本实用新型专利技术提供一种玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构，其为“田”字型和/或“井”字型和/或“米”字型结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构，及至少一个设于吸附凹槽结构的交点处并与之贯通的吸附气孔，其中，该吸附凹槽结构的深度为3.0-10.1mm，该吸附凹槽结构的宽度为3.0-10.0mm，吸附气孔的孔径为3.0-10.0mm。本实用新型专利技术提供了一种用于高效率输送转移玻璃盖板的传送吸附盘的吸附板中的吸附凹槽结构，该吸附凹槽结构与吸附气孔之间形成贯通的气路，在各个吸附板上置放玻璃盖板后，本实用新型专利技术可以增大吸附板与置放在吸附板之上的玻璃盖板之间的吸附面积，从而大大提高传送吸附盘对玻璃盖板的真空吸附力。
【技术实现步骤摘要】
【专利说明】
本技术涉及一种凹槽结构，尤其涉及一种玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构。【
技术介绍
】现有的玻璃盖板的制备过程一般包括开料、CNC工艺、抛光、钢化、超声波清洗、真空镀膜以及丝印等一系列特殊加工工艺，玻璃盖板具有美化装置和保护的作用，目前，玻璃盖板产品广泛用于手机镜片(LENS)、平板电脑、数码相框、汽车导航仪(GPS)、MP4镜片等触摸屏产品中。在玻璃盖板的制备过程中，需要在上述多种工序中输送或转移，由于玻璃盖板较轻薄且容易粘附杂物，对输送和转移过程的要求较高。其中，使用现有的吸附盘来吸附玻璃盖板这一方法普遍存在真空吸附力不足、运作成本高、难于操作的问题，因此，在玻璃盖板抛光装置中采用真空吸附玻璃盖板的方式对玻璃盖板进行吸附和传送还存在很大的技术难题。【
技术实现思路
】为克服现有接线方式存在的真空吸附力不足、操作繁琐费时缺点，本技术提供一种操作简便，吸附力强的玻璃盖板的吸附凹槽结构。本技术提供一种吸附凹槽结构，其用于增大传送吸附盘的吸附板对玻璃盖板的吸附面积，增强其吸附力。该吸附凹槽结构为“田”字型和/或“井”字型和/或“米字型”结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构；该吸附凹槽结构还包括一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的吸附气孔。优选地，该吸附气孔与该凹槽之间形成贯通的气路。优选地，吸附凹槽结构内设置的凹槽结构的深度为3.0-10.1mm，其深度还可为5.0-10.0_，其深度进一步可为6.5-8.5_。优选地，吸附凹槽结构呢设置的凹槽结构的宽度为3.0-10.0mm,其宽度还可为5.5-8.5mm，其宽度进一步可为6.5-7.0mm。优选地，吸附气孔的孔径为3.0-10.0mm,其孔径还可为6.0-9.0mm,其孔径进一步可为 6.5-8.0mm。优选地，吸附气孔的深度以贯穿传送吸附盘为准。优选地，所述的吸附方式为真空吸附方式。优选地，该吸附凹槽结构的范围应小于待输送转移的玻璃盖板的面积。与现有技术相比，首先，本技术中可通过吸附凹槽结构及其吸附气孔与其它外设的吸附装置之间形成贯通的气路，使传送吸附盘的吸附板与置放在其上的玻璃盖板间形成真空负压或真空正压状态，从而实现玻璃盖板与传送吸附盘的吸附板之间的真空吸附固定。其次，本技术中吸附凹槽结构为“田”字型和/或“井”字型和/或“米”字型结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构，及，一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的吸附气孔。本技术中的吸附凹槽结构可以增大传送吸附盘的吸附板与置放在传送吸附盘的吸附板之上的玻璃盖板之间的吸附面积，从而大大提高其吸附力。再次，本技术中吸附凹槽结构中包括一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的传送吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的传送吸附气孔，均匀分散排列于吸附板的吸附凹槽结构中，可以使通过传送吸附气孔的气体在真空吸附过程中的流出或流入更加均匀、平稳，且可以将吸附力平均分散至吸附凹槽结构所到之处，避免由于吸附板局部吸附力过弱，而出现玻璃盖板在吸附板上被吸附、转移、加工处理的过程中掉落，造成玻璃盖板的损坏。因此，本技术中的吸附凹槽结构大大提高了玻璃盖板置放的效率，可用于玻璃盖板的抛光工序中，具有市场应用前景。【【附图说明】】图1是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的结构示意图。图2是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的俯视图。图3是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的仰视图。图4是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的结构示意图。图5是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的传送吸附盘的吸附板的结构示意图。图6是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的第一传送真空装置中的传送吸附盘的俯视图。图7是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的物料托盘的结构示意图。图8是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构第一实施例的物料托盘的俯视图。图9是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构的第一变形实施例的俯视图。图10是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构的第二变形实施例的俯视图。图11是本技术玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构的第三变形实施例的俯视图。【【具体实施方式】】为了使本技术的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。请参阅图1，在本实施例中，一种玻璃盖板的抛光装置10包括一机座11、一抛光机构12、一物料机构13与一传送机构14，其中，抛光机构12、物料机构13与传送机构14均设于机座11上，抛光机构12与物料机构13相对独立设置，传送机构14设于机座11的物理位置的中心。传送机构14包括第一传送真空吸附装置141、第二传送真空吸附装置142、第三传送真空吸附装置143、第四传送真空吸附装置144、转动装置145与传送机构驱动件(图中未示)。抛光机构12包括分别固定于机座11上的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123，抛光机构12还包括抛光驱动件(图中未不)，其中，抛光驱动件与第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123连接，抛光驱动件控制并带动第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123在原位水平转动，通过对抛光驱动件的参数进行调整，还可以调整第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123的转动速率和持续转动的时间。该抛光机构12中的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122与第三抛光转轮123为羊毛轮。物料机构13包括固定于机座11上的物料置放槽131及放置在物料置放槽131内的物料托盘132，其中，物料置放槽131由两个贯通的上圆柱槽(图中未示)与下圆柱槽(图中未示)组成，其中上圆柱槽的直径大于下圆柱槽的直径，下圆柱槽内可配合置放物料托盘132 ;物料置放槽131内还可包括用于固定物料托盘132的托盘置放固定块(图中未示)，托盘置放固定块可使物料托盘132在后续的操作过程中不会发生位移，提高抛光操作的精准度。抛光机构12中的第一抛光转轮121、第二抛光转轮122、第三抛光转轮123与物料机构13中的物料置放槽131分别相对于转动装置145的X轴当前第1页1 2 3 4 本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种玻璃盖板抛光装置的吸附凹槽结构，其特征在于：该吸附凹槽结构为“田”字型和/或“井”字型和/或“米字型”结构中的一种或几种结合的吸附凹槽结构；该吸附凹槽结构还包括一个设于吸附凹槽结构的中心横纵交点处并与之贯通的吸附气孔，或，两个及以上设于吸附凹槽结构内及相对于吸附凹槽结构的中心轴对称分布并与之贯通的吸附气孔；其中，该吸附气孔与该吸附凹槽结构之间形成贯通的气路。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄红伍，刘江，黄维，
申请(专利权)人：凯茂科技深圳有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44
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