压印方法、用于压印方法的计算机程序产品和装置制造方法及图纸

公开了一种用于使柔性印模的浮雕模压表面与衬底的接收表面接触的方法和装置。该方法和装置可以用在压印方法中。在该方法期间并且利用该装置，在其中局部弯曲的浮雕模压表面的部分与印模接收表面接触的预形成的接触区域的接触前沿（边界）附近创建或打破接触，这样的创建或打破的速度针对柔性印模的不同部分而变化，使得该接触前沿在印模接收表面之上在沿印模接收表面上的接触前沿移动轨迹的不同位置处以不同速度移动。这可以用于在使用这样的方法和装置时优化吞吐量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及用于使柔性印模的浮雕印模表面与衬底的印模接收表面接触和/或用于从印模接收表面释放柔性印模的浮雕表面的操作方法和装置。本专利技术进一步涉及用于执行本专利技术的方法的计算机程序产品。本专利技术又进一步涉及用于控制用来使柔性印模的浮雕印模表面与衬底的印模接收表面接触的装置的控制设备以及包括该控制设备的装置。本专利技术最后涉及压印衬底的方法。
技术介绍
压印光刻作为对用于制造半导体设备的更传统（基于掩模）的光学光刻技术的可行替换方案正赢得关注，因为压印光刻能够以明显更低的成本提供相当的特征大小的图案化。在诸如衬底保形压印光刻（SCIL）之类的软印模压印光刻技术中，使在其表面上包括浮雕特征图案的柔性印模与衬底接触，该衬底典型地承载将被特征图案压印的（可固化的）抗蚀剂（resist）材料。因而，在典型压印光刻方法中，压印步骤包括使衬底上的抵御材料层与柔性印模的浮雕图案表面接触。在该步骤之后，使抗蚀剂材料显影，例如固化以便凝固，同时仍旧与柔性印模的浮雕图案表面接触。一旦凝固，柔性印模（以及伴随它的其浮雕特征图案）从凝固的抗蚀剂材料释放以在衬底上留下图案化的凝固的抗蚀剂层。当将软印模本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种在压印光刻过程内操作用于使柔性印模（10）的浮雕模压表面针对衬底（20）的印模接收表面（22）接触和/或释放的装置（100）的方法，该装置包括：‑ 用于保持和操控柔性印模（10）和/或用于保持和操控衬底（20）系统，使得当该系统保持柔性印模和衬底时，柔性印模能够局部弯曲以在印模接收表面（22）的部分上创建接触区域（14），在该接触区域（14）内浮雕模压表面的部分与印模接收表面（22）接触，而模压表面的另外部分不与印模接收表面接触，接触区域的边界的至少部分限定接触前沿；该方法包括提供接触区域（14）以及以下步骤中的至少一个：‑ 用于使浮雕模压表面与印模接收表面（22）接触的接触步骤，该接触步...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.03.31 EP 14162774.51.一种在压印光刻过程内操作用于使柔性印模（10）的浮雕模压表面针对衬底（20）的印模接收表面（22）接触和/或释放的装置（100）的方法，该装置包括：-用于保持和操控柔性印模（10）和/或用于保持和操控衬底（20）系统，使得当该系统保持柔性印模和衬底时，柔性印模能够局部弯曲以在印模接收表面（22）的部分上创建接触区域（14），在该接触区域（14）内浮雕模压表面的部分与印模接收表面（22）接触，而模压表面的另外部分不与印模接收表面接触，接触区域的边界的至少部分限定接触前沿；该方法包括提供接触区域（14）以及以下步骤中的至少一个：-用于使浮雕模压表面与印模接收表面（22）接触的接触步骤，该接触步骤包括对所述系统的控制以在接触前沿处或其附近创建接触，使得接触前沿以移动速率沿着基本上垂直于接触前沿且远离接触区域（14）的移动方向而沿衬底（20）的印模接收表面（22）移动，以及-用于从接触区域（14）中的印模接收表面（22）释放浮雕模压表面的释放步骤，该释放步骤包括对所述系统的控制以打破接触前沿处或其附近的接触，使得接触前沿以移动速率沿着基本上垂直于接触前沿且朝向接触区域的移动方向而沿着沿衬底的印模接收表面的衬底（20）的印模接收表面（22）移动，其中，对所述系统的控制以创建或打破接触包括第一步骤和第二步骤，其中在第一步骤中创建或打破接触以使得移动速率沿移动方向在第一预定距离之上具有第一恒定值，第一预定距离包括至少两个不同位置中的一个，并且其中在第二步骤中创建或打破接触以使得移动速率沿移动方向在第二预定距离之上具有第二恒定值，第二预定距离包括所述至少两个不同位置中的另一个，第一恒定值不同于第二恒定值，并且其中第一预定距离对应于具有第一浮雕形貌的浮雕模压表面（22）的第一区域的尺寸，并且第二预定距离对应于具有不同于第一浮雕形貌的第二浮雕形貌的浮雕模压表面（22）的第二区域的尺寸。2.如权利要求1所述的方法，其中第一和第二预定距离从其中存储用于第一预定距离和第二预定距离的值的查找表来检索。3.如权利要求1或2所述的方法，其中所述装置包括用于检查浮雕模压表面（22）的检查单元，并且其中所述方法包括：-利用检查单元检查浮雕模压表面以基于其浮雕形貌来确定第一和第二区域；-沿着将发生接触前沿的移动的方向，从第一区域导出第一预定距离并且从第二区域导出第二预定距离。4.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述方法包括接触步骤和在接触步骤之后的固化步骤，其中对所述系统的控制允许存在于衬底的接收表面上或形成衬底的接收表面的抗蚀剂层的凝固化而同时抗蚀剂层与浮雕模压表面接触。5.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述方法包括接触步骤和释放步骤，并且其中接触步骤的移动方向和释放步骤的移动方向被选取为下述中的任何一个：相同、彼此相反以及朝向彼此形成某一角度。6.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述系统包括用于保持柔性印模（10）的印模保持器（110）和多个印模配合元件（112），每一个印模配合元件是在第一配置和第二配置之间可切换的，在第一配置中柔性印模被附连和/或吸引到印模保持器，在第二配置中印模从印模保持器释放或推开，并且其中所述方法包括：-对所述系统的控制包括印模配合元件（112）从第一状态向第二状态的相继切换以用于创建接触，或者反之用于打破接触。7.如前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述系统进一步包括具有印模配合表面的印模保持器（110）和具有衬底配合表面的衬底保持器（120），其中所述方法进一步包括在接触步骤和/或释放步骤期间所述控制使得印模配合表面和衬底配合表面平行于彼此并且以间隙彼此分离。8.一种从通信网络可下载和/或存储在计算机可读和/或微处理器可执行介质上的计算机程序产品，其特征在于，该计算机程序产品包括用于实现根据权利要求1-7中任一项的方法的程序代码指令。9.一种用于控制用来使柔性印模（10）的浮雕模压表面与衬底（20）的印模接收表面（22）接触的装置的控制设备，其中该控制设备被配置...

【专利技术属性】
技术研发人员：MA维斯楚尤伦，R范布拉克，HWJJ范德拉亚尔，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰;NL