浮抛槽制造技术

本发明专利技术涉及一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，外壳内承接多个毗连置放的槽底砖，其中，在槽底砖的上部形成熔体区。为了能够使槽底砖形成明显改进的封闭效果，依据本发明专利技术，至少部分槽底砖在其朝向熔体区的面上，用非贵金属覆盖。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Floating trough

The invention relates to a floating throwing groove used for float glass production equipment, which has a trough bottom shell, and a plurality of adjacent bottom groove bricks are arranged in the outer shell, wherein, the melt area is formed at the upper part of the bottom brick of the tank. In order to form a substantially improved sealing effect on the bottom tiles of the trough, according to the present invention, at least part of the channel bottom brick is covered with non precious metal on the surface toward the melt zone. \ue5cf

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，其中承接多个毗连置放的槽底砖，并且其中，在槽底砖的上部构成熔体区。目前，例如用于建筑物和汽车上的平板玻璃是按照浮法生产。这里，钙氧化钠玻璃在约1100℃下在液态锡槽上浮抛，在其中本身进行成型，并以无尽的玻璃带拉出。在这方面使用的浮抛槽通常具有钢槽，钢槽铺有耐火的槽底砖。在耐火槽底砖上是层厚约40 80mm的液态锡。耐火槽底砖的尺寸例如约300×600×1000mm。因为耐火槽底砖的比重小于液态锡的比重，所以，必须用螺栓将其连接在钢槽底部。用于钙氧化钠玻璃的通常浮法玻璃的长度约为50 60m，宽度为5 6m。钢槽必须经常是冷却的。槽底砖的下面必须保持在锡的熔化温度(231.9℃)之下，由此液态锡不会冲蚀底砖并与钢槽接触。槽底砖在800℃至1050℃的温度下，通过吸收Na2O和霞石(碱爆裂)的形成而受到很强的侵蚀。通过碱爆裂造成剥落和剥落的砖体浮起。浮抛的玻璃不能使用。极端情况下不得不中断生产过程并更换浮抛槽底砖。Na2O来源于熔融玻璃，经过扩散过程通过液态锡而进入耐火槽底砖。液态锡在约1000℃时溶解约3.5ppm的钠和约1.7ppm的氧。所有含SiO2-的耐火材料，通过在这些材料中含有的硅酸盐玻璃相或熔融相中的扩散，多少都会吸收Na2O。可以实现轻易改进的是通过槽底砖，它虽然还像以前那样吸收Na2O，但是通过由不渗透的耐火粘土颗粒和“富碱性基质”构成的特殊结构，能够在相当大的程度上补偿因霞石形成引起的体积膨胀。此外，提出使用铝酸钙砖代替碱敏感的耐火粘土砖。然而它们在工业中不可行。铝酸钙结合的浮抛槽底砖描述于国际玻璃(1194，21-26页；锡槽底砖)中。下列专利中介绍了槽底砖在浮抛槽底中的使用OS DE 1807732 熔融容器OS DE 1807731用于制造浇注平板玻璃的槽JP 740 10 132使用熔融金属槽的连续平板玻璃生产......US 5.007.950 浮法玻璃槽的底部结构FR 2673175 耐火材料砖......所有公知的陶瓷槽底砖通过在玻璃相上的扩散多少都会吸收Na2O。在含碱玻璃浮抛时“碱爆裂”而因“浮起的小颗粒”对玻璃质量的负影响，在浮抛玻璃下面的刮痕，并中断生产，使更换槽底砖不能避免。本专利技术的目的在于，提供一种上述类型的浮抛槽，其中，使槽底砖达到有显著改进的损坏状况。这一目的由此得以实现，即至少在其靠近熔体区部分槽底砖的面上，至少在部分区域上用非贵金属覆盖。与例如贵重耐火金属(铂，铂合金)不同，非贵金属具有有利的特性，它与锡没有或者只有很小的相互作用，有时还接受溶解在锡中的杂质。因此，非贵金属本身也不会向锡槽中释放杂质。此外，槽底砖这种覆盖，使锡减少侵蚀或者不再出现侵蚀。如果槽底砖上出现可能的剥落，非贵金属层阻止其排放到液态锡中。优选是将钨或者钨合金作为非贵金属使用。这种金属在热和机械上足够稳定，以至于可以在浮法工艺过程中使用。此外，它对温度变化不敏感，并在锡槽的还原环境中(锡中pO210-15-10-30巴)可不使用另外的。