一种可钢化低辐射镀膜玻璃制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片（１），在玻璃基片（１）表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层（２）、镍膜层（３）、银膜层（４），镍膜层（５），氮化硅膜层（６），从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，第一、五层膜采用氮化硅膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能；第二、四层膜采用镍膜，可以保证银膜层在钢化炉内７００度的高温下，不被氧化或与其它物质反应。该产品具有生产效率高，可以在玻璃上镀低辐射膜后再钢化，膜层不变色、辐射率不变化的优点。（*该技术在2018年保护过期，可自由使用*）

Toughened low radiation coated glass

The utility model discloses a temperable Low-E glass, comprising a glass substrate (1), on a glass substrate (1) on the surface from bottom to top is coated with a silicon nitride film (2), nickel film (3), a silver film (4), nickel film (5). A silicon nitride film (6), which constitute the five layer structure can be toughened Low-E glass. With the structure, the first, fifth layer film using a silicon nitride film, can improve the cohesion between film and glass, improve the corrosion resistance of coating wear, second, fourth layer film by; nickel film, silver film can be ensured in tempering furnace for high temperature of 700 degrees, not by oxidation or with its material. The product has high production efficiency, can be plated on the glass after the low radiation film and then toughened, the film does not change color, radiation rate does not change the advantages.

【技术实现步骤摘要】

本技术属于一种镀膜玻璃，主要涉及一种可钢化低辐射镀膜玻璃。
技术介绍
低辐射镀膜玻璃是指在玻璃表面沉积一层高红外线反射材料(金属银)， 使玻璃吸收太阳光光谱中的红外线和其它物体发出的红外线非常少，玻璃自 身又不存储能量，因此镀膜玻璃向外辐射的红外线也非常少，称为低辐射镀 膜玻璃。该玻璃用于窗户上，可有效地阻挡太阳光中的红外线进入室内，降 低夏天室内温度，节约空调制冷费用，冬天可以阻挡室内物体发出的红外线 被玻璃吸收，散发到室外，提高室内温度，节约取暖费用。现在市场上巳经有很多种低辐射镀膜玻璃产品，第一层膜有用氧化锡 的，也有用氧化锌的，第二层膜都是银膜，也有前面加一层镍铬膜的结构， 第三层都用镍铬层，第四层主要为保护膜， 一般采用氧化锡或氧化锌作保护 膜，这些产品在钢化过程中会出现变色、低辐射性能变差等问题。
技术实现思路
本技术目的是提供一种五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃，使其 具有膜层可以经受钢化炉高温的考验，仍然保持低辐射性能不变。本技术的目的可采用如下技术方案来实现其具有玻璃基片，在玻 璃基片表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层、镍膜层、银膜层、镍膜层、 氮化硅膜层，从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，第一、五层膜采用氮化硅膜，可以提高膜层与玻璃的结 合力，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能；第二、四层膜采用镍膜，可以保证银 膜层在钢化炉内700度的高温下，不被氧化或与其它物质反应。附图说明附图1为本技术的具体结构示意图。图中1、玻璃基片，2、氮化硅膜层，3、镍膜层，4、银膜层，5、镍 膜层，6、氮化硅膜层。具体实施方式结合附图，说明本技术的具体实施例。如附图1所示其具有玻璃基片1，在玻璃基片表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层2、镍膜层3、银膜层4，镍膜层5，氮化硅膜层6，从而构 成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。本技术是在真空环境下，通过磁控溅射在玻璃表面沉积五层膜的方 法，生产一种红外线辐射率很低的镀膜玻璃。所述的低辐射镀膜玻璃是在镀膜室抽真空至1. 1X10—4Pa以下，充入工艺气体(氧气或氮气或氩气)，使镀 膜室压力稳定在0.3Pa左右，将溅射源送电，靶材开始溅射，送入玻璃将耙 材原子或其化合物沉积到玻璃表面。第一个镀膜室充入氮气，耙材为硅耙， 将氮化硅膜沉积到玻璃表面为第一层膜，厚度10至40纳米，第二个镀膜室 充入氩气，靶材为镍靶，在氮化硅上面沉积第二层镍膜，厚度1至10纳米; 第三个镀膜室充入氩气，靶材为银靶，在镍膜上沉积第三层银膜，厚度1 至10纳米；第四个镀膜室充入氩气，靶材为镍靶，在银膜上沉积第四层镍膜，厚度1至10纳米；第五个镀膜室充入氮气，靶材为硅靶，在镍膜上沉积第五层氮化硅膜，厚度15 50纳米。第一、五层膜采用氮化硅膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层 的耐磨、耐腐蚀性能；第二、四层膜采用镍膜，可以保证银膜层在钢化炉内 700度的高温下，不被氧化或与其它物质反应。权利要求1、一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，其特征是在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、镍膜层(3)、银膜层(4)，镍膜层(5)，氮化硅膜层(6)，从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。专利摘要本技术公开了一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片(1)，在玻璃基片(1)表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层(2)、镍膜层(3)、银膜层(4)，镍膜层(5)，氮化硅膜层(6)，从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。采用上述结构，第一、五层膜采用氮化硅膜，可以提高膜层与玻璃的结合力，提高膜层的耐磨、耐腐蚀性能；第二、四层膜采用镍膜，可以保证银膜层在钢化炉内700度的高温下，不被氧化或与其它物质反应。该产品具有生产效率高，可以在玻璃上镀低辐射膜后再钢化，膜层不变色、辐射率不变化的优点。文档编号C03C17/36GK201250184SQ20082014856公开日2009年6月3日 申请日期2008年8月18日 优先权日2008年8月18日专利技术者孟怡敏, 王秀丽, 明 郭 申请人:洛阳新晶润工程玻璃有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种可钢化低辐射镀膜玻璃，其具有玻璃基片（１），其特征是：在玻璃基片（１）表面上从底层向上依次镀有氮化硅膜层（２）、镍膜层（３）、银膜层（４），镍膜层（５），氮化硅膜层（６），从而构成五层膜结构的可钢化低辐射镀膜玻璃。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：郭明，王秀丽，孟怡敏，
申请(专利权)人：洛阳新晶润工程玻璃有限公司，
类型：实用新型
国别省市：41[中国|河南]