自清洁云台摄像头防护罩制造技术

本实用新型专利技术涉及摄像头防护装置技术领域，具体地说，涉及一种自清洁云台摄像头防护罩。其包括用于与摄像头镜头配合的膜体，膜体包括至少一层膜层单元，膜层单元包括在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的膜层单元组件A和膜层单元组件B，膜层单元组件A的材质采用四氮化三硅，膜层单元组件B的材质采用二氧化硅。本实用新型专利技术表面硬度较高，且在对可见光的反射率较低。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及摄像头防护装置
，具体地说，涉及一种自清洁云台摄像头防护罩。
技术介绍
近些年来，摄像头作为一种视频输入设备，被广泛的应用于各种领域，方便了消费者对信息的摄取，加快了信息的传递。摄像头的镜头对保证成像精度、成像质量等具有直接的影响，对于清晰度或成像质量越高的摄像头，其镜头的影响也就越大。但摄像头的镜头又不可避免的需要工作时暴露与外界环境中，这就使得摄像头的镜头极易受到损伤。为了对摄像头的镜头进行保护，现有技术中通常会在摄像头处设置一防护罩，该防护罩的设计虽然是能够将摄像头的镜头与外界环境进行隔离，却由于制造精度或材料的问题，对光线具有较大的反射率，进而大大降低了摄像头的成像质量。
技术实现思路
本技术的内容是提供一种自清洁云台摄像头防护罩，其能够克服现有技术的某种或某些缺陷。根据本技术的自清洁云台摄像头防护罩，其包括用于与摄像头镜头配合的膜体，膜体包括至少一层膜层单元，膜层单元包括在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的膜层单元组件A和膜层单元组件B，膜层单元组件A的材质采用四氮化三硅，膜层单元组件B的材质采用二氧化硅。本技术中，膜体的设置能够大大的降低防护罩处的光线反射率，进而能够较佳的降低防护罩对摄像头成像质量所造成的不良影响。另外，由于膜层单元组件A的材质采用四氮化三硅，膜层单元组件B的材质采用二氧化硅，从而使得膜体能够具备较佳的硬度，从而能够较佳的防止膜体受到不可意料的损伤的几率。作为优选，所述至少一层膜层单元的数量为3个，分别为在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的第一膜层单元、第二膜层单元和第三膜层单元。作为优选，第一膜层单元包括第一膜层单元组件A和第一膜层单元组件B，第一膜层单元组件A的厚度为9.23nm，第一膜层单元组件B的厚度为44.75nm；第二膜层单元包括第二膜层单元组件A和第二膜层单元组件B，第二膜层单元组件A的厚度为39.33nm，第二膜层单元组件B的厚度为11.52nm；第三膜层单元包括第三膜层单元组件A和第三膜层单元组件B，第三膜层单元组件A的厚度为75.06nm，第三膜层单元组件B的厚度为86.18nm。本技术中，通过设置3层膜层单元，且将该3层膜层单元的构造采用上述方式，使得膜体的表面硬度能够达到9H以上，且能够具备较小的光线反射率，尤其是在可见光段，光线的反射率能够保持在0.5％左右。附图说明图1为实施例1中的一种自清洁云台摄像头防护罩的膜体示意图；图2为实施例1中的膜体对不同波长光线的反射率关系图。图2中，横轴为波长(nm)，纵轴为反射率(％)。具体实施方式为进一步了解本技术的内容，结合附图和实施例对本技术作详细描述。应当理解的是，实施例仅仅是对本技术进行解释而并非限定。实施例1如图1所示，本实施例提供了一种自清洁云台摄像头防护罩，其包括用于与摄像头镜头配合的膜体100，膜体100包括至少一层膜层单元，膜层单元包括在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的膜层单元组件A和膜层单元组件B，膜层单元组件A的材质采用四氮化三硅，膜层单元组件B的材质采用二氧化硅。本实施例中，膜层单元的数量为3个，分别为在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的第一膜层单元、第二膜层单元和第三膜层单元。第一膜层单元包括第一膜层单元组件A111和第一膜层单元组件B112，第一膜层单元组件A111的厚度为9.23nm，第一膜层单元组件B112的厚度为44.75nm。第二膜层单元包括第二膜层单元组件A121和第二膜层单元组件B122，第二膜层单元组件A121的厚度为39.33nm，第二膜层单元组件B122的厚度为11.52nm。第三膜层单元包括第三膜层单元组件A131和第三膜层单元组件B132，第三膜层单元组件A131的厚度为75.06nm，第三膜层单元组件B132的厚度为86.18nm。如图2所示，本实施例中的膜体100对可见光范围内的波长均具有较小的反射率，约在0.5％左右。另外，本实施例中的膜体100的表面硬度能够达到9H。以上示意性的对本技术及其实施方式进行了描述，该描述没有限制性，附图中所示的也只是本技术的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。所以，如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本技术创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本技术的保护范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
自清洁云台摄像头防护罩，其特征在于：包括用于与摄像头镜头配合的膜体(100)，膜体(100)包括至少一层膜层单元，膜层单元包括在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的膜层单元组件A和膜层单元组件B，膜层单元组件A的材质采用四氮化三硅，膜层单元组件B的材质采用二氧化硅。

【技术特征摘要】
1.自清洁云台摄像头防护罩，其特征在于：包括用于与摄像头镜头配合的膜体(100)，膜体(100)包括至少一层膜层单元，膜层单元包括在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的膜层单元组件A和膜层单元组件B，膜层单元组件A的材质采用四氮化三硅，膜层单元组件B的材质采用二氧化硅。2.根据权利要求1所述的自清洁云台摄像头防护罩，其特征在于：所述至少一层膜层单元的数量为3个，分别为在远离摄像头镜头的方向上依次层叠的第一膜层单元、第二膜层单元和第三膜层单元。3.根据权利要求2所述的自清洁云台摄像头防护罩，其特征在于：第一膜层单元包括第...

【专利技术属性】
技术研发人员：许远飞，周旭华，邹朋，
申请(专利权)人：天通嘉兴新材料有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江;33