依据本专利技术一优选的实施方案变体，钨具有≤20ppm的最大O2-含量。特别适用的是，在这方面也有一种材料，其特征是钨由通过氧化钨还原而制造的烧结材料所构成。为覆盖槽底砖，非贵金属可以在支承层的中间层下面覆盖槽底砖。浮抛槽的一种可能的实施方案变体的特征在于，在槽底砖上置放一个或多个薄板，它至少是在其朝向熔体区一面具有带非贵金属的涂层，或者这些薄板是由非贵金属构成。这些薄板操作和安装简单。它们可以大面积覆盖槽底砖。此外，它们还可根据材料性质而改变，以便也能覆盖连接在槽底砖上的熔体区的侧壁区域。优选的方式是，这些薄板具有0.5mm和3mm之间范围内的厚度。规格应在1.5m2和2.5m2之间的范围内。锡对槽底砖的侵蚀主要是在800℃和1050℃之间的临界温度中出现。因此，本专利技术特别提出，至少在熔体区中承受800℃和1050℃之间范围内温度的熔体区中的槽底砖用非贵金属覆盖。为了保护槽底砖之间有危险的冲击区，在毗连置放的槽底砖之间构成的接缝处由非贵金属层覆盖。下面借助附图中示出的实施例对本专利技术作详细说明。其中附图说明图1示出浮抛槽的原理图和顶视图，图2示出图1的纵剖面图和图3示出图2一区域的放大详图。图1示出平板玻璃生产设备的浮抛槽，它以通常方式用于生产钙氧化钠玻璃。浮抛槽具有钢板制成的槽底外壳10。它在熔体入口15和熔体出口16之间构成一熔体区。此外，大量槽底砖11安置在槽底外壳10内。在这方面，槽底砖11是以接合缝11.1毗连紧密放置，如从图3可看到。如从图3还可看到，在槽底砖11的上面置放板12。该板由钨材料制成。这里，板12优选为2平方米大小的正方形。在熔体边缘的区域内，根据需要调整板的尺寸。它这样置放在槽底砖11上，使它覆盖槽底砖11之间的接合缝11.1。与此相应，板12的接口12.1设置在朝向熔体区的槽底砖11的转向上面的熔体区内。如从图1可以看出，板12仅设置在部分熔体区内。其中，锡13的温度处于800℃和1050℃(临界温度范围)之间。其他熔体区不必用板12覆盖，因为这里槽底砖11不磨损或仅出现有限的磨损。在图中示出的浮抛槽的情况下，临界温度范围设置在所谓的第二个和第九个槽跨之间。它延伸的长度为“L”。钨板12防止说明书前言中所描述的“碱爆裂”。因此，防止砖成分从槽底砖11中剥落并通过锡13到达玻璃带14并防止在这里可能造成的损坏。权利要求1.一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，外壳内承接多个毗连置放的槽底砖，其中，在槽底砖的上部构成熔体区，其特征在于，至少部分槽底砖(11)在其朝向熔体区的面上，至少在区域内用非贵金属覆盖。2.按权利要求1所述的浮抛槽，其特征在于，非贵金属由钨或者钨合金构成。3.按权利要求2所述的浮抛槽，其特征在于，钨具有≤20ppm的最大O2-含量。4.按权利要求2或3之一所述的浮抛槽，其特征在于，钨由通过氧化钨还原制造的烧结材料所构成。5.按权利要求1至4之一所述的浮抛槽，其特征在于，非贵金属在支承层的中间层下面覆盖槽底砖(11)。6.按权利要求1至5之一所述的浮抛槽，其特征在于，在槽底砖(11)上置放一个或多个板，板至少在其朝向熔体区的面上具有非贵金属的涂层，或者这些板由非贵金属组成。7.按权利要求6所述的浮抛槽，其特征在于，这些板的板厚度在0.5mm与3mm之间。8.按权利要求5或6所述的浮抛槽，其特征在于，这些板的表面范围在1.5m2和2.5m2之间。9.按权利要求1至8之一所述的浮抛槽，其特征在于，至少在熔体区中承受800℃和1050℃之间范围内温度的槽底砖(11)用非贵金属覆盖。10.按权利要求1至9中之一所述的浮抛槽，其特征在于，在毗连置放的槽底砖(11)之间构成的接合缝(11.1)由非贵金属层覆盖。全文摘要本专利技术涉及一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，外壳内承接多个毗连置放的槽底砖，其中，在槽底砖的上部形成熔体区。为了能够使槽底砖形成明显改进的封闭效果，依据本专利技术，至少部分槽底砖在其朝向熔体区的面上，用非贵金属覆盖。文档编号C03B18/16GK1446763SQ0312503公开日2003年10月8日 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于浮法玻璃生产设备的浮抛槽，带有槽底外壳，外壳内承接多个毗连置放的槽底砖，其中，在槽底砖的上部构成熔体区，其特征在于，至少部分槽底砖（１１）在其朝向熔体区的面上，至少在区域内用非贵金属覆盖。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：格哈德劳滕施拉格，克劳斯施耐德，安德烈亚斯莫斯坦，斯蒂芬梅尔曼，
申请(专利权)人：舱壁玻璃公司，
类型：发明
国别省市：DE[德国]