单体、聚合物、补偿膜、光学膜、和显示器件制造技术

公开单体、聚合物、补偿膜、光学膜、和显示器件。所述单体由化学式1‑1表示，其中在化学式1‑1中，Z、L1、L2、R1‑R6、n、m、p、和a‑f与在具体实施方式部分中定义的相同。化学式1‑1

【技术实现步骤摘要】
对相关申请的交叉引用本申请要求2015年8月28日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2015-0121502的优先权、以及由其产生的所有权益，其内容通过参考全部引入本文中。
公开单体、聚合物、补偿膜、光学膜、和显示器件。
技术介绍
平板显示器可分类为自身发射光的发光显示器件和需要独立的光源的非发射型显示器件，且补偿膜或光学膜被频繁地用于改善其图像品质。在可改善现有的补偿膜和光学膜的性质的新型聚合物方面仍然存在需要。
技术实现思路
一个实施方式提供可应用于补偿膜的新型单体。另一实施方式提供聚合物，其包括通过所述新型单体的聚合而得自所述新型单体的部分。又一实施方式提供包括所述聚合物的补偿膜。还一实施方式提供包括所述补偿膜的光学膜。进一步的实施方式提供包括所述补偿膜或所述光学膜的显示器件。根据一个实施方式，提供由化学式1-1表示的单体。化学式1-1在化学式1-1中，Z为-O-、-C＝O-、-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、-CH2O-、-CF2O-、-OC(＝O)O-、-C≡C-、-CH＝CH-、-CF＝CF-、或-C(＝O)NRa-，L1和L2独立地为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C1-C20氧基亚烷基(oxyalkylenegroup)、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C3-C20氧基亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C6-C20氧基亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、或其组合，R1-R6和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C2-C20烷氧基烷基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C4-C20环烷氧基烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的C7-C20芳烷基、取代或未取代的C7-C20芳氧基烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，n和m独立地为0或1，p为范围1-3的整数，a-f独立地为范围0-4的整数，且a+b、c+d、和e+f独立地为小于或等于4的整数。所述单体可由化学式1-1a或1-1b表示。化学式1-1a化学式1-1b在化学式1-1a和1-1b中，Z为-C＝O-、-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、-CH2O-、-CF2O-、-OC(＝O)O-、-C≡C-、-CH＝CH-、-CF＝CF-、或-C(＝O)NRa-，L1和L2独立地为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C1-C20氧基亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C3-C20氧基亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C6-C20氧基亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、或其组合，R1-R6和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C2-C20烷氧基烷基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C4-C20环烷氧基烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的C7-C20芳烷基、取代或未取代的C7-C20芳氧基烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，p为范围1-3的整数，a-f独立地为范围0-4的整数，且a+b、c+d、和e+f独立地为小于或等于4的整数。所述单体可由化学式1a或1b表示。化学式1a化学式1b根据另一实施方式，提供聚合物，其为酸酐和二胺化合物的反应产物，其中所述二胺化合物包括由化学式1-1表示的第一二胺化合物。所述第一二胺化合物可由化学式1-1a或1-1b表示。所述第一二胺化合物可由化学式1a或1b表示。所述二胺化合物可进一步包括不同于所述第一二胺化合物的第二二胺化合物，其中所述第二二胺化合物可包括选自组1的化合物的至少一种。组1在组1中，R32-R48独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的胺基、取代或未取代的C1-C20烷基胺基、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，X2-X10独立地为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、-SO2-、-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、选自组2的基团、或其组合，n35-n37和n40-n49独立地为范围0-4的整数，且n38和n39独立地为范围0-3的整数。组2所述第二二胺化合物可包括选自组3的化合物的至少一种。组3所述第一二胺化合物对所述第二二胺化合物的摩尔比可为约1:9-约5:5。所述酸酐可由化学式2或3表示。化学式2化学式3在化学式2或3中，L3为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C1-C20氧基亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C3-C20氧基亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C6-C20氧基亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、-SO2-、或-C(＝O)NRb-、或其组合，且R7-R12和Rb独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C2-C20烷氧基烷基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C4-C20环烷氧基烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的C7-C20芳烷基、取代或未取代的C7-C20芳氧基烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。所述酸酐可包括2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐、2,3,3’,4’-二苯基砜四羧酸二酐、3,4’-氧基二邻苯二甲酸酐、3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基砜四羧酸二酐、4,4’-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐、4,4’-氧基二邻苯二甲酸酐、均苯四酸二酐、4-(2,5-二氧代四氢呋喃-3-基)-1,2,3,4-四氢萘-1,2-二羧酸酐、或其组合。根据另一实施方式，补偿膜包括聚合物，其为酸酐和二胺化合物的反应产物，其中所述聚合物包括包含至少一个乙炔基团的侧链。所述二胺化合物可包括由化学式1-2表示的第一二胺化合物。化学式1-2在化学式1-2中，Z为-C＝O-、-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、-CH本文档来自技高网...

