一种高低温真空漏孔校准装置及方法制造方法及图纸
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种高低温真空漏孔校准装置及方法，特别地，涉及一种实现在-50℃～+50℃内真空漏率精确校准的装置及方法，属于测量领域。
技术介绍
在计量实验室中，真空漏孔的校准大多采用标准漏孔和高精度气体微流量计提供已知气体流量，通过测量示漏气体离子流进行比较。在采用比较法、固定流导法、分流法和静态累积法校准时，对真空漏孔漏率的校准都在实验室温度(23℃±3℃)条件下进行。文献“李得天，李正海，郭美如，等.超高/极高真空校准装置的研制.真空科学与技术学报26(2),2007.”介绍了目前校准极高真空规采用的一种新方法-分流法。分流法是将高精度气体微流量计提供已知气体流量注入到分流室，再通过分流室将气体流量分流到极高真空校准室和超高真空校准室，实现了将校准下限延伸至1×10-10Pa·m3/s，分流法是对动态流量法的发展。静态累积法利用离子流上升率进行测量，避免了极小真空漏率极小情况下，四极质谱计无法区分被校准离子流和本底离子流，将校准下限延伸至1×10-12Pa·m3/s。以上方法的不足之处是侧重于校准下限延伸和测量不确定度的减小，对真空漏孔漏率的校准都在实验室...
【技术保护点】
一种高低温真空漏孔校准装置，其特征在于：所述装置的主要组成部件包括标准真空漏孔(1)、第一阀门(2)、质谱计(3)、校准室(4)、真空计(5)、第二阀门(6)、高低温度室(8)、第三阀门(9)、抽气机组(10)、温控板(11)和温度控制系统(12)；标准真空漏孔(1)通过第一阀门(2)与校准室(4)相连；抽气机组(10)通过第三阀门(9)与校准室(4)相连；被校真空漏孔(7)通过第二阀门(6)与校准室(4)相连，置于高低温度室(8)内；质谱计(3)与校准室(4)相连；真空计(5)与校准室(4)相连；温控板(11)置于高低温度室(8)内，与高低温度室(8)外的温度控制系统(1...
【技术特征摘要】
1.一种高低温真空漏孔校准装置，其特征在于：所述装置的主要组成部件包括标准真空漏孔(1)、第一阀门(2)、质谱计(3)、校准室(4)、真空计(5)、第二阀门(6)、高低温度室(8)、第三阀门(9)、抽气机组(10)、温控板(11)和温度控制系统(12)；标准真空漏孔(1)通过第一阀门(2)与校准室(4)相连；抽气机组(10)通过第三阀门(9)与校准室(4)相连；被校真空漏孔(7)通过第二阀门(6)与校准室(4)相连，置于高低温度室(8)内；质谱计(3)与校准室(4)相连；真空计(5)与校准室(4)相连；温控板(11)置于高低温度室(8)内，与高低温度室(8)外的温度控制系统(12)连接；第一阀门(2)、第二阀门(6)和第三阀门(9)均为全金属超高真空阀；标准真空漏孔(1)和被校真空漏孔(7)自带气源或与气源连接获得气源。2.根据权利要求1所述的一种高低温真空漏孔校准装置，其特征在于：抽气机组(10)为机械泵、分子泵、双分子泵或机械泵与分子泵的组合。3.根据权利要求2所述的一种高低温真空漏孔校准装置，其特征在于：质谱计(3)为四级质谱计。4.一种高低温真空漏孔校准方法，其特征在于：所述方法采用如权利要求1～3任一项所述的一种高低温真空漏孔校准装置完成，所述装置中所有组成部件在使用前均处于关闭状态，标准真空漏孔(1)的漏率已知；所述方法步骤如下：(1)打开第三阀门(9)，启动抽气机组(10)，从校准室(4)中抽出气体，并且在以下步骤中持续抽出气体，以达到所需真空度，直至所有步骤完成；(2)对所述装置整体进行烘烤除气，烘烤温度以匀速速率上升至200℃～250℃后，保持60h～80h，然后再以匀速速率逐渐下降至室温，上升和下降的匀速速率相同，为20℃/h～40℃/h；(3)用真空计(5)对...
【专利技术属性】
技术研发人员：盛学民，李得天，孙雯君，郭美如，袁征难，王永军，汪宁，
申请(专利权)人：兰州空间技术物理研究所，
类型：发明
国别省市：甘肃;62
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