【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于微纳米制造领域,具体涉及一种基于ZnO纳米管模板制备Ag纳米线的方法。
技术介绍
金属纳米阵列结构由于突出的电子、光学和催化性能而被广泛应用于生物传感器、气体传感器、敏化太阳能电池、光降解器和发光二极管等微纳米器件中。Ag纳米线具有比表面积大、电子传输能力强,催化效率高,化学性质稳定,等电点高等优点,因而受到了广泛地研究。Ag纳米线阵列结构的制备主要包括模板法、化学合成法、电化学沉积法等,其中,模板法简单易行,易于控制Ag纳米线的尺寸与形貌,目前使用较为广泛。常用的模板包括阳极氧化铝(AAO)模板、纳米通道玻璃和核径迹刻蚀的聚碳酸酯薄膜。AAO模板的孔径和深度易于调节,机械性能和热稳定性好,常用于制备金属纳米阵列结构。例如,Wang Lisha利用AAO模板电沉积Au纳米线阵列结构,并在其表面物理吸附葡萄糖氧化酶制备了葡萄糖传感器。Sun Xiuyu采用AAO模板电沉积长度可控、高密度的Ag纳米线阵列结构。但是,AAO模板的制备工艺较为繁琐,主要包括铝基板的高温退火、去脂、抛光、一次氧化、去除一次氧化膜、二次氧化、去除铝基板、去除阻挡层等工序。此外 ...
【技术保护点】
一种基于ZnO纳米管模板制备Ag纳米线的方法,包括作为基底的平面ITO导电玻璃,其特征在于,在ITO导电玻璃上化学刻蚀的ZnO纳米管模板,在ZnO纳米管模板中电沉积的Ag纳米线。
【技术特征摘要】
1.一种基于ZnO纳米管模板制备Ag纳米线的方法,包括作为基底的平面ITO导电玻璃,其特征在于,在ITO导电玻璃上化学刻蚀的ZnO纳米管模板,在ZnO纳米管模板中电沉积的Ag纳米线。2.根据权利要求1所述的一种基于ZnO纳米管模板制备Ag纳米线的方法,其特征在于,平面ITO导电玻璃的长、宽、厚分别为10mm、5mm、1.1mm,方块电阻小于7Ω/□,表面均方根粗糙度为2.2nm。3.根据权利要求1所述的一种基于ZnO纳米管模板制备Ag纳米线的方法,其特征在于,化学刻蚀的ZnO纳米管模板包括以下步骤:1)用丙酮、无水乙醇和去离子水依次超声清洗ITO导电玻璃,并在室温下干燥;2)将Zn(CH3COO)2·2H2O和NaOH溶于无水乙醇配制Zn2+浓度为0.5~1.5mmol/L的ZnO种子层溶液;3)将ITO导电玻璃浸入步骤2)配制的ZnO种子层溶液,而后退火处理,获得沉积有ZnO种子层的ITO导电玻璃;4)将Zn(NO3)2·6H2O和六次甲基四胺溶于去离子水中,搅拌并加热,得到Zn2+浓度为60~120mmol/L的ZnO生长液;5)将步骤3)沉积有ZnO种子层的ITO导电玻璃放入步骤4)配制的ZnO生长液生长2~6h...
【专利技术属性】
技术研发人员:景蔚萱,周帆,吴琼,崔奇兵,蒋庄德,高伟卓,徐志鹏,
申请(专利权)人:西安交通大学,
类型:发明
国别省市:陕西;61
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