【技术保护点】
由化学式1‑1表示的单体：化学式1‑1其中，在化学式1‑1中，Z为‑C＝O‑、‑(C＝O)O‑、‑O(C＝O)‑、‑CH2O‑、‑CF2O‑、‑OC(＝O)O‑、‑C≡C‑、‑CH＝CH‑、‑CF＝CF‑、或‑C(＝O)NRa‑，L1和L2独立地为单键、取代或未取代的C1‑C20亚烷基、取代或未取代的C1‑C20氧基亚烷基、取代或未取代的C3‑C20亚环烷基、取代或未取代的C3‑C20氧基亚环烷基、取代或未取代的C6‑C20亚芳基、取代或未取代的C6‑C20氧基亚芳基、取代或未取代的C3‑C20二价杂环基团、或其组合，R1‑R6和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1‑C20烷基、取代或未取代的C1‑C20烷氧基、取代或未取代的C2‑C20烷氧基烷基、取代或未取代的C1‑C20氟烷基、取代或未取代的C3‑C20环烷基、取代或未取代的C3‑C20环烷氧基、取代或未取代的C4‑C20环烷氧基烷基、取代或未取代的C6‑C20芳基、取代或未取代的C6‑C20芳氧基、取代或未取代的C7‑C20芳烷基、取代或未取代的C7‑C20芳氧基烷基、取代或未取代的C3‑C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，n和m独立地为0或1，p为范围1‑3的整数，a‑f独立地为范围0‑4的整数，且a+b、c+d、和e+f独立地为小于或等于4的整数。...

【技术特征摘要】
2015.08.28 KR 10-2015-01215021.由化学式1-1表示的单体：化学式1-1其中，在化学式1-1中，Z为-C＝O-、-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、-CH2O-、-CF2O-、-OC(＝O)O-、-C≡C-、-CH＝CH-、-CF＝CF-、或-C(＝O)NRa-，L1和L2独立地为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C1-C20氧基亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C3-C20氧基亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C6-C20氧基亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、或其组合，R1-R6和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C2-C20烷氧基烷基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C4-C20环烷氧基烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的C7-C20芳烷基、取代或未取代的C7-C20芳氧基烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，n和m独立地为0或1，p为范围1-3的整数，a-f独立地为范围0-4的整数，且a+b、c+d、和e+f独立地为小于或等于4的整数。2.如权利要求1所述的单体，其中所述单体由化学式1-1a或1-1b表示：化学式1-1a化学式1-1b其中，在化学式1-1a和1-1b中，Z为-C＝O-、-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、-CH2O-、-CF2O-、-OC(＝O)O-、-C≡C-、-CH＝CH-、-CF＝CF-、或-C(＝O)NRa-，L1和L2独立地为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C1-C20氧基亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C3-C20氧基亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C6-C20氧基亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、或其组合，R1-R6和Ra独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C2-C20烷氧基烷基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C4-C20环烷氧基烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的C7-C20芳烷基、取代或未取代的C7-C20芳氧基烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，p为范围1-3的整数，a-f独立地为范围0-4的整数，且a+b、c+d、和e+f独立地为小于或等于4的整数。