氢氧化锆制造技术

技术编号:1430233 阅读:231 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及一种改善的无定形氢氧化锆及其方法。该氢氧化物具有至少300m↑[2]/g的表面积,总孔隙体积至少为0.70cm↑[3]/g,平均孔径大小在5nm和15nm之间,其制备方法包括以下步骤:(a)制备一种含硫酸根阴离子和锆盐的水溶液,使得ZrO↓[2]与SO↓[3]的比率为1∶0.40-1∶0.52;(b)将该溶液冷却到25℃以下;(c)加入碱以使无定形氢氧化锆沉淀;(d)过滤被沉淀的氢氧化锆并用水或碱洗涤,以除去残余的硫酸盐和氯化物;(e)在压力小于3bar下水热处理该氢氧化锆,和(f)干燥该氢氧化锆。本发明专利技术的氢氧化锆(可被掺杂)在催化应用中特别有用。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种改善的无定形氢氧化锆以及其生产方法。该氢氧化锆可以被掺杂或不掺杂。本专利申请中使用的术语“氢氧化锆”指的是本领域中已知的该化合物(例如,含水氧化锆和水合氧化锆)的各种术语。本专利技术的氢氧化锆在催化应用中特别。
技术介绍
国际专利申请第PCT/GB2004/001840和国际公开号WO2004/096713 A1的国际专利申请披露了一种用于氧化锆和以锆为基本成分的混合氧化物的生产方法。该方法包括,在不超过50℃的温度下,通过在控制量的硫酸根阴离子存在下与一种碱反应,将氢氧化锆从锆盐的水溶液中沉淀出来。然后煅烧该氢氧化物,从而形成一种基本上不含硫酸盐的氧化锆。日本专利申请公开第11-292538和2000-247641描述了通过向硫酸盐的浆液中加入碱,由碱式硫酸锆制备氢氧化锆。然而,这些专利中所陈述的方法并没有使氢氧化锆具有本专利技术的改善了的孔隙体积、孔径大小和表面积性能。意外地发现,通过调整用来形成上述国际专利申请中的氢氧化锆前本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种无定形氢氧化锆,具有至少300m↑[2]/g的表面积、至少0.70cm↑[3]/g的总孔隙体积以及在5nm和15nm之间的平均孔径。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】GB 2006-2-3 0602217.21.一种无定形氢氧化锆,具有至少300m2/g的表面积、至少
0.70cm3/g的总孔隙体积以及在5nm和15nm之间的平均孔径。
2.根据权利要求1所述的无定形氢氧化锆,当在450℃下煅烧2
小时时,其具有至少80m2/g的表面积、至少0.35cm3/g的总孔
隙体积和在10nm和30nm之间的平均孔径。
3.根据权利要求1所述的无定形氢氧化锆,当在650℃下煅烧2
小时时,其具有至少30m2/g的表面积、至少0.20cm3/g的总孔
隙体积和在20nm和40nm之间的平均孔径。
4.根据权利要求1所述的无定形氢氧化锆,当在700℃下煅烧2
小时时,其具有至少20m2/g的表面积、至少0.15cm3/g的总孔
隙体积和在25nm和60nm之间的平均孔径。
5.根据前述任一权利要求所述的无定形氢氧化锆,其掺有碱土金
属氧化物、稀土氧化物、第一行过渡金属氧化物、氧化硅、氧
化铝、氧化锡或氧化铅、或它们的混合物。
6.根据权利要求5所述的无定形氢氧化锆,其所掺氧化硅的量按
重量计为0.1%-10%。
7.通过煅烧前述任一项权利要求所述的无定形氢氧化锆而形成
的氧化锆。
8.一种制备无定形氢氧化锆的方法,包括以下步骤:
(a)制备一种含硫酸根阴离子和锆盐的水溶液,使得ZrO2与SO3的比率为1:0.40-1:0.52;
(b)将所述溶液冷却到25℃以下;
(c)加入碱,以沉淀出所述无定形氢氧化锆;
(d)过滤被沉淀的氢氧化锆并用水或碱洗涤,以除去残余的
硫酸盐和氯化物;
(e)在小于3bar的压力下水热处理所述氢氧化锆,以及
(f)干燥所述氢氧化锆。
9.根据权利要求8所述的方法,其中,以硫酸的形式加入所述硫
酸根阴离子。
10.根据权利要求8或9所述的方法,其中,ZrO2与SO3的比率
为1:0.45。
11.根据权利要求8至10任一项所述的方法,其中,所述锆盐是
氯氧化锆。
12.根...

【专利技术属性】
技术研发人员:希瑟布拉德肖克莱夫巴特勒黑兹尔斯蒂芬森
申请(专利权)人:镁电子有限公司
类型:发明
国别省市:GB[英国]

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