【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种提高光学表面轮廓仪的检测精度和有效空间分辨率的方法,具体是指利用多次测量取平均减小白噪声,并可通过功率谱密度曲线分析得到提升后的最高有效空间分辨频率的方法,属于提升光学表面轮廓仪使用性能的范畴。
技术介绍
高分辨率成像系统已经被广泛应用于在天体物理,高能物理和医学等现代研究领域中。然而,系统分辨率往往被光学散射所限制,引起散射的主要原因是加工后的光学元件表面与理想表面的偏差。其中,空间频率大约在10-3μm-1至1μm-1尺度的中频偏差会显著降低峰值强度,增大光斑尺寸,从而使得图像变得模糊,大大降低了成像系统的分辨率。这使得光学元件表面的中频偏差在制备和检测中都得到了更多的关注。光学元件表面的中频误差信息可通过光学轮廓仪测量得到。光学轮廓仪应用光学干涉原理得到元件表面轮廓,具有非接触、快捷和直观等优点。然而在实际应用中,电噪声,振动,气流或是其他干扰因素会带来随机性的测量误差,大大降低了轮廓仪的测试精度和有效空间分辨率。通过在双对数坐标系下对测量得到的元件表面轮廓绘制功率谱密度曲线,可发现明显的水平直线型的拖尾现象,与理想分形表面理论不符;并且在不同测试倍数下的频率重叠区域,功率谱密度曲线也无法衔接。根据功率谱密度的相关理论,这种水平直线型的拖尾现象是由高频白噪声造成的。光学轮廓仪的固有分辨率与其探测器的横向分辨率和光学衍射极限分辨率有关。光学轮廓仪探测到的最大空间波长与物镜测试范围有关。探测器的横向分辨率为可分辨像素点的最小空间波长,取决于奈奎斯特频率fNy(Nyquist frequency),为系统采样频率的一半。光学衍射分辨率代 ...
【技术保护点】
一种提高光学表面轮廓仪检测精度和最高有效空间分辨频率的方法,所述检测装置为光学表面轮廓仪,通过相移干涉法得到平面光学元件表面轮廓,具体步骤如下:(1)检测之前需要检测参考面误差参考面误差是光学表面轮廓仪最主要的系统误差,具体操作是:对标准样品的随机区域进行多次测量,取平均,可得到该物镜下的参考面误差形貌,并在普通样品测试中去除该参考面误差形貌,选取随机区域为30个,残余参考面均方根误差可达到0.05nm;(2)使用多次测量取平均的方式对普通样品表面进行检测,在测量得到普通样品表面轮廓信息后,计算其功率谱密度函数,在对数坐标系下绘制功率谱密度曲线;以白噪声对功率谱密度曲线的贡献值为依据,选取合适的测量平均次数,直至白噪声在功率谱密度曲线中的拖尾较为平缓;(3)在对数坐标系下,对功率谱密度曲线进行可检测到的全频率域范围下的最小二乘法拟合,得到在双对数坐标系下的理想分形表面直线和白噪声直线,两条直线交点处的空间频率值即为可获得的普通样品的最大有效空间频率。
【技术特征摘要】
1.一种提高光学表面轮廓仪检测精度和最高有效空间分辨频率的方法,所述检测装置为光学表面轮廓仪,通过相移干涉法得到平面光学元件表面轮廓,具体步骤如下:(1)检测之前需要检测参考面误差参考面误差是光学表面轮廓仪最主要的系统误差,具体操作是:对标准样品的随机区域进行多次测量,取平均,可得到该物镜下的参考面误差形貌,并在普通样品测试中去除该参考面误差形貌,选取随机区域为30个,残余参考面均方根误差可达到0.05nm;(2)使用多次测量取平均的方式对普通样品表面进行检测,在测量得到普通样品表面轮廓信息后,计算其功率谱密度函数,在对数坐标系下绘制功率谱密度曲线;以白噪声对功率谱密度曲线的贡献值为依据,选取合适的测量平均次数,直至白噪声在功率谱密度曲线中的拖尾较为平缓;(3)在对数坐标系下,对功率谱密度曲线进行可检测到的全频率域范围下的最小二乘法拟合,得到在双对数坐标系下的理想分形表面直线和白噪声直线,两条直线交点处的空间频率值即为可获得的普通样品的最大有效空间频率。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中所述多次测量取平均的方式:对于同一个横向检测位置的点,以多次检测的纵向高度的平均值作为最终结果的高度;检测次数的增加会不断的提高检测精度和最高有效空间分辨频率,但提高效率会下降;检测次数的增多也会使得检测时间线性增长,为了兼顾效率和精度,通常建议使用10-30次多次检测,每次检测时常约为1秒,通过30次多次检测后重复性精度可达到0.05nm。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中所述在普通样品测试中去除该参考面误差形貌:对于同一个横向检测位置的点,以普通样品纵向高度值减去参考面误差高度值作为最终高度。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中所述白噪声,光学表面轮廓仪运用相移干涉原理,得到光学元件表面的轮廓信息,由于在测试过程中,由于图像传感器的电噪声,环境振动和气流扰动产生了随机噪声,而综合这些多种因素引起的、表现在所有频率具有相同能量密度的随机噪声称作白噪声。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(1)中所述普通样品,表面轮廓连续光滑,经过粗磨、精磨、精抛等一系列工艺加工后均方根粗糙度小于0.5nm的平面光学元件,其表面轮廓满足分形表面特征。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(2)中所述计算功率谱密度,功率谱密度函数的离散傅里叶变换函数表达式为 P S D ( f m ...
【专利技术属性】
技术研发人员:王占山,徐旭东,黄秋实,沈正祥,
申请(专利权)人:同济大学,
类型:发明
国别省市:上海;31
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