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超细活性二氧化硅的加工方法技术

技术编号:1473301 阅读:372 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种超细活性硅的加工方法,其特征是,它的加工步骤如下:将洁净的石英砂粉料烘干至含水率小于0.2%;把烘干的石英砂粉料从一个具有1800-3500℃的高温炉的顶口以均匀分散状态送入炉中,使石英砂粉料呈旋浮状态,慢慢下落,保证炉内高温区有5-30秒的加热时间使之活化;活化后的超细粉自然落入高温炉底,排出后立即进行冷却,使之在30分钟内迅速冷却至100℃以下,即成为成品;上面所述的高温炉是采用高能物理技术制成的,炉内的高温区由激光束或等离子束产生。本发明专利技术是一种连续生产超细活性硅的加工方法,生产工艺简单、实用,成本低,每吨成本不足200元,填补了超细活性硅生产的空白。

Method for processing superfine active silica

The invention discloses a processing method of superfine activated silicon, which is characterized in that the processing steps are as follows: it will clean the quartz sand powder drying to moisture content is less than 0.2%; the quartz sand powder material drying furnace from a 1800 - 3500 DEG C of the top opening to dispersed evenly into the furnace in the quartz sand powder in a spiral floating state, falling slowly, ensure the high temperature zone in the furnace heating time 5 - 30 seconds to activation; ultrafine powder activated naturally falls into the high temperature furnace, cooling immediately after discharge, so that in 30 minutes the rapid cooling to 100 DEG, will become the finished high temperature furnace; described above is made of high energy physics technology, high temperature zone furnace produced by laser beam or plasma beam. The invention relates to a method for continuously producing superfine active silicon. The production process is simple and practical, and the cost is low, and the cost is less than 200 yuan per ton, thus filling the blank of the superfine active silicon production.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于建材领域中活性硅的加工方法。
技术介绍
超细活性硅类同于目前市面上商品硅灰,硅灰是在冶炼硅铁或硅钢炉中经电除尘或机械除尘方法从排放的废气中收集的飞灰。超细活性硅的物理性质要求比表面积≥1000m2/kg,物相要求为固相玻璃体。其成分主要是活性二氧化硅和少量杂质,可以与水泥水化物中的氢氧化钙发生水化反应,因此可以掺和在水泥中,用以提高水泥或混凝土强度、抗湿性等理化指标。其用途早就受到人们重视,但由于这种飞灰收集量有限,所以价格昂贵(每吨1500-2000元),工程使用受到限制。因此很需要专利技术一种高效廉价的生产超细活性硅的方法,以满足工程需要。
技术实现思路
本专利技术主要是提供一种超细活性硅的加工生产方法。其步骤是1、将洁净的石英砂粉料烘干至含水率小于0.2%。2、把烘干的石英砂粉料从一个具有1800-3500℃的高温炉的顶口以均匀分散状态送入炉中,使石英砂粉料呈旋浮状态,慢慢下落,保证炉内高温区有5-30秒的加热时间使之活化。3、活化后的超细粉自然落入高温炉底,排出后立即进行冷却,使之在30分钟内迅速冷却至100℃以下,即成为成品。上面所述的高温炉是采用高能物理技术本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种超细活性硅的加工方法,其特征是,它的加工步骤如下:(1)将洁净的石英砂粉料烘干至含水率小于0.2%;(2)把烘干的石英砂粉料从一个具有1800-3500℃的高温炉的顶口以均匀分散状态送入炉中,使石英砂粉料呈旋浮状态,慢慢 下落,保证炉内高温区有5-30秒的加热时间使之活化;(3)活化后的超细粉自然落入高温炉底,排出后立即进行冷却,使之在30分钟内迅速冷却至100℃以下,即成为成品;上面所述的高温炉是采用高能物理技术制成的,炉内的高温区由激光束 或等离子束产生。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张仁水曲来印王明远张小彦
申请(专利权)人:张仁水
类型:发明
国别省市:37[中国|山东]

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