【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种高气体阻隔性手机制程保护膜。
技术介绍
手机生产行业中制程保护膜的使用较为广泛,例如背光组件中的导光板、偏光膜及扩散膜在组装过程中都需要采用制程保护膜进行保护。原先的制程保护膜通常以聚乙烯层作为基材层,其上设置胶粘剂层,基材层仅仅起到遮挡的作用,无法有效的防止生产过程中的酸液侵蚀(尤其是对边缘腐蚀的电容屏实施保护处理时)。为此,目前的一类制程保护膜都在基材层上涂覆耐酸胶粘剂层,通过耐酸胶粘剂层与目标物表面接触能够防止基材层轻易剥落。然而在实际的生产过程中,我们发现已知的上述制程保护膜还缺乏优良的气体阻隔性能,因为在具体的手机组装及部件修复处理过程中,电器部件在一定的温度条件下其内部腐蚀性材料会以气体的形式蒸发覆盖至保护膜表面,对其进行侵蚀,从基材层外表面及四周腐蚀产品,最终导致产品报废。
技术实现思路
本技术目的是:提供一种高气体阻隔性手机制程保护膜,该制程保护膜能够有效防止气化的酸性腐蚀物质侵蚀基材层的背面,对产品提供更好的阻隔保护作用。本技术的技术方案是:一种高气体阻隔性手机制程保护膜,包括基材层、设置于基材层下表面上的第一耐酸胶粘剂层以及设置于第一耐酸胶粘剂层下表面上的离型膜层;其特征在于所述基材层的上表面上设有第二耐酸胶粘剂层,而第二耐酸胶粘剂层的上表面设有气体阻隔层,所述气体阻隔层为聚偏二氯乙烯层。进一步的,本技术中所述基材层和气体阻隔层的厚度比为4:5~1:1。进一步的,本技术中所述第二耐酸胶粘剂层与第一耐酸胶粘剂层的厚度比为3:5~1:1。优选的,本技术中所述气体阻隔层的厚度为60~100μm。优选的,本技术中所述第二耐酸胶粘剂层 ...
【技术保护点】
一种高气体阻隔性手机制程保护膜,包括基材层(1)、设置于基材层(1)下表面上的第一耐酸胶粘剂层(2)以及设置于第一耐酸胶粘剂层(2)下表面上的离型膜层(3);其特征在于所述基材层(1)的上表面上设有第二耐酸胶粘剂层(4),而第二耐酸胶粘剂层(4)的上表面设有气体阻隔层(5),所述气体阻隔层(5)为聚偏二氯乙烯层。
【技术特征摘要】
1.一种高气体阻隔性手机制程保护膜,包括基材层(1)、设置于基材层(1)下表面上的第一耐酸胶粘剂层(2)以及设置于第一耐酸胶粘剂层(2)下表面上的离型膜层(3);其特征在于所述基材层(1)的上表面上设有第二耐酸胶粘剂层(4),而第二耐酸胶粘剂层(4)的上表面设有气体阻隔层(5),所述气体阻隔层(5)为聚偏二氯乙烯层。2.根据权利要求1所述的高气体阻隔性手机制程保护膜,其特征在于所述基材层(1)和气体阻隔层(5)的厚度比为4:5~1:1。3.根据权利要求1所述的高...
【专利技术属性】
技术研发人员:张福州,芦俊,
申请(专利权)人:苏州锦安新材料科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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