结晶器制造技术

本实用新型专利技术涉及结晶器，包括结晶器容器，所述结晶器容器设置有进料口和出料口，结晶器容器内部空腔为结晶器腔，所述结晶器容器的容器壁设置有渗透空腔，所述渗透空腔连通有循环进液管和循环出液管，所述结晶器腔与渗透空腔之间的壁为透液壁，所述透液壁设置有多个透液孔，所述透液孔设置有半透膜。在制品溶液进行结晶生产时，可以向渗透空腔有针对性的通入辅助物料，辅助物料中的物质穿过半透膜进入结晶器容器中，在容器内壁形成离子富集区，阻止结晶物质靠近，从而避免或减少晶垢产生。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及工业生产的结晶器。
技术介绍
结晶是溶质从溶液中析出的过程，可分为前期的晶核生成和后期的晶体生长两个阶段，两个阶段的推动力都是溶液的过饱和度。晶核的生成有三种形式：即初级均相成核、初级非均相成核及二次成核。工业结晶基本都采用二次成核过程，即是向过饱和溶液中，添加溶质晶体，形成结晶的晶核。例如DTB结晶器，是在已经装有过饱和制品溶液的结晶器容器中添加含溶质晶体的母液，通过搅拌促使溶液流动，溶液在流动过程中，原来的晶体发生碰撞或摩擦，形成大量细小晶核，随后依附于晶核，晶体开始生长，形成大量晶体的悬浊液，即是晶浆，将晶浆中的固体成本分离出来，得到需要的产品。然而，在上述的制品溶液流动过程中，溶液与结晶器的容器内壁也会发生碰撞，部分晶核会在结晶器内壁表面形成并生长，最终在结晶器内壁形成晶垢，随着生产进行，部分晶垢形成团块脱落，常常导致结晶器出口堵塞的问题。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是：提供一种结晶器，进行结晶过程时，能够避免或减少在结晶器容器内壁形成晶垢。本技术解决其技术问题所采用的技术方案是：结晶器，包括结晶器容器，所述结晶器容器设置有进料口和出料口，结晶器容器内部空腔为本文档来自技高网...

【技术保护点】
结晶器，包括结晶器容器(1)，所述结晶器容器(1)设置有进料口和出料口，结晶器容器(1)内部空腔为结晶器腔(12)，其特征在于，所述结晶器容器(1)的容器壁设置有渗透空腔(11)，所述渗透空腔(11)连通有循环进液管(2)和循环出液管(3)，所述结晶器腔(12)与渗透空腔(11)之间的壁为透液壁(111)，所述透液壁(111)设置有多个透液孔(112)，所述透液孔(112)设置有半透膜(41)。

【技术特征摘要】
1.结晶器，包括结晶器容器(1)，所述结晶器容器(1)设置有进料口和出料口，结晶器容器(1)内部空腔为结晶器腔(12)，其特征在于，所述结晶器容器(1)的容器壁设置有渗透空腔(11)，所述渗透空腔(11)连通有循环进液管(2)和循环出液管(3)，所述结晶器腔(12)与渗透空腔(11)之间的壁为透液壁(111)，所述透液壁(111)设置有多个透液孔(112)，所述透液孔(112)设置有半透膜(41)。2.如权利要求1所述的结晶器，其特征在于，所述半透膜(41)为超滤膜、微滤膜、纳滤膜、透析膜或蒸馏膜。3.如权利要求1所述的结晶器，其特征在于，还包括加热部件(42)，所述加热部件(42)设置在所述半透膜(41)处。4.如权利要求3所述的结晶器，其特征在于，所述半透膜(41)覆盖在透液壁(111)表面；所述加热部件(42)为电加热膜，设置在所述半透膜(41)表面。5.如权利要求1～4中任意一项权利要求所述的结晶器，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔行健，张志业，王辛龙，杨林，杨秀山，陈晓东，
申请(专利权)人：四川大学，
类型：新型
国别省市：四川;51