连接，以及循环单元，其被构造为经由所述第二管使压印材料在所述排出单元与所述箱之间循环。6.根据权利要求5所述的压印装置，所述压印装置还包括压力控制单元，所述压力控制单元被构造为将所述第二管内部的压力相对于大气压保持在负压。7.根据权利要求5所述的压印装置，所述压印装置还包括调整单元，所述调整单...

【专利技术属性】
技术研发人员：浅田邦彦，新井刚，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP