一种用于LDS镭雕天线外观喷涂的方法技术

本发明专利技术公开了一种用于LDS镭雕天线外观喷涂的方法。其中，所述方法包括：将LDS镭雕天线置于设备外观区域；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域依次进行喷涂及打磨；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行上色。通过上述方法，可以完全覆盖LDS镭雕天线的颜色，并使镭雕区域与外观面保持平行，解决LDS镭雕天线置于产品外观区域时容易产生外观喷涂不良的问题，且将LDS镭雕天线置于产品外观区域避免内部元器件的干扰，增加天线的稳定性，同时提升了电子产品的空间利用率。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及移动通讯领域，特别是涉及用于LDS(Laser-Direct-structuring)镭雕天线外观喷涂的方法。
技术介绍
随着电子产品的广泛应用，除了功能及性能的要求外，外观要求也越来越高，为了将电子产品厚度或尺寸做到最小，在不影响功能和外观的前提下，引入了LDS镭雕天线工艺。LDS镭雕天线工艺就是激光直接成型技术，可以直接将天线做在手机外壳上。目前LDS镭雕天线工艺可以实现手机天线及手机支付这一部分的功能。然而，现有技术采用LDS镭雕天线工艺形成的天线(下称LDS镭雕天线)通常都设置在产品内壁或非外观的地方，若将LDS镭雕天线设置在外观区域，容易产生外观喷涂不良等问题，例如：出现无法完全覆盖LDS镭雕天线的颜色或者LDS镭雕天线区域有明显的凸起进而影响外观。
技术实现思路
本专利技术主要解决的技术问题是提供一种用于LDS镭雕天线外观喷涂的方法，能够解决LDS镭雕天线工艺所形成的天线颜色或凸起问题。为解决上述技术问题，本专利技术采用的一个技术方案是：提供一种用于LDS镭雕天线外观喷涂的方法，所述方法包括：将LDS镭雕天线置于设备外观区域；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域依次进行喷涂及打磨；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行上色。其中，所述对所述LDS镭雕天线依次进行喷涂及打磨包括：对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行第一次喷涂，形成Plasma区域；在所述LDS镭雕天线所在化镀区域上第二次喷涂，形成底漆；用打磨砂纸打磨所述LDS镭雕天线所在化镀区域。其中，所述对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行上色包括：在所述LDS镭雕天线所在化镀区域上第一次喷涂色漆；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行第二次喷涂；在所述LDS镭雕天线所在化镀区域上喷涂UV面漆。其中，所述对所述LDS镭雕天线依次进行喷涂及打磨，进一步包括：在第一次喷涂色漆及第二次喷涂色漆之间用打磨砂纸打磨所述LDS镭雕天线所在化镀区域。其中，所述打磨砂纸的型号为1500#到3000#之间。其中，所述第一次喷涂形成的Plasma区域厚度为10～15um。其中，所述第二次喷涂形成的底漆厚度为40～60um。其中，所述第一次喷涂色漆形成的色漆厚度为15～20um。其中，所述第二次喷涂色漆形成的色漆厚度为15～20um。其中，所述UV面漆的厚度为15～20um。本专利技术的有益效果是：通过将LDS镭雕天线置于设备外观区域，并对LDS镭雕天线所在化镀区域依次进行喷涂、打磨以及上色，可以完全覆盖LDS镭雕天线的颜色，并使镭雕区域与外观面平行，可以解决LDS镭雕天线置于产品外观区域时容易产生外观喷涂不良的问题；另外由于将LDS镭雕天线置于产品外观区域，能够避免内部元器件的干扰，增加天线的稳定性，同时提升了电子产品的空间利用率。附图说明图1是本专利技术用于外观喷涂方法第一实施例的流程图；图2是本专利技术用于外观喷涂方法第二实施例的流程图；图3是本专利技术用于外观喷涂方法第三实施例的流程图；图4是本专利技术用于外观喷涂方法的一具体实施例的流程图。具体实施方式下面结合附图和实施方式对本专利技术进行详细说明。请参阅图1，图1是本专利技术用于LDS镭雕天线外观喷涂方法一实施例的流程图。需注意的是，若有实质上相同的结果，本专利技术的方法并不以图1所示的流程顺序为限。如图1所示，图1是本专利技术用于外观喷涂方法第一实施例的流程图。该方法包括如下步骤：S1：将LDS镭雕天线置于设备外观区域。S2：对LDS镭雕天线所在化镀区域依次进行喷涂及打磨。S3：对LDS镭雕天线所在化镀区域进行上色。其中，上述设备可以是手机、手提电脑、平板电脑等电子设备。通过LDS镭雕天线工艺直接在设备外壳上化镀形成金属天线，进而将LDS镭雕天线置于设备外观区域。其次，通过对LDS镭雕天线进行多次喷涂、打磨，使得LDS镭雕天线所在化镀区域平整，不会因为天线的原因而使得设备表面粗糙；最后，再进行上色，避免颜色不均匀的情况发生，使设备外观平滑、颜色均匀。参考图2，图2是本专利技术用于外观喷涂方法第二实施例的流程图。上述步骤S2进一步包括：S21：对LDS镭雕天线所在化镀区域进行第一次喷涂，形成Plasma区域。在塑胶零件上的LDS镭雕天线所在化镀区域，使用Plasma进行第一次喷涂，形成Plasma区域。Plasma可以译成等离子体，是运用等离子工艺实现物体表面活化、去除污染物等功效，此处可用于增强塑胶和LDS镭雕天线所在化镀区域与喷涂油漆之间的结合力。S22：对LDS镭雕天线所在化镀区域进行第二次喷涂，形成底漆。在步骤S21形成的Plasma区域喷涂底漆，将LDS镭雕天线所在化镀区域覆盖，方便下一步打磨。其中，喷涂底漆的厚度是关键，应该满足40～60um之间。此处所述的底漆可以是任意原料或者按比例调配的原材料。S23：用打磨砂纸打磨LDS镭雕天线所在化镀区域。完成步骤S21、S22后，需要使用打磨砂纸对LDS镭雕天线所在化镀区域进行打磨，使得外观面平整。此处应选用型号在1500#～3000#之间的打磨砂纸。参考图3，图3是本专利技术用于外观喷涂方法第三实施例的流程图。上述步骤S3进一步包括：S31：在LDS镭雕天线所在化镀区域上第一次喷涂色漆。完成对LDS镭雕天线所在化镀区域依次进行喷涂及打磨步骤后，需要对打磨区域进一步进行喷涂色漆。此处喷涂色漆的目的是为了遮盖LDS镭雕天线所在化镀区域。其中，可以根据素材本色选择所需要喷涂的色漆颜色，也可以按照一定比例调配对应的色漆对LDS镭雕天线所在化镀区域进行喷涂。S32：在LDS镭雕天线所在化镀区域上第二次喷涂色漆。完成上述第一次喷涂色漆后，需要对LDS镭雕天线所在化镀区域进行第二次喷涂色漆。此处喷涂色漆的目的是为了进一步遮盖LDS镭雕天线所在化镀区域，对第一次喷涂的色漆进行巩固。其中，可以根据素材本色选择所需要喷涂的色漆颜色，也可以按照一定比例调配对应的色漆对LDS镭雕天线所在化镀区域进行喷涂。例如，素材本色为灰白色时，可以喷涂白色或金色；当素材本色为黑色时，可以喷涂红色或者蓝色。S33：在LDS镭雕天线所在化镀区域上喷涂UV面漆。完成所有底漆、色漆的喷涂及打磨后，最后需要在LDS镭雕天线所在化镀区域上喷涂UV面漆，此处喷涂目的是将UV面漆作为保护层，增强上述底漆、色漆喷涂的可靠性。通过上述所有步骤，可以将LDS镭雕天线设置于电子产品的外观区域，在增加天线稳定性的同时解决了外观区域容易产生喷涂不良的问题。结合图4和表1所示，以下是实现LDS镭雕天线外观喷涂方法的一具体实施例，图4是本专利技术用于外观喷涂方法的一具体实施例的流程图，表1是喷涂厚度分析表。S401：将LDS镭雕天线置于塑胶零件外观区域。首先，通过LDS天线技术将天线置于设备外观区域，避免内部元器件的干扰的同时，提升电子产品的空间利用率。S402：对LDS镭雕化镀进行第一次喷涂形成Plasma区域。利用Plasma等离子技术对LDS镭雕天线所在化镀区域进行第一次喷涂，喷涂厚度满足在10～15um。S403：对LDS镭雕化镀进行第二次喷涂形成底漆。在上述基础上，对LDS镭雕天线所在化镀区域进行第二次喷涂，喷涂厚度满足在40～60um。S404：对LDS镭雕化镀进行第一次打磨。完成第二次喷涂后，对LDS镭雕天线所在化镀区域进行第一次打磨。上本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于LDS镭雕天线外观喷涂的方法，其特征在于，包括：将LDS镭雕天线置于设备外观区域；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域依次进行喷涂及打磨；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行上色。

【技术特征摘要】
1.一种用于LDS镭雕天线外观喷涂的方法，其特征在于，包括：将LDS镭雕天线置于设备外观区域；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域依次进行喷涂及打磨；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行上色。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述对所述LDS镭雕天线依次进行喷涂及打磨包括：对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行第一次喷涂，形成Plasma区域；对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行第二次喷涂，形成底漆；用打磨砂纸打磨所述LDS镭雕天线所在化镀区域。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述对所述LDS镭雕天线所在化镀区域进行上色包括：在所述LDS镭雕天线所在化镀区域上第一次喷涂色漆；在所述LDS镭雕天线所在化镀区域上第二次喷涂色漆；在所述LDS镭雕天线所在化镀区域上喷涂UV面漆...

【专利技术属性】
技术研发人员：占旺发，曹旭林，
申请(专利权)人：捷开通讯深圳有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44