3.如权利要求1所述的单体，其中所述单体由化学式1a或1b表示：化学式1a化学式1b4.聚合物，其为酸酐和二胺化合物的反应产物，其中所述二胺化合物包括第一二胺化合物，所述第一二胺化合物为如权利要求1-3任一项所述的由化学式1-1表示的单体。5.如权利要求4所述的聚合物，其中所述二胺化合物进一步包括不同于所述第一二胺化合物的第二二胺化合物，和其中所述第二二胺化合物包括选自组1的化合物的至少一种：组1其中，在组1中，R32-R48独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的胺基、取代或未取代的C1-C20烷基胺基、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合，X2-X10独立地为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、-SO2-、-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、选自组2的基团、或其组合，n35-n37和n40-n49独立地为范围0-4的整数，且n38和n39独立地为范围0-3的整数，组26.如权利要求5所述的聚合物，其中所述第二二胺化合物包括选自组3的化合物的至少一种：组37.如权利要求5所述的聚合物，其中所述第一二胺化合物对所述第二二胺化合物的摩尔比为1:9-5:5。8.如权利要求4所述的聚合物，其中所述酸酐由化学式2或3表示：化学式2化学式3其中，在化学式2或3中，L3为单键、取代或未取代的C1-C20亚烷基、取代或未取代的C1-C20氧基亚烷基、取代或未取代的C3-C20亚环烷基、取代或未取代的C3-C20氧基亚环烷基、取代或未取代的C6-C20亚芳基、取代或未取代的C6-C20氧基亚芳基、取代或未取代的C3-C20二价杂环基团、-O-、-C(＝O)-、-C(＝O)O-、-SO2-、-C(＝O)NRb-、或其组合，且R7-R12和Rb独立地为氢、取代或未取代的C1-C20烷基、取代或未取代的C1-C20烷氧基、取代或未取代的C2-C20烷氧基烷基、取代或未取代的C1-C20氟烷基、取代或未取代的C3-C20环烷基、取代或未取代的C3-C20环烷氧基、取代或未取代的C4-C20环烷氧基烷基、取代或未取代的C6-C20芳基、取代或未取代的C6-C20芳氧基、取代或未取代的C7-C20芳烷基、取代或未取代的C7-C20芳氧基烷基、取代或未取代的C3-C20杂环基团、取代或未取代的甲硅烷基、羟基、卤素、硝基、或其组合。9.如权利要求4所述的聚合物，其中所述酸酐包括2,3,3’,4’-联苯四羧酸二酐、2,3,3’,4’-二苯基砜四羧酸二酐、3,4’-氧基二邻苯二甲酸酐、3,3’,4,4’-联苯四羧酸二酐、双环[2.2.2]辛-7-烯-2,3,5,6-四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基砜四羧酸二酐、4,4’-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐、4,4’-氧基二邻苯二甲酸酐、均苯四酸二酐、4-(2,5-二氧代四氢呋喃-3-基)-1,2,3,4-四氢萘-1,2-二羧酸酐、或其组合。10.补偿膜，其包括聚合物，所述聚合物为酸酐和二胺化合物的反应产物，其中所述聚合物包括包含至少一个乙炔基团的侧链。11.如权利要求10所述的补偿膜，其中所述二胺化合物包括由化学式1-2表示的第一二胺化合物：化学式1-2其中，在化学式1-2中，Z为-C＝O-、-(C＝O)O-、-O(C＝O)-、-CH2O-、-CF2O-、-OC(＝O)O-、-C≡C-、-CH＝CH-、-CF＝CF-、或-C(＝O)NRa-，L1和L2独立地为单...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞贞恩，D安德洛索夫，金畅基，朴起兑，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：韩国